「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

After that, the first and second conductor layers 48a and 48b are patterned to form a conductor layer 48, and then, a lower semiconductor layer made of polycrystalline silicon or the like forming a semiconductor region for a source and a drain for an load MISFET of an SRAM is formed so as to contact with the conductor layer 48.例文帳に追加

その後、第１、第２導体層４８ａ、４８ｂをパターニングして導体層４８を形成後、その導体層４８に接するように、ＳＲＡＭの負荷ＭＩＳＦＥＴ用のソースおよびドレイン用の半導体領域を形成する多結晶シリコン等からなる下部半導体層を形成する。 - 特許庁

A second metal layer 503 which has a gap is formed by laminating metal to form the second metal layer in a direction inclined to a normal direction of a surface of the support base 501 using the patterned metal film 514 to form the second metal layer as a mask.例文帳に追加

このパターニングした第二の金属層となる金属膜５１４をマスクとして、支持基体５０１の表面の法線方向に対し斜め方向から第二の金属層となる金属を積層で成膜することによりギャップを有する第二の金属層５０３を形成する。 - 特許庁

To provide a photocurable composition having satisfactory interlayer conductivity in a black layer of a black and white two-layer bus electrode without spoiling satisfactory blackness for enhancing the contrast of a screen, and capable of ensuring satifactory insulation between display electrodes in a black patterned layer.例文帳に追加

画面のコントラスト向上のための充分な黒さを損なうことなく白黒二層バス電極の黒層においては充分な層間導電性を有し、かつブラックパターン層においては表示電極間の充分な絶縁性を確保しうる光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a patterned body is provided, which includes: a preparation step of preparing a substrate 10, having a photoresist layer 20 that allows a shape change in a heat mode on the surface; and an exposure step of irradiating the photoresist layer 20, with a laser beam to partially remove the photoresist layer 20.例文帳に追加

表面にヒートモードによる形状変化が可能なフォトレジスト層２０を有する基板１０を用意する準備工程と、フォトレジスト層２０にレーザ光を照射してフォトレジスト層２０の一部を除去する露光工程と、を有するパターン形成体の製造方法である。 - 特許庁

Thereafter, the SiO_2 film is etched (S9), the exposed seed layer is reformed anisotropically in the film thickness direction (S10), and the reformed seed layer, the exposed barrier/adhesion layer, and the mask Al film are removed sequentially by etching (S10-S13) thus obtaining a patterned metal film.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_２膜をエッチング（Ｓ９）、露出したシード層をその膜厚方向に異方的に改質し（Ｓ１０）、改質されたシード層、露出したバリア・密着層、及びマスクＡｌ膜を順次エッチングにより除去することにより（Ｓ１０〜Ｓ１３）、パターン化金属膜を得る。 - 特許庁

After a process in which matrix light-shielding layers, containing an ink repellant material, are formed on a transparent substrate, and a process in which an image-receiving layer is formed between the matrix light-shielding layers, a patterned coloring layer is formed on the image-receiving layer by the inkjet method.例文帳に追加

透明基板上に、撥インク性物質を含むマトリックス状遮光層を形成する工程後、前記マトリックス状遮光層の間に受像層を形成する工程を経て、前記受像層の上にインクジェット法によりパターン状着色層を形成することにより解決した。 - 特許庁

In the manufacturing method of a magnetic head for laminating lower and upper magnetic pole layers 5 and 9 via a gap layer 6 to constitute a magnetic gap, after the gap layer 6 is formed on the lower magnetic pole layer 5, a track width regulation mask patterned corresponding to a track width is disposed.例文帳に追加

下部磁極層５と上部磁極層５とをギャップ層６を介して積層形成し、磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドの製造方法において、下部磁極層５上にギャップ層６を形成した後、トラック幅に対応してパターニングされたトラック幅規制マスクを配する。 - 特許庁

The patterned phase shifting layer is comprised of a material of differing composition than the mask substrate and is of thickness sufficient to shift the phase of an energy beam passing through the thickness of the phase shifting layer and the mask substrate by 180°, compared to the phase of the energy beam passing through the phase shifting layer openings and the mask substrate.例文帳に追加

