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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patterned layerに関連した英語例文

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patterned layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1139



例文

To provide a liquid crystal device wherein an underground organic film is made not to be corroded by an organic solvent when a retardation layer is patterned on a substrate on which the organic film is formed and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

有機膜が形成された基板に位相差層をパターニングする際に有機溶剤によって下地の有機膜が侵食されないようにした液晶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

At least one organic EL layer constituting an EL element is patterned by a photo lithography method.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、EL素子を構成する少なくとも1層の有機EL層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするEL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Afterwards, a gate oxide film 8 is formed on the main surface side of the semiconductor layer 3, a polysilicon film is deposited on the gate oxide film 8, and a patterned gate electrode 9 is formed by utilizing a mask (Figure 1 (b)).例文帳に追加

その後、半導体層3の主表面側にゲート酸化膜8を形成し、ゲート酸化膜8上にポリシリコン膜を堆積させ、マスクを利用しパターニングされたゲート電極9を形成する(図1(b))。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

例文

To prevent leak and short circuit of a high polymer electroluminescent element caused by scratch and adhesion of dust on the surface of a high polymer light emitting layer, a pinhole, and a clearance between patterned pixels in a process for manufacturing the element.例文帳に追加

高分子エレクトロルミネッセンス素子製造工程における高分子発光層表面の傷やゴミ付着、また、ピンホールやパターニング画素間の隙間を原因とする、素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁


例文

In a second mode, the colored acrylic syrup pattern paint is sprayed on the article to be coated to form a desired pattern and a reinforcing layer comprising FRP is provided on the patterned article to be coated to produce an FRP product.例文帳に追加

本発明の第2は、被塗装物に着色アクリルシロップ模様塗料を吹き付け所望の模様を形成し、その上にFRPからなる補強層を設けるFRP製品の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head, which is capable of easily lifting-off a resist layer patterned by an electron beam, a method for manufacturing a magneto-resistive element aggregate, and a method for manufacturing a magnetic head slider.例文帳に追加

電子ビームでパターニングしたレジスト層を容易にリフトオフできる薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気抵抗効果素子集合体の製造方法、及び磁気ヘッドスライダの製造方法を提供すること。 - 特許庁

OLEDs are patterned into a marker, and it is combined with an outer layer comprising a high-scattering, nonabsorbing film provided on an OLED luminescent region and a high-absorbing film provided on a nonluminescent region.例文帳に追加

OLEDをパターン化して標識とし、OLED発光領域上に設けた高散乱性・非吸収性皮膜と非発光領域上に設けた高吸収性皮膜とからなる外層と組合わせる。 - 特許庁

Continuously, a polycrystal silicon thin film is formed thereon and patterned self-adjustably by exposure of a back face, and the polycrystal silicon thin film is left behind in the recess part 25 to form a semiconductor active layer 30.例文帳に追加

続いて、この上に多結晶シリコン薄膜27を形成し、裏面露光により自己整合的にパターニングして、凹部25に多結晶シリコン薄膜27を残存させて、半導体活性層30を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a good showing transparent conductive film with a patterned transparent conductive layer, for suppressing a dissimilarity between a pattern portion and a pattern opening portion, and to provide a touch panel using the same.例文帳に追加

透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部との相違が抑制され、見栄えの良好な透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁

例文

After bonding, the sapphire growth substrate is removed by the substrate removing technology, and the InAlGaN layer is patterned and etched and a current injection type light emitting element is completed.例文帳に追加

ボンディングの後、サファイア成長基板(30)は、基板除去技術を使って除去され、その後それらのInAlGaN層がパターニング及びエッチングされて電流注入型発光素子が完成する。 - 特許庁

The phase shifting mask has a mask substrate substantially transparent to the energy beam used and a patterned phase shifting layer disposed on the mask substrate and having openings therein exposing the mask substrate.例文帳に追加

この位相シフト・マスクは、使用されるエネルギー・ビームに対しほぼ透明なマスク基板と、マスク上に付着されマスク基板を露出させる開口をその中に有するパターン化された位相シフト層とを備える。 - 特許庁

To improve an insulating property between adjacent first electrodes and reduce side-etched portions when a piezoelectric body layer is patterned by a wet etching method in an inkjet head manufacturing method.例文帳に追加

インクジェットヘッドの製造方法において、隣接する第1電極層間の絶縁性を向上させるとともに圧電体層をウェットエッチング法でパターニングする際におけるサイドエッチングされる部分を減らす。 - 特許庁

