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patterned layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1139件
Using the patterned layer, a device such as a semiconductor device and an optical device is formed on the wafer.例文帳に追加
こうしたパターン付けされた層を使って、半導体デバイスや光デバイスなどのデバイスを基板の上に形成する。 - 特許庁
To form a resist layer which is patterned with higher precision by a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
プリント配線板の製造方法において、より高精度にパターン化されたレジスト層を形成することである。 - 特許庁
The patterned body is formed by transferring the uneven pattern of the imprint mold to the transferred layer on a substrate.例文帳に追加
パターン形成体は、前記インプリントモールドの凹凸パターンを基材上の被転写層に転写して形成される。 - 特許庁
To form an excellent magnetic layer atop the projecting part of a rugged substrate having the patterned ruggedness on its surface.例文帳に追加
パターン状の凹凸を表面に有する基板の凹凸の凸部上面に磁性層を良好に被膜する。 - 特許庁
The resin filling part 93 is patterned to form a conductor layer 50, after plating the entire surface of the resin filling part.例文帳に追加
樹脂充填部93上に、全面めっきを施した後にパターニングを行って導体層50を形成する。 - 特許庁
Then, optical inspection processing is carried out to check whether the patterned photoresist layer has defects.例文帳に追加
次に、パターン化されたフォトレジスト層が欠陥を有するか否かを検査するために光学検査処理が実行される。 - 特許庁
The mounted chip scale semiconductor device comprises a patterned metallic layer 202 and a substrate having primary and secondary surfaces.例文帳に追加
実装されたチップスケール半導体装置は、パターン化金属層202と第1、第2面を含む基板を有する。 - 特許庁
Consequently, the poly-Si layer 107 can be patterned without any photolithography process and the manufacturing cost is reducible.例文帳に追加
これによってフォトリソグラフィ工程無しに、poly−Si層107のパターニングが出来、製造コストを低減できる。 - 特許庁
Next, a patterned first metal layer is formed to form a plurality of scan lines and a plurality of gates.例文帳に追加
次に、パターン化された第1金属層が形成されて複数の走査線および複数のゲートが形成される。 - 特許庁
The projection system is configured to project the patterned beam of radiation onto a substrate coated with a layer of radiation sensitive material.例文帳に追加
投影系は、パターンが付与された放射ビームを放射感応性材料層に被覆された基板に投影する。 - 特許庁
A cover layer is formed on a temporary substrate having a flat surface, a patterned recording layer is formed on the cover layer, a reinforcing layer is formed on the recording layer, a main substrate is bonded onto the reinforcing layer and the temporary substrate is removed after the main substrate is bonded onto the reinforcing layer.例文帳に追加
表面が平坦な仮基板上にカバー層を形成し、カバー層上にパターン化された記録層を形成し、記録層上に補強層を形成し、補強層上に本基板を接合し、本基板を補強層上に接合後に仮基板を除去するように構成する。 - 特許庁
After a conductor layer is formed on the metal deposit layer through electroless plating and/or electroplating, the conductor layer and metal deposit layer are ground until the polyamide acid film is partially exposed to form a patterned conductor layer.例文帳に追加
この金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。 - 特許庁
A method of forming the structure having the improved adhesiveness includes a process wherein the patterned conductive metal layer is thermally exposed to an organic metal precursor, and at least the adhesive layer is deposited on the surface of the patterned conductive metal layer.例文帳に追加
改善された接着性を有する構造を作る方法は、パターン形成された導電性金属層を有機金属前駆体に熱的に暴露させ、少なくとも、パターン形成された導電性金属層の表面上に、接着層を堆積させる工程を含んでいる。 - 特許庁
When forming a patterned gate layer 140a in a memory region 1000 in advance prior to forming the insulation layer 270 on the entire surface of a semiconductor substrate, a patterned gate layer 140c which will become a dummy circuit is formed in the periphery of the chip 900.例文帳に追加