パターン化された位相シフト層は、位相シフト層およびマスク基板の厚さを通過するエネルギー・ビームの位相を、位相シフト層の開口およびマスク基板を通過するエネルギー・ビームの位相に比べて１８０°シフトさせるのに十分な厚さをもち、マスク基板とは異なる組成の材料からなる。 - 特許庁

A base metal layer 100 to form an auxiliary capacitance between the layer 100 and the drain electrode 112 of a TFT 127 that applies a voltage to a pixel electrode is formed in a planar state on a glass substrate 130; that is, the layer is formed without being patterned on the glass substrate 130.例文帳に追加

画素電極１１４に電圧印加するＴＦＴ１２７のドレイン電極１１２との間で補助容量を形成するための下地金属層１００が、ガラス基板１３０上に面状に形成、即ち、ガラス基板１３０上にパターンニングされない状態で形成される。 - 特許庁

The method includes the steps of: depositing a hydrophilic material layer on a substrate; depositing a bank material layer on the hydrophilic material layer; patterning the bank material layer to define a bank forming one or more of the droplet deposition wells; and etching the hydrophilic material layer in a self-aligned process using the patterned bank material layer as a resist.例文帳に追加

前記方法は、基板上に親水性材料層を堆積させる工程、前記親水性材料層の上にバンク材料層を堆積させる工程、前記バンク材料層をパターニングして１または２以上の前記液滴堆積ウェルを形成するバンクを規定する工程、前記パターニングされたバンク材料層をレジストとして使用して自己整合プロセス中において前記親水性材料層をエッチングする工程を含む。 - 特許庁

The optical waveguide has the wettability changing layer which varies in wettability through the operation of a light catalyst accompanying energy irradiation so that the angle of contact with liquid decreases and contains no light catalyst, a core layer which is patterned on the wettability changing layer, and an upper clad layer which is so formed on the wettability changing layer as to cover the core layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化し、かつ光触媒を含まない濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層上にパターン状に形成されたコア層と、前記コア層を覆うように濡れ性変化層上に形成された上部クラッド層とを有することを特徴とする光導波路を提供する。 - 特許庁

This light emitting device has a luminescent layer 140B between a negative electrode 154 and a positive electrode 141, the negative electrode 154 has a first negative electrode layer 154A and a second negative electrode layer 154B each having different electron injection barriers against the luminescent layer 140B, and the first negative electrode layer 154A having the relatively smaller electron injection barrier against the luminescent layer 140B is patterned.例文帳に追加

本発明の発光装置は、陰極１５４と陽極１４１との間に発光層１４０Ｂを有し、前記陰極１５４は、前記発光層１４０Ｂとの電子の注入障壁が異なる第１陰極層１５４Ａと第２陰極層１５４Ｂを有し、相対的に前記発光層１４０Ｂとの電子の注入障壁が小さい第１陰極層１５４Ａがパターニングされてなることを特徴とする。 - 特許庁

That is, the silicon substrate 16 is patterned to remain the silicon layer 13 at least on the the area connected electrically to the island-like body 12 and the joined interface 14 to the glass substrate 11.例文帳に追加

すなわち、シリコン基板１６をパターニングして少なくとも島状体１２と電気的に接続する領域及びガラス基板１１との接合界面１４にシリコン層１３を残存させる。 - 特許庁

After a predetermined time has elapsed since a substrate 100 has been soaked in a plating solution, the master 200 is peeled from the substrate 100, thereby forming a conductive layer 103 patterned on the substrate 100.例文帳に追加

基板１００をメッキ液に浸して一定時間経過した後、基板１００から原盤２００を剥がすことにより、基板１００上にパターニングされた導電層１０３が形成される。 - 特許庁

The flexible wiring board 30 has laminated structure wherein a metal thin plate 32, a protection layer 34, a plastic film 36, and patterned conductive wires 38 are arranged from the center side toward the outside.例文帳に追加