Then, the wiring layer 13 is patterned and wiring 13a is formed by performing dry etching by using chlorine gas with the auxiliary mask 15a and remaining photoresist 17a as the mask.例文帳に追加

つぎに、補助マスク15aおよび残留しているフォトレジスト17aをマスクとして塩素系ガスを用いたドライエッチングを行うことにより、配線層13をパタニングして配線13aを形成する。 - 特許庁

The suitable materials for the patterned metal layer 102 include, but are not limited to, platinum, molybdenum, tungsten, tantalum, nickel, titanium, copper, chromium, gold, aluminum, silver or other conductive materials appropriate for the operating temperature.例文帳に追加

パターン化金属層102に好適な材料には、限定はしないが、白金、モリブデン、タングステン、タンタル、ニッケル、チタン、銅、クロム、金、アルミニウム、銀、または動作温度に適合する他の導電性材料が含まれる。 - 特許庁

To provide a transfer sheet which keeps a patterned metal thin film excellent in corrosion resistance, wrinkles and adhesion defect hardly occur during producing and prevents wrinkles or cracks from occurring in a transfer layer under a high humidity environment.例文帳に追加

パターン化された金属薄膜が耐腐食性に優れ、製造時にシワや密着不良などが生じ難く、高湿度環境下で転写層にシワやひび割れが発生しない転写シートを提供する。 - 特許庁

By the above processes, the wiring layer 18 is patterned so that certain isolation is performed while installing the predetermined pattern in the predetermined region 10a which runs along the dicing line DL of the bottom of the opening 10w.例文帳に追加

こうして、所定のパターンを有しつつ、かつ開口部10wの底部のダイシングラインDLに沿った所定の領域10aで確実に分離するように、配線層18がパターニングされる。 - 特許庁

This decorative sheet for a flooring material is provided with a picture-patterned layer and a surface protecting layer in this order on a rigid film having at least a 100-500 μm thickness, where the rigid film has ≥1,000 MPa tensile modulus measured according to the provision of JIS K6734.例文帳に追加

少なくとも厚みが100〜500μmの硬質フィルム上に、絵柄模様層、及び表面保護層を順に有する床材用化粧シートであって、硬質フィルムのJIS K6734の規定に従って測定した引張り弾性率が1000MPa以上である床材用化粧シート。 - 特許庁

Then after placing a resist 27 on the polysilicon 7, the gate 7c and the gate oxide film 6 of the peripheral transistor 50 are patterned by using the resist 27 as a mask, and the electrode layer 7b of the second layer and the insulating film 5 are removed to form a contact hole 12.例文帳に追加

そして、ポリシリコン7の上にレジスト27を配置したのち、レジスト27をマスクとして、周辺トランジスタ50のゲート7c及びゲート酸化膜6をパターニングすると共に、2層目の電極層7b及び絶縁膜5を除去してコンタクトホール12を形成する。 - 特許庁

This decorative sheet for a flooring material is provided with a picture-patterned layer and a surface protecting layer in this order on a rigid film having at least a 100-500 μm thickness, wherein the rigid film has ≥1,000 MPa tensile modulus measured according to the provision of JIS K6734.例文帳に追加

少なくとも厚みが100〜500μmの硬質フィルム上に、絵柄模様層、及び表面保護層を順に有する床材用化粧シートであって、硬質フィルムのJIS K6734の規定に従って測定した引張り弾性率が1000MPa以上である床材用化粧シート。 - 特許庁

In the machining system of the capacitance type touch panel, two conductive layers are individually patterned by applying the laser beam to the conductive layers inside a preliminarily sticking transparent conductive film by using an adhesive layer having an ultraviolet ray absorbing layer.例文帳に追加

本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁

The coating composition can provide enhanced resolution of a patterned overcoated photoresist layer and includes the use of a low-activation temperature thermal acid generator, as well as, multiple thermal treatment to process a layer of the underlying coating composition.例文帳に追加

本発明の好ましいコーティング組成物および方法は、パターン化されたオーバーコートしたフォトレジスト層の解像度の向上を提供することができ、下地のコーティング組成物の層を処理するため、多重の熱処理と共に低活性化温度熱酸発生剤の使用を含む。 - 特許庁

An electrodeposition resist layer 107 is formed by electro-depositing an electrodeposition resist on the surface of the metallic film 106, the electrodeposition resist layer 107 is patterned by a photolithography, thus an electrodeposition resist pattern 171 is formed in the region facing the metallic pattern 141 of a mirror part 131.例文帳に追加

