「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

When the patterned resist layer has defects, the defects are classified into two groups, gaps and projections, and then the gaps and projections are positioned.例文帳に追加

パターン化されたフォトレジスト層が欠陥を有する場合、欠陥は間隙および突起に分類され、次に間隙および突起が位置決めされる。 - 特許庁

After the voltage is applied and an inspection is finished, the patterned conductive layer is removed from a semiconductor element before final assembly or packaging.例文帳に追加

電圧を印加し検査が完了した後、最終的組み立てまたはパッケージ化の前に、パターニングした導電層を半導体素子から除去する。 - 特許庁

The spacer layer is patterned by using a photolithography technique, and formed from a photosensitive material forming a cavity wall 250 surrounding a die on a wafer 200.例文帳に追加

スペーサー層は、フォトリソグラフィイ技術を使用してパターン化され、ウェハー200上にダイを囲むキャビティ壁250を形成する感光材料から形成される。 - 特許庁

To provide a patterned medium having high density by preventing deterioration in a magnetic recording layer and formation of a protrusion due to elution of an element from an underlayer.例文帳に追加

磁性記録層の劣化、および下地層からの元素の溶出による突起の形成を防止し、高密度のパターンド媒体を提供する。 - 特許庁

Patterned ohmic contact metal regions are formed on the barrier layer and annealed to provide first and second ohmic contacts.例文帳に追加

パターニングされたオーム性接触金属領域が、バリア層上に形成され、第１および第２のオーム性接触を形成するためにアニールされる。 - 特許庁

By scanning a focused particle beam over the entire substrate in the presence of a precursor fluid, a patterned seed layer is formed.例文帳に追加

先駆体流体が存在する中で基板全体にわたって集束粒子ビームを走査することによって、パターニングされたシード層が形成される。 - 特許庁

This EUV optical lithographic mask comprises a multilayer film on an EUV mask substrate and a patterned light absorption layer formed on the multilayer film.例文帳に追加

このＥＵＶ光リソグラフィマスクはＥＵＶマスク基板上の多層膜及びこの多層膜上に形成されたパターン化光吸収層を含む。 - 特許庁

A portion of a top semiconductor layer of the SOI substrate is patterned into a semiconductor fin 18 having substantially vertical sidewalls.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の最上部半導体層の一部分にパターン形成して、実質的に垂直な側壁を有する半導体フィン１８が作成される。 - 特許庁

The photoresist layer is patterned to form photoresist features with photoresist side walls, and the photoresist features have a first microscopic dimension.例文帳に追加

フォトレジストレイヤがパターン付けされることによって、フォトレジスト側壁を持つフォトレジストフィーチャが形成され、フォトレジストフィーチャは第１微小寸法を有する。 - 特許庁

The multi-layered liner includes, from the patterned surface of a dielectric material outwards, a diffusion barrier, a multi-material layer and a metal-containing hard mask.例文帳に追加

多層ライナは、誘電体材料のパターン付けされた表面から外側に、拡散障壁、マルチ材料層、及び金属含有ハード・マスクを含む。 - 特許庁

In this case, the gate metal covering a semiconductor active layer of the TFT other than those where gate electrodes are being patterned is still covered with the resist.例文帳に追加

この際、ゲート電極をパターニング中のＴＦＴ以外のＴＦＴの、半導体活性層を覆うゲートメタルは、レジストで覆ったままにする。 - 特許庁

Outer circumferential edge of the shielding electrode 6 patterned on the upper surface of a multilayer glass ceramic substrate 2 is covered with an insulation layer 8.例文帳に追加

多層型ガラスセラミック基板２の上面にパターン形成されたシールド用電極６の外周縁を、絶縁層８により被覆するようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent device having a light emitting layer which can be patterned with high precision over whole light emitting area.例文帳に追加

発光領域全面に渡り高精細な発光層のパターニングが可能な有機電界発光装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A hard mask layer is patterned through self-organization of a block copolymer, by which a micropattern is formed in the hard mask layer, and at the same time the hard mask layer can be formed as a mask having a high etching selection ratio to a thin-film layer.例文帳に追加