可撓性配線基板３０は、積層構造を有し、中心側から外側に向かって、金属薄板３２、保護層３４、プラスチックフィルム３６、パターン化された導電配線３８が配置される。 - 特許庁

At least the antistatic layers in the flange portion are patterned, and the lid covering an opening can be adhered to the flange portion without any antistatic layer interposed therebetween.例文帳に追加

そして、そうした帯電防止層のうち、少なくともフランジ部分のものをパターン状とし、それによって、開口をふさぐ蓋材を帯電防止層を介さずにフランジ部分に接着可能とする。 - 特許庁

The artificial marble having the natural material feeling, the transparent feeling or the depth feeling not obtained heretofore and the high grade feeling is obtained by the synergistic effect of the pattern material 6 and the patterned resin layer 3.例文帳に追加

この柄材６と模様付き樹脂層３の相乗効果によって従来にない天然素材感や透明感あるいは深み感を有して高級感のあるものになるのである。 - 特許庁

A color filter comprises a coloring layer patterned on a substrate by photolithography wherein the number of particles at the non-display part is 160/100 μm2 or less.例文帳に追加

基板上にフォトリソ法により着色層パターニングしたカラーフィルターにおいて非表示部のパーティクル数が１６０個／１００μｍ^2以下であることを特徴とするカラーフィルターであること。 - 特許庁

To solve such a problem that a spacing between a head and a medium is widened since surface roughness of a recording layer gets larger in the process of fabricating a patterned medium, and as a result, recording performance and corrosion resistance of the medium are degraded.例文帳に追加

パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。 - 特許庁

While, an anode electrode 41, an organic EL light emitting layer 42, and a cathode electrode 43 are laminated in that order on a facing surface 31 of a transparent substrate 3, and a plurality of organic EL elements 4 are patterned.例文帳に追加

一方、透明基板３の対向面３１に、アノード電極４１、有機ＥＬ発光層４２、カソード電極４３の順に積層して、複数の有機ＥＬ素子４をパターニングする。 - 特許庁

The mask layer is then patterned on the side of the silicon substrate 2 previously applied with a thermal oxidation film 3 and through holes 52 are opened in the silicon substrate 2 with high concentration alkaline liquid of KOH, for example, (Fig. (C)).例文帳に追加

予め熱酸化膜３がついていたシリコン基板２側のマスク層をパターニングし、ＫＯＨ等の高濃度アルカリ液にてシリコン基板２に貫通穴５２を開口する（図１（Ｃ））。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device which can perform color image display by a reflection method even when a reflection layer patterned for each pixel is not provided on an element substrate and to provide an electronic device.例文帳に追加

１画素毎にパターニングした反射層を素子基板に設けなくても反射方式でカラー画像表示を行なうことができる液晶装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

The periodically patterned structure of the base, together with a solid metal layer of a circuit board, form the electromagnetic bandgap structure that reduces certain frequencies of electromagnetic noise caused by the integrated circuit.例文帳に追加

ベースの周期的パターン構造は、回路板の中実金属層とともに、集積回路が引き起こすある周波数の電磁雑音を低減させる電磁バンドギャップ構造を形成する。 - 特許庁

The wiring 30 is patterned so as to be separated into a drain electrode 32 and a source electrode 34 by selective etching for leaving the semiconductor layer 20 as it is through the left first part 24.例文帳に追加

残された第１部分２４を介して、半導体層２０を残す選択的エッチングによって、配線３０をドレイン電極３２及びソース電極３４に分離されるようにパターニングする。 - 特許庁

Then, a circuit pattern is laid out and at least one pad is installed on the organic substrate, and the surface of the substrate is covered with a solder mask layer, and the pad is exposed in a patterned state.例文帳に追加

該有機基板には回路パターンがレイアウトされ、少なくとも一つのパッドが設けられ、該基板の表面がソルダマスク層で被覆され、並びにパターン化されて該パッドが露出させられている。 - 特許庁