金属膜106の表面に電着レジストを電着することで、電着レジスト層107を形成し、電着レジスト層107をフォトリソグラフィーによりパターニングし、ミラー部131の金属パターン141と対向する領域に、電着レジストパターン171を形成する。 - 特許庁

An n^- type doped GaN diode of >1 μm thickness is arranged on the n^+ type doped GaN diode, patterned into a plurality of thin and long fingers, a metal layer is arranged on n^- type doped GaN layer, and a Schottky junction is formed in between them.例文帳に追加

1μmを超える厚さを有するn−型ドープしたGaNダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記n+型ドープGaNダイオード上に配設し、金属層をn−型ドープGaN層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a patterned medium which can efficiently fill magnetic substance deep into fine pores, even if a sputtering method is employed for filling the magnetic substance into the fine pores of a porous layer, has very few impurities and has a magnetic substance layer of a high coercive force.例文帳に追加

多孔質層の細孔への磁性体の充填にスパッタ法を用いても細孔の奥まで効率よく磁性体を充填することができ、不純物が極めて少なく、保磁力の高い磁性体層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 - 特許庁

The second AlAs layer 60 and first GaN layer 53 are patterned, a recess 53a and a projection 53b are formed, the surfaces of the first and second AlAs layers 59 and 60 are oxidized, and bottomand top-surface epitaxial masks 61 and 56 that are made of an oxide film are formed.例文帳に追加

第2のAlAs層60及び第1のGaN層53をパターニングして、凹部53aと凸部53bとを形成した後、第1,第2のAlAs層59,60の表面部を酸化させて、酸化膜からなる底面,頂面エピタキシャルマスク61,56を形成する。 - 特許庁

In addition, in a method of manufacturing a light-emitting device, the first substrate provided with the material layer which is patterned by the above method is irradiated with second light, whereby the material layer can be evaporated onto a third substrate which is a deposition target substrate.例文帳に追加

また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第1の基板に第2の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第2の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 - 特許庁

Since the catalyst layer absorbs the light ray of specific wavelength which cures the plating resist, the light ray hitting the plating resist does not cause halation at the interface with the catalyst layer and the plating resist is patterned into an accurate shape capable of forming a metal pattern into an accurate shape.例文帳に追加

メッキレジストを硬化させる特定波長の光線を触媒層が吸収するので、メッキレジストを露光する光線が触媒層との界面でハレーションを発生せず、メッキレジストを正確な形状にパターニングできるので金属パターンも正確な形状に形成できる。 - 特許庁

The method of fabricating the CMOS image sensor includes the steps of providing a substrate in which a predetermined process has completed; forming a patterned block layer on top of a region of the substrate where the photodiode is to be formed; using mask to implant ions into a remaining region except the region where the photodiode is to be formed, leaving the patterned block layer; and removing the mask.例文帳に追加

本発明のCMOSイメージセンサの製造方法は、所定の工程が完了した基板を用意するステップと、該基板のフォトダイオードの形成される領域の上部にパターニングされたブロック層を形成するステップと、該パターニングされたブロック層を残した状態で、前記フォトダイオードの形成される領域を除く残りの領域に対して、マスクを用いたイオン注入を行うステップと、前記マスクを除去するステップとを含む。 - 特許庁

The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加

また、第1の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第2のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第3のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁

After a poly-Si layer 4 is located on a silicon substrate 1 including an upper surface of a field-oxide film 3, the poly-Si layer 4 is patterned, thereby, the poly-Si layer 4a remains in a region constituting a gate electrode in a MOSFET-formed region and a poly-Si layer 4b also remains in a poly-Si resistive-element-formed region.例文帳に追加

フィールド酸化膜3の上を含むシリコン基板1の上にPoly−Si層4を配置したのち、Poly−Si層4をパターニングすることで、MOSFET形成領域のうちゲート電極を構成する領域においてPoly−Si層4aを残すと共に、Poly−Si抵抗体形成領域においてPoly−Si層4bを残す。 - 特許庁

In this lighting system 30, a positive electrode 303 constituted of a transparent electrode is patterned linearly, a luminous layer 311 and an alkaline earth metal layer 307 are laid all over the illumination area in top view, and a reflection electrode layer 308 and a photo-absorbing layer 309 are substantially conformed to the linear pattern of the positive electrode 303.例文帳に追加