本発明によれば、ハードマスク層をブロックコポリマーの自己組織化を用いてパターニングを行うことにより、ハードマスク層に微細パターンを形成するのと同時に、ハードマスク層を薄膜層に対して高いエッチング選択比を備えたマスクとして形成することが出来る。 - 特許庁

First, when a front end part 12A is formed, a precursor main magnetic pole layer (the prearrangement layer of the main magnetic pole layer 12) is patterned with the buffer layer 15 as a mask, and accordingly the front end part 12A is highly precisely formed so that it may have a microwidth W1 to be targeted.例文帳に追加

第１に、先端部１２Ａを形成する際、バッファ層１５をマスクとして前駆主磁極層（主磁極層１２の前準備層）がパターニングされるため、目標通りの微小幅Ｗ１となるように先端部１２Ａが高精度に形成される。 - 特許庁

A resin layer to be microlenses is formed on a semiconductor substrate, and after a photoresist layer is formed on the resin layer, the photoresist layer is patterned by photolithography to form a large number of photoresist patterns mutually closely arranged in a matrix shape each rectangular-shaped in plan view.例文帳に追加

半導体基板上にマイクロレンズとするための樹脂層を形成し、樹脂層の上にフォトレジスト層を形成した後、同フォトレジスト層をフォトリソグラフィーによってパターンニングして、マトリクス状に相互に近接配置された平面視矩形の多数のフォトレジストパターンを形成する。 - 特許庁

An n- doped GaN diode is provided on the n+ doped GaN diode patterned in a plurality of slender fingers, a metal layer is provided on the n- doped GaN layer to form Schottky junction between the n- GaN layer and the metal layer.例文帳に追加

１μｍを超える厚さを有するｎ−型ドープしたＧａＮダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記ｎ＋型ドープＧａＮダイオード上に配設し、金属層をｎ−型ドープＧａＮ層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁

Through exposure/development processes, only the patterned phosphor layer material 4B and the pigment layer material 3B located directly under the same 4B are made to remain to form a laminated pattern of a pigment layer 3B' and a phosphor layer 4B'.例文帳に追加

露光・現像工程を行うことにより、パターン形成された蛍光体層材料４Ｂと当該蛍光体層材料４Ｂの真下に位置する顔料層材料３Ｂのみを残留させて、顔料層３Ｂ’と蛍光体層４Ｂ’の積層パターンを形成する。 - 特許庁

This surface sheet is equipped with a base material, a first film layer which is formed on the base material and has an antibacterial property, and a second film layer which is formed on the first film layer and has rigidity and an unevenness being patterned.例文帳に追加

基材と、該基材上に形成され、抗菌性を有する第一の皮膜層と、該第一の皮膜層上に形成され、硬質性を有し、パターン化された凹凸を有する第二の皮膜層と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The laminated film is patterned to form a laminate LB including a floating gate FG comprising the first silicon layer S1p, a gate insulating film GI comprising the insulating layer IL and a control gate CG comprising the second silicon layer S2a.例文帳に追加

この積層膜がパターニングされて、第１シリコン層Ｓ１ｐを有するフローティングゲートＦＧと、絶縁層ＩＬを有するゲート間絶縁膜ＧＩと、第２シリコン層Ｓ２ａを有するコントロールゲートＣＧとを含む積層体ＬＢが形成される。 - 特許庁

The method for manufacturing the wiring board includes a process to form a wiring pattern 30 on a base substrate 10 comprising a metal layer 12 and a mask 14 formed on the metal layer 12 by being patterned by removing a part of the metal layer 12 by spraying an etchant 20.例文帳に追加

金属層１２と、パターニングされて金属層１２上に設けられたマスク１４とを有するベース基板１０に、エッチング液２０を噴射して金属層１２の一部を除去し、配線パターン３０を形成することを含む。 - 特許庁

A metal layer arbitrarily patterned to cover at least 20% of the area of the semiconductor light emitting device is plated on either a metal layer formed on the mount or a metal layer formed on one of the contacts.例文帳に追加