半導体基板上に全面的に絶縁層270を形成する前に、予め、メモリ領域1000にパターニングされたゲート層140aを形成する際に、チップ900の外周部に、同様に、ダミー回路となる、パターニングされたゲート層140cを形成する。 - 特許庁
A double-sided metal-clad plate formed by forming each metal layer on both surfaces of a resin film is used, the metal layer on one side of this double-sided metal-clad plate is patterned and the resin film in the interior of the metal-clad plate is wet-etched using the patterned metal layer as a mask.例文帳に追加
樹脂膜の両面に金属層を形成した両面金属張り板を用い、この両面金属張り板の片面の金属層をパターン加工し、パターン加工した金属層をマスクに用いて両面金属張り板内部の樹脂膜をウエットエッチングする。 - 特許庁
To provide a water soluble resin mixture which is suitable as a material of a separate layer arranged between adjacent resist layers in a patterned resist layer formed by using a plurality of laminated resist layers and a method for forming the patterned resist layer which uses the same.例文帳に追加
積層された複数のレジスト層を用いて形成されるパターン化レジスト層において、隣接するレジスト層間に配置される分離層の材料として適した水溶性樹脂混合物、およびこれを用いたパターン化レジスト層形成方法を提供する。 - 特許庁
The cathode 12 is patterned into a prescribed shape (e.g. stripe shape) to cover the cathode 12, and a shading layer 16 patterned in the same prescribed shape as the cathode 12 is formed.例文帳に追加
陰極12は、所定の形状(例えばストライプ状)にパターニングされ、この陰極12を覆って、陰極12と同じ所定の形状にパターニングされた遮光層16が形成されている。 - 特許庁
The colorless, transparent, and water-repellent film layer forming the patterned part on the surface of the glass is made of a substance which does not deposit on the glass surface except the patterned part, e.g. a urethane, an acrylic silicone, and a melamine.例文帳に追加
ガラス表面の絵柄部を形成する無色透明撥水性膜層を絵柄部以外のガラス表面に蒸着しないもの、たとえば、ウレタン、アクリルシリコーン、メラミンとする。 - 特許庁
One semiconductor film 206c is then patterned to form a semiconductor film becoming an active layer and the other semiconductor film 206d is patterned to form a gate electrode.例文帳に追加
そして、一方の半導体膜206cをパターニングして能動層となる半導体膜を形成するとともに、他方の半導体膜206dをパターニングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁
A patterned gate stack includes a gate dielectric below a conductor having vertical sidewalls, and a dielectric layer is formed over the patterned gate stack and substrate surfaces.例文帳に追加
パターン形成されたゲート・スタックは垂直側壁を有する導体の下にゲート誘電体を含み、このパターン形成されたゲート・スタックおよび基板表面を覆って誘電体層が形成される。 - 特許庁
The decorative layer 2 has the hollow part 2A transparent in the inside, the blurred patterned part 2B wherein the color changes gradually, the different color-patterned part 2C obtained by combining a plurality of different colors, and a deep colored part 2a.例文帳に追加
装飾層2に、枠内が透明の中抜き部2A、色が徐々に変化するボカシ模様部2B、複数の異なる色を組み合わせた色分け模様部2C、濃色部分2aとを有する。 - 特許庁
The patterned anode layer (169) is made of a second material, and the patterned anode layer (169) is configured to protect the shell (156) from corrosion by condensing hot gas in the gasification region.例文帳に追加
パターン形成されたアノード層(169)は、第2の材料から作られ、該パターン形成されたアノード層(169)が、ガス化領域において高温ガスを凝縮することによってシェル(156)を腐食から保護するよう構成されている。 - 特許庁
The method of forming the patterned thin film comprises processes of forming a first partial layer 6 and a second partial layer 10, respectively.例文帳に追加
パターン化薄膜形成方法は、それぞれフレームめっき法によって1層目の部分層6と2層目の部分層10を形成する各工程とを備えている。 - 特許庁
The amorphous carbon layer and the upper part of the layers to be patterned except at least the layer 43 of the lower part of the layers are etched by using the resist pattern 47 as a mask.例文帳に追加