照明装置30は、透明電極にて構成される陽極303を線状にパターニングして構成し、発光層311及びアルカリ土類金属層307を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層308及び光吸収層309を陽極303の線状パターンに略一致させて構成した。 - 特許庁

In this pneumatic radial tire, belt ply for forming a belt 2 wound on a crown part of a carcass 1 of a radial structure is formed by putting covering rubber 10 on a wire layer 9 formed by arranging a longitudinal wave wire 7 having an oval cross section, and patterned in a waveform bending in the minor axis direction, and a transverse wave wire 8 patterned in a waveform bending in the major axis direction.例文帳に追加

ラジアル構造のカーカス1のクラウン部に巻装されるベルト2を形成するベルトプライが、断面小判形で短軸方向に屈曲する波形に型付けした縦波ワイヤ7と長軸方向に屈曲する波形に型付けした横波ワイヤ8を配列して形成されたワイヤ層9に被覆ゴム10を被覆してなる空気入りラジアルタイヤ。 - 特許庁

A plane layer 2 in an adjacent region (B) under a forming region of a wiring pattern (T) 6 for measurement is so patterned that the percentage of residual copper matches that of the plane layer 2 in an adjacent region (A) under a forming region of a signal wiring pattern (S) 1 of a measuring object.例文帳に追加

測定用配線パターン(T)6の形成領域下の近傍領域(B)におけるプレーン層2は、その残銅率が、測定対象の信号配線パターン(S)1の形成領域下の近傍領域(A)におけるプレーン層2の残銅率と合うようにパターニングされている。 - 特許庁

To provide a thin film solar cell, and its fabricating method, in which the transparent electrode layer in a solar cell formed on one side of a substrate can be patterned without causing any damage on a thin film semiconductor layer and surface efficiency of the solar cell is enhanced while reducing the cost of fabrication process.例文帳に追加

基板片面形成型太陽電池における透明電極層のレーザパターニングを薄膜半導体層の損傷なしに可能とし、太陽電池の面積効率の向上および製造プロセスの低コスト化を図った薄膜太陽電池とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patch transfer medium which can easily transfer the patch onto a transfer object and which contains a hologram forming layer and a colored reflective patterned layer that enables authenticity judgement in simple manner in addition to abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of the medium even with many repeated uses.例文帳に追加

被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なホログラム形成層及び有色反射パターン層を有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁

After a conductor 30 is dry etched, a heater substance layer 22 is deposited on the upper part thereof and connected electrically with the conductor 30 and then the heater substance layer 22 is patterned by dry etching to form a heater 20.例文帳に追加

コンダクタ30をドライエッチングした後でその上部にヒータ物質層22を蒸着してコンダクタ30と電気的に連結し,かつ,このヒータ物質層22をさらにドライエッチングによってパターニングし,ヒータ20を形成することを特徴とする,インクジェットプリントヘッドおよび製造法が提供される。 - 特許庁

The inside of the through hole 5 which is formed in a recessed type wherein the copper foil 3 is made to be a bottom is filled with filling resin 7, the copper foil 3 is so patterned that a region in the copper foil 3 is positioned immediately above the filling resin 7 remains, a surface side wiring layer 8 is formed, and a build-up layer BU is formed.例文帳に追加

次に、銅箔3を底部とする凹状に形成されたスルーホール5内に充填樹脂7を充填したのち、、銅箔3の充填樹脂7直上の領域が残留するように、銅箔3をパターニングして表面側配線層8として、ビルドアップ層BUを形成する。 - 特許庁

In the electronic member 1, the circuit 30 with patterned metal body 31 is fixed to an insulating base material 10 via the bonding agent layer 20, and this bonding agent layer 20 placed in contact with the adjacent metal body 20 is divided with each other.例文帳に追加

本発明の電子部材1は、金属体31がパターン形成された回路30が接着剤層20を介して絶縁性基材10に固定されたものであり、隣接する金属体31に接する接着剤層20が互いに分断されていることを特徴とする。 - 特許庁

The terminals opposing each other are electrically connected by using a patterned conductive connecting material including a resin composition layer and a metal foil pattern layer formed by arranging solder foils or tin foils so as to have the same pattern as at least a part of a pattern formed by each end surface of a plurality of terminals.例文帳に追加

樹脂組成物層と、複数の端子の各端面が形成するパターンの少なくとも一部と同じパターンを有するように半田箔又は錫箔が配列されてなる金属箔パターン層とを含むパターン化導電接続材料を用いて対向する端子間を電気的に接続する。 - 特許庁