半導体発光デバイスの面積の少なくとも２０％をカバーするように任意にパターン形成された金属層は、マウント上に形成される金属層か又はコンタクトのうちの１つに形成される金属層のいずれかにメッキされる。 - 特許庁

In the SAF free layer structure, a bias in a length direction is applied by a combination of an exchange bias layer formed on the sensor stack and a hard bias layer formed adjacently to a patterned side face of the stack.例文帳に追加

本発明のＳＡＦフリー層構造では、センサスタックの上に形成された交換バイアス層と、スタックのパターニングされた側面に隣接して形成されたハードバイアス層との組み合わせにより、長手方向のバイアスが印加されている。 - 特許庁

This shield material is provided with a transparent base material 15, a metallic layer 18a that is patterned and formed on one surface of the transparent base material 15, and a color correction adhesive layer 20 that is formed on the metallic layer 18a and in which a pigment 38 is dispersed.例文帳に追加

透明基材１５と、透明基材１５の一方の面上にパターン化されて形成された金属層１８ａと、金属層１８ａの上に形成され、顔料３８が分散された色補正粘着層２０とを有する。 - 特許庁

A first substrate 1 where a pixel electrode driving circuit 2 is formed is covered with a leveling/insulation layer 20, and a light shield layer (step forming pattern) 22 is patterned around the pixel region 1a on the leveling/insulation layer 20.例文帳に追加

画素電極駆動回路２が形成された第１基板１上を平坦化絶縁膜２０で覆い、平坦化絶縁膜２０上における画素領域１ａの周囲に遮光膜（段差形成用パターン）２２をパターン形成する。 - 特許庁

The insulating layer 9 is composed of a first insulating film 9a comprising a silicone oxide film patterned so as to spread over a strong electric field drift layer 6 and an element isolation layer 3b, and a second insulating film 9b comprising a silicone oxide film patterned so as to cover the converging electrode 8 on the first insulating film 9a and the first insulating film 9a.例文帳に追加

絶縁層９は、強電界ドリフト層６上と素子分離層３ｂ上とに跨ってパターン形成されたシリコン酸化膜からなる第１の絶縁膜９ａと、第１の絶縁膜９ａと第１の絶縁膜９ａ上の収束電極８とを覆うようにパターン形成されたシリコン酸化膜からなる第２の絶縁膜９ｂとで構成されている。 - 特許庁

The secondary part of the insulator is arranged on the primary surface of the patterned metallic layer 202 and multiple windows are formed to prevent the exposure of metal used for external connection.例文帳に追加

パターン化金属層２０２の第１面に絶縁材の第２部分を設け、外部接続用の金属を露出させるための複数の窓を形成する。 - 特許庁

In order to form the layers, an element working step in the patterning of a tunnel joined film part is finished before the lowest layer of the tunnel joined film is completely patterned.例文帳に追加

トンネル接合膜部をパターン化する際の素子加工工程を、トンネル接合膜を構成する各層のうち最下部までは行わないことによる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a patterned medium type magnetic recording medium free from non-magnetization due to oxidation of a magnetic layer and after corrosion due to a residual fluorine compound.例文帳に追加

磁性層の酸化による非磁性化や、フッ素化合物残存によるアフターコロージョンのないパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A common piezoelectric thin-film layer, which may or may not be patterned, is formed as a thin film continuous as a single or not continuous.例文帳に追加

パターン化される事もされない事もある１つの共通圧電薄膜層は、１つの連続する又は連続しない薄膜にて形成される製造方法である。 - 特許庁

After polishing, a micro concave and convex pattern 4 for a discrete track medium or micro concave and convex pattern 4 for a bit patterned medium is formed on the surface of the Si layer 3.例文帳に追加

研磨後、ディスクリートトラックメディア用の微細な凹凸パターン４、又はビットパターンドメディア用の微細な凹凸パターン４を、Ｓｉ層３の表面に形成する。 - 特許庁

Each electrode pad 160 is connected to a nearest seed layer 120b running in a Y direction by the most direct way via patterned seed layers 130.例文帳に追加