An etching plastic is injected into a processing chamber in which the semiconductor wafer is accommodated, and a self-supporting type nano-structure part is exposed on the semiconductor wafer by etching the patterned layer.例文帳に追加

上記半導体ウェハーを収容した処理チャンバーに、エッチング化成品を注入し、パターン化された層をエッチングして、自立型ナノ構造部を半導体ウェハー上に露出させる。 - 特許庁

The PXLEDs are formed with novel fabrication techniques, such as the epitaxial lateral overgrowth technique over a patterned masking layer, yielding semiconductor layers with low defect density.例文帳に追加

ＰＸＬＥＤは、パターン化されたマスク層上で使用されるエピタキシャル横方向過度成長技術のような新しい製作技術で形成され、欠陥密度の低い半導体層が得られる。 - 特許庁

The semiconductor layer 14 is patterned, whereby a resistor constituting heaters 15a and 15b and thermometers 16a-16c and wiring layers 17a-17h which form a sensing part is formed.例文帳に追加

そして、この半導体層１４をパターニングすることで、ヒータ１５ａ、１５ｂとセンシング部となる温度計１６ａ〜１６ｃおよび配線層１７ａ〜１７ｈを構成する抵抗体を形成する。 - 特許庁

To provide a rigid flex printed wiring board wherein a connector terminal or the like led to an outer layer is fine-patterned, the number of via holes is reduced, and impedance is also easily controlled.例文帳に追加

外層に引出されるコネクタ端子等のファインパターン化、及びビアホール数の削減が可能で、しかもインピーダンスコントロールを容易に行なうことができるリジッドフレックスプリント配線板の提供。 - 特許庁

To surely print a patterned part comprising a colorless, transparent, and water-repellent film layer on the surface of glass only by a conventional printing method or a label transfer printing without applying masking.例文帳に追加

マスキング作業をすることなく、従来の印刷方法あるいはラベル転写のみでガラス表面に的確に無色透明撥水性膜層からなる絵柄部の印刷ができるようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus comprising a computer readable medium which realizes a patterned photoresist layer that can reduce CD (critical dimension) errors and correct geometry dependence of a shrink process.例文帳に追加

ＣＤ（限界寸法）誤差を低減し、シュリンク処理の形状依存を補正できるパターン化フォトレジスト層を実現するコンピュータ読み取り可能な媒体を備えた装置を提供する。 - 特許庁

To achieve enhanced recording and resolving power and increased recording density of a perpendicular two-layer patterned medium used in various magnetic recording equipments as well as to achieve a lowered cost and enhanced throughput.例文帳に追加

各種磁気記録装置に搭載される垂直二層パターンド媒体において、低コスト化および高スループット化に加えて、媒体の記録分解能の向上、高記録密度化を実現する。 - 特許庁

A light reflection layer 109 connected to the TFT, a plurality of patterned color filters 110 and a transparent electrode 112 are laminated on the interlayer insulation film 108 in this order.例文帳に追加

層間絶縁膜１０８上には、ＴＦＴに接続された光反射層１１２、パターニングされた複数のカラーフィルタ１１０、および透明電極１１２がこの順序で積層されている。 - 特許庁

A solution containing recording material is applied to the molding substrate to fill only the pit parts to form recording parts, and a required constitution layer is provided to form the optical information recording medium of the patterned medium type.例文帳に追加

記録材料を含む溶液を成形基板に塗布してピット部にのみ充填して記録部を形成し、必要な構成層を設けてパターンドメディアタイプの光情報記録媒体とする。 - 特許庁

Two or more layers are collectively patterned in at least part of the laminated film 24, so that the number of photomasks to be used is reduced as compared with that for patterning for each layer.例文帳に追加

積層膜２４のうちの少なくとも一部において２層以上を一括してパターニングすることにより、各層毎にパターニングする場合に比べ、使用するフォトマスクの枚数が減る。 - 特許庁

The computer readable code for applying the shrink correction comprises providing corner cutouts, and adjusting line width and length, shape modifications, etc. for forming features in a patterned layer.例文帳に追加