レジストパターン47をマスクとして、アモルファスカーボン膜と、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分43を残して一部上層部分をエッチングする。 - 特許庁
Further the dielectric 12 on the glass substrate 11 is subjected to patterning by etching by using the patterned mask layer 13 and then the mask layer 13 is removed (Fig.1(h)).例文帳に追加
次に、パターニングされたマスク層13によりガラス基板11上の誘電体(12)をエッチングによりパターニングした後、マスク層13を除去する(図1(h))。 - 特許庁
In an alternate embodiment, the dielectric layer is deposited on a first semiconductor layer (64) and is patterned and etched to form dielectric strips (66).例文帳に追加
変形例では、誘電体層を第1半導体層(64)に付着し、これにパターン化及びエッチングを施して誘電体ストリップ(66)を形成する。 - 特許庁
A transfer member 10 includes a base material 1, a peel-off layer 2 patterned on the base material 1, and a bonding film 3 formed on the peel-off layer 2.例文帳に追加
転写体10は、基材1と、基材1上にパターン形成された剥離層2と、剥離層2上に形成された接合膜3とを備える。 - 特許庁
The thin film layer is patterned by a two-dimensional periodic pattern consisting of many prisms of the same shape to form a thin film pattern layer 12.例文帳に追加
この薄膜層を、同一形状の多数の角柱からなる2次元的な周期的パターンによりパターニングして、薄膜パターン層12を形成する。 - 特許庁
Furthermore, after forming a patterned second electrode 21 on opposing faces of a second substrate 20, the remaining light-emitting function layer 22 of the organic layer is formed.例文帳に追加
また、第2の基板20の対向面上には第2電極21をパターニングして形成した後、その上に有機層の残りの発光機能層22を成膜する。 - 特許庁
By selectively forming the buffer layer 510 in the region where the thin film active device 90 possesses, the periphery of the patterned buffer layer 510 acts as notches.例文帳に追加
薄膜アクティブ素子90が占める領域部分に選択的にバッファ層510を形成すれば、パターン化したバッファ層510の周囲が切り込みになる。 - 特許庁
The RCHX layer is formed by vapor deposition, the energy active material is patterned to form a pattern and this pattern is transferred to the RCHX layer.例文帳に追加
RCHX層は、蒸着により形成し、エネルギー活性材料をパターニングしてパターンを形成し、このパターンをRCHX層に転写する。 - 特許庁
To provide a polarizing plate with a retardation layer, in which dimensional change of a patterned retardation layer is small and crosstalk in stereoscopic image display can be reduced.例文帳に追加
パターン化された位相差層の寸法変化が小さく、立体画像表示のクロストークを低減し得る位相差層付偏光板を提供すること。 - 特許庁
To form a flattened protective film on a patterned recording layer in a recording medium and the like wherein a magnetic body recording layer is formed on a substrate.例文帳に追加
本件は、基板上に磁性体記録層が形成された記録媒体等に関し、パターン化された記録層の上に平坦化された保護膜を形成する。 - 特許庁
The metabollized layer M and the plated layer P on the surface of the ceramic base are patterned with an element mounting pattern of a specified shape by a photolithography method.例文帳に追加
このセラミックベース表面のメタライズ層M及びメッキ層Pをフォトリソグラフィ工法によってパターニングして所定形状の素子実装パターンを形成する。 - 特許庁
Then the insulating layer is etched using the patterned resist as a mask to form a second groove corresponding to the outline of the main magnetic pole auxiliary layer.例文帳に追加
次にパターンニングされたレジストをマスクとして絶縁層をエッチングすることにより、主磁極補助層の外郭に対応した第2の溝を形成する。 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING PATTERNED COLOR FILTER LAYER AND OPTICAL ANISOTROPIC LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE, AND COLOR FILTER SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUBSTRATE例文帳に追加
パターン状のカラーフィルタ層と光学異方性層とを有する液晶表示装置、及びその製造方法、ならびにカラーフィルタ基板及びその製造方法 - 特許庁
A first oxide layer is formed on an epitaxial layer, and is patterned to define a deep body area under which the deep body region is formed.例文帳に追加
第1の酸化物層がエピタキシャル層上に形成され、その下に深いボディ領域が形成されることになる深いボディエリアを画定するためにパターン化される。 - 特許庁