A flexible printed wiring board 1 is provided with a first polyimide system resin layer 3 to support a copper foil on one surface of the copper foil 2 patterned corresponding to the circuit, and a second polyimide system resin layer 5 to coat and protect the circuit on the other surface of the copper foil 2.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板1は、回路に応じてパターニングされた銅箔2の一方の面に銅箔2を支持する第1のポリイミド系樹脂層3が形成されるとともに、銅箔2の他方の面に上記回路を被覆して保護する第2のポリイミド系樹脂層5が形成されてなる。 - 特許庁

A layer (low-reflection layer) 3a with optical reflectivity lower than that of bus lines 4a, which is patterned in the same shape as the bus lines 4a, is provided so as to cover the bus lines 4a in a buffer film 3 formed between a viewing side glass substrate 2 and an insulating film 4 where the bus lines 4a are disposed.例文帳に追加

視認側のガラス基板2とバスライン4aを設けた絶縁膜4との間に形成したバッファ膜3に、バスライン4aと同形状にパターニングされた、バスライン4aよりも光反射率が低い層(低反射層)3aを、バスライン4aを覆うように設けている。 - 特許庁

This matter has a semi-transparent film 2, a base layer 4, which is formed on the film and shows black-based color, and a coating film 6, which is formed on the base layer and in which a pearl pigment is dispersed so as to be patterned that the pearl pigment density to the direction of a film thickness varies within a pattern.例文帳に追加

半透明のフィルム2と、フィルム上に形成された、黒色系の色を呈する下地層4と、下地層の上に、膜中にパール顔料が分散され、膜厚方向のパール顔料の濃度がパターン内で異なるようにパターニングされた塗工膜6とを有することを特徴とする。 - 特許庁

Namely, a polycrystalline silicon film 4 is first patterned similar to a conventional device, an Al film is formed on a layer insulating film 9 in contact with the polycrystalline silicon film, and heat treatment is then conducted to substitute a polycrystalline silicon film 4 in the layer insulating film 9 with Al.例文帳に追加

即ち、先ず従来と同様に多結晶シリコン膜4をパターン形成し、層間絶縁膜4上に多結晶シリコン膜と接触するようにAl膜を形成した後、熱処理することにより、層間絶縁膜9内の多結晶シリコン膜9をAlで置換する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium having a smooth surface and excellent signal characteristics and reliability without reducing corrosion resistance, even when tape burnishing is performed after protective layer formation and lubricant application on a magnetic recording layer having a discrete track formed thereon.例文帳に追加

ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The connecting terminal is manufactured by using a patterned conductive connecting material including a resin composition layer and a metal foil pattern layer formed by arranging solder foils or tin foils so as to have the same pattern as at least a part of a pattern formed by each end surface of a plurality of electrodes.例文帳に追加

また、樹脂組成物層と、複数の電極の各端面が形成するパターンの少なくとも一部と同じパターンを有するように半田箔又は錫箔が配列されてなる金属箔パターン層とを含むパターン化導電接続材料を用いて接続端子を製造する。 - 特許庁

Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.例文帳に追加

第2HCD−SiN膜9からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜(第3TiN膜13)を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム(構造体パターン)13aを形成する。 - 特許庁

The patterned optical waveguide is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and either one of them is formed of a silica-based compound, and the waveguide is characterized by the fact that the surface roughness (Ra) in the forwarding direction of light in the core portion is 0.4 μm or smaller.例文帳に追加

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁

A conductive layer 40 patterned next to the dielectric film 10 includes a plurality of conductive struts 41 which extend through the one or more through holes 11 aligned with the contact pads 22 and 23 and electrically connect the conductive layer 40 to the contact pads 22 and 23.例文帳に追加

誘電体膜10に隣接するパターン形成された導電層40は、コンタクトパッド22および23と揃えられた1つまたは複数のスルーホール11を通して延び、導電層40をコンタクトパッド22および23に電気的に結合する1つまたは複数の導電性支柱41を持つ。 - 特許庁

例文

Additionally, a patterned metallic layer 74 is formed on a dielectric cap layer 70 and at the inside of a through hole 72 to complete the interconnection structure.例文帳に追加

各々のサブモジュールは、上面上に設けられた部品接続パッドを有する少なくとも1個の電子部品と、該上面に結合されて部品接続パッドの特定のもの同士を相互接続する、少なくとも1つの相互接続層を有する第1の相互接続構造物とを含んでいる。 - 特許庁




  
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