シュリンク補正を適用するためのコンピュータ読み取り可能なコードは、パターン化層に形状を形成するための角切り欠き部を提供して、線の幅および長さ、形の修正などを調整する。 - 特許庁

Next, with the photosensitive film 47 as a mask, the first metal layer 43 is patterned so as to have the width (W1) by an anisotropic etching method to form the gate electrode with multilayer structure ((c) in Fig.5).例文帳に追加

次に、感光膜４７をマスクとして第１金属層４３を異方性エッチング方法で幅（Ｗ１）を持つようにパターニングして積層構造のゲート電極を形成する（図５（ｃ））。 - 特許庁

To provide a transparent conductive laminated film capable of improving visibility of a display device including a patterned transparent conductive layer (transparent electrode) such as a capacitance type touch panel.例文帳に追加

静電容量方式タッチパネルなどのパターン化された透明導電層（透明電極）を有する表示装置の視認性を向上できる透明導電性積層フィルムを提供する。 - 特許庁

The light-emitting device is disclosed; and includes a multilayer stack, and a sealing material layer having a patterned sealing material region adjacent to the light-emitting stack surface of the multilayer stack optically.例文帳に追加

多層スタック、および多層スタックの発光スタック表面に対して光学的に近接したパターン化封止材料領域を有する封止材料層を含む発光装置が開示される。 - 特許庁

DIFFRACTION STRUCTURE FORMATION BODY WITH PATTERNED METAL REFLECTING LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD, DIFFRACTION STRUCTURE TRANSFER FOIL, DIFFRACTION STRUCTURE STICKER, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM WITH DIFFRACTION STRUCTURE例文帳に追加

パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体付き情報記録媒体 - 特許庁

The barrier layer and a laminated film 18 composed of aluminum or the alloy film are formed on the contact plug, and an insulation film and the laminated film is patterned so as to be in contact with the contact plug.例文帳に追加

前記コンタクトプラグと絶縁膜上にバリア層とアルミニウム又はその合金膜からなる積層膜１８を形成し、コンタクトプラグに接触するように、前記積層膜膜をパターニングする。 - 特許庁

A reflecting pixel electrode 11 (third metal film) and a second transparent conductive film 12 as a layer above it are patterned with the same mask pattern and subjected to a batch wet etching process using the same etchant.例文帳に追加

反射画素電極１１（第３の金属膜）とその上層の第２の透明導電性膜１２を同じマスクパターンでパターニングし、同じエッチング液を用いて一括ウェットエッチング処理した。 - 特許庁

Since the sidewall and a part of the upper face of a data line 6a are covered with a reflecting film 44, a center layer 62 is not corroded by an etchant when the reflecting film 44 is patterned.例文帳に追加

データ線６ａの側壁および上面の一部は反射膜４４で覆われているから、反射膜４４をパターニングする際に中央層６２がエッチャントにより侵食されない。 - 特許庁

Thus, the electrode of the chip 10 is patterned to be relocated at a desired position, and a Cu post 15 formed by electrolytically plating at the electrode position relocated by the layer 14.例文帳に追加

ＬＳＩチップ１０の電極が所望の位置に再配置されるようにパターン化され、メタル層１４により再配置された電極位置には電解めっきでＣｕポスト１５が形成される。 - 特許庁

In the method of cleaning the patterning device used for the lithographic projector, the patterning device includes the blank layer and the patterned layers of the opaque material existing on the surface of the blank layer and the PFPE liquid covering the surface is applied on the surface of the blank layer in order to form the PFPE liquid layer and at least a portion of the PFPE liquid layer is removed.例文帳に追加

フォトリソグラフィ投影装置に使用するパターニング・デバイスのクリーニング方法、素材層と、素材層の表面上にある不透明材料のパターン状層とを含むパターニング・デバイス、ＰＦＰＥ液層を形成するため、ＰＦＰＥ液の表面に表面を覆うＰＦＰＥ液体を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む方法。 - 特許庁