A third polysilicon layer is then deposited over the high-k dielectric layer and patterned, using photoresist to form a flash memory gate structure.例文帳に追加
その後、第3のポリシリコン層は、high−k誘電体層の上に堆積され、フォトレジストを用いてパターニングされ、フラッシュメモリゲート構造が形成される。 - 特許庁
Next, a second inorganic film 8 of, e.g. silicon oxide is formed on the silicon layer 6 and is patterned by photolithgraphy using a photoresist layer 10.例文帳に追加
次に、シリコン層6の上にたとえばシリコンの酸化物による第2の無機膜8を形成し、フォトレジスト層10を用いたフォトリソグラフィーによりパターン化する。 - 特許庁
A plated conductive substrate layer 230 is formed between an insulation layer and the patterned thin film 23 comprising a plated film, and a frame adhesion reinforcing layer 200 is partially attached or the surface of it.例文帳に追加
メッキ導通下地層230は、絶縁層25とメッキ膜からなるパターン化薄膜23の間に形成され、表面にフレーム密着増強層200が部分的に付着している。 - 特許庁
The photomask includes a patterned light-shielding relief layer and a surface protective layer formed by applying a composition for formation of a surface protective layer on a transparent substrate, wherein the composition contains a fluorine compound.例文帳に追加
透明基材上に、パターン状の遮光性レリーフ層と、フッ素化合物を含有する表面保護層形成用組成物を塗布してなる表面保護層と、を有するフォトマスクである。 - 特許庁
A first metal layer or insulating layer 502 is formed on a support base 501, and a metal film 514 to form a second metal layer is formed and patterned.例文帳に追加
支持基体501に第一の金属層又は絶縁層502を形成し、第二の金属層となる金属膜514を形成し、第二の金属層となる金属膜514をパターニングする。 - 特許庁
The peeling layer 41 is peeled, the dielectric layer 52 is patterned, a second electrode 24 is formed on the dielectric layer 52 and the wiring circuit board 100 having the built-in capacitor element 20 is obtained.例文帳に追加
さらに、剥離層41を剥離し、誘電体層52をパターニングした後、誘電体層52上に第二電極24を形成し、キャパシタ素子20を内蔵する配線回路板100を得る。 - 特許庁
A transparent insulating film is attachedly formed on the first electrode layer, and it is patterned such that the electrode parts of the first electrode layer are covered and that the wiring part are exposed to form a first insulating layer.例文帳に追加
第1電極層上に透明な絶縁膜を着膜し、これを第1電極層の電極部が覆われ配線部が露出するようにパターニングし第1絶縁層を形成する。 - 特許庁
A transparent insulating film is attachedly formed on the second electrode layer, and it is patterned such that the electrode parts of the second electrode layer are covered and that the wiring parts are exposed to form a second insulating layer.例文帳に追加
第2電極層上に透明な絶縁膜を着膜し、これを第2電極層の電極部が覆われ配線部が露出するようにパターニングし第2絶縁層を形成する。 - 特許庁
A patterning device includes a material layer 31, a patterned opaque material layer 32 on the surface of the material layer, and a pellicle 40 of a perfluoropolyether (PFPE) liquid, the pellicle covering the surface.例文帳に追加
パターニング・デバイスは、素材層31と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層32と、表面を覆う過フルオロポリエーテル(PFPE)液のペリクル40とを含む。 - 特許庁
To provide an etching preventing layer where only a part of a lower inter-layer insulating layer is selectively patterned for allowing outgassing in a manufacturing process thereafter.例文帳に追加
ボイド領域内に形成された局部エッチング阻止層が備えられたビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドとボーダレスコンタクトを有する半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The sheet materials 1 include a sheet material where a patterned conductor layer 2 and insulating layer 3 are laminated, and the insulating layer 3 has a through hole 5 filled with a conductive material.例文帳に追加
シート材1は、パターニングされた導体層2と絶縁層3が積層されると共に前記絶縁層3には導電性材料が充填された貫通孔5が形成されているものを含む。 - 特許庁
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