「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The silicon layer (110) is masked with a mask sidewall that lies in parallel with the surface of the silicon layer (110), and is etched so as to remove unmasked portions and to leave the patterned silicon layer (110) having a vertical silicon sidewall (111).例文帳に追加

そして、シリコン（１１０）層面に平行なマスク側壁によってシリコン（１１０）層をマスキングし、そのマスクされていない部分を除去するためにシリコン（１１０）層をエッチングし、垂直シリコン（１１１）側壁を有するパターン形成されたシリコン（１１０）層を残す。 - 特許庁

A flexible circuit board 1 includes an insulation layer 2 having a first surface 2a and a second surface 2b facing away from each other, and a wiring layer 3 consisting of patterned conductors and arranged on the first surface 2a of the insulation layer 2.例文帳に追加

フレキシブル回路基板１は、互いに反対側に向いた第１の面２ａおよび第２の面２ｂを有する絶縁層２と、パターン化された導体よりなり絶縁層２の第１の面２ａ上に配置された配線層３とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing discrete track media and patterned media, which enables a magnetic recording layer having excellent magnetic characteristics to be obtained without imparting damage to a crystal orientation control layer which becomes a surface when forming the magnetic recording layer.例文帳に追加

磁気記録層を形成する際の表面となる結晶配向制御層にダメージを与えることなしに、優れた磁気特性を有する磁気記録層を得ることができるディスクリートトラック媒体およびパターンド媒体の製造方法の提供。 - 特許庁

After the edge property of the exposed photoresist layer is varied, an etching process is performed to the wafer by using the exposed photoresist layer as a mask, so as to make a patterned material layer having a uniform critical