各電極パッド１６０は、パターニングされたシード層１３０によって、最も近いＹ方向のシード層１２０ｂに最短距離で接続されている。 - 特許庁

The manufacturing method of a stacked structure having a fine-patterned optical anisotropic layer on a transparent support comprises the following processes 1, 2.例文帳に追加

透明支持体上にパターン状の光学異方性層を有する積層構造体の製造方法であって、下記［１］及び［２］の工程を含む製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element in which a luminous layer containing quantum dots can be patterned easily.例文帳に追加

本発明は、量子ドットを含有する発光層を容易にパターニングすることが可能なＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A mask layer 45 patterned into openings of a transflective film is printed on the surface of an organic film 11 by using an ink-jet printer 47 as shown in Fig (b).例文帳に追加

図７ｂに示すように、インクジェットプリンタ４７を用いて、半透過反射膜の開口を象ったマスク層４５を有機膜１１の表面にプリント形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid-state imaging element capable of easily preventing variations in film thickness of a color filter layer including a stripe-patterned color filter.例文帳に追加

ストライプパターンのカラーフィルタを含むカラーフィルタ層の膜厚ムラを容易に抑制することが可能な固体撮像素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CPP type MR read head including a patterned CPP type MR sensor stack having an SAF free layer structure, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＳＡＦフリー層構造を有するパターニングされたＣＰＰ型ＭＲセンサスタックを含むＣＰＰ型ＭＲ読取りヘッド、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The patterned optical shutter and back light layer which match each other have a pixel 'window' formed and an image printed in the background appears and disappears through the window.例文帳に追加

整合したパターン化オプティカル・シャッタおよびバックライト層は、ピクセル「窓」を形成し、この窓を介して、バックグランドに印刷されたイメージは見え隠れできる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING PATTERNED CONDUCTIVE LAYER ON SUBSTRATE, AND TREATMENT METHOD AND TREATED PRODUCT OF WAFER例文帳に追加

半導体デバイス、半導体基板上にパタ—ン化された導電性層を作成する方法、半導体製造におけるウェハ—基板の処理方法及び処理された製品 - 特許庁

A red emission layer 11r having positive hole transportation property is patterned by a transfer method above the lower electrode 3 of a part of the pixels.例文帳に追加

次に各画素のうちの一部の画素における下部電極３の上方に、正孔輸送性の赤色発光層１１ｒを転写法によってパターン形成する。 - 特許庁

At this time, the holes 13b of the unevenness forming layer 13 are patterned in a polygonal plane shape whose sides 13b' are directed at random.例文帳に追加

この際、凹凸形成層１３ａの孔１３ｂについては、多角形の平面形状とし、かつ、各々の辺１３ｂ′がランダムな方向に向いたパターンとする。 - 特許庁

A plurality of driving electrodes 12 defining the transportation path of the micro moving object 14 are patterned inside an insulating layer 8 under the surface of the substrate 2.例文帳に追加

上記基板２の表面下の絶縁層８内に上記微小移動体１４の輸送経路を規定する複数の駆動電極１２をパターニングする。 - 特許庁

The patterned conductive layer (3) includes a plurality of first and second electrode units (31, 32), and a plurality of first and second conductive lines (33, 34).例文帳に追加

パターン化導電層（３）は、複数の第一及び第二の電極ユニット（３１、３２）と、複数の第一及び第二の導電線（３３、３４）とを含む。 - 特許庁

The end 7 of a pad electrode 4 formed on a semiconductor substrate 1 including a patterned interlayer insulation film 3 is covered by a plated layer 5 without leaving any space in-between.例文帳に追加

パターニングされた層間絶縁膜３を含む半導体基板１上に形成されるパッド電極４の端部７をメッキ層５で隙間なく被覆する。 - 特許庁

The covering layer prevents contamination from entering the projection system, while allowing patterned EUV radiation to pass from the projection system onto a substrate.例文帳に追加

被覆層は、汚染が投影システムに入ることを防止する一方、パターン付きＥＵＶ放射が投影システムから基板上に移ることを可能とする。 - 特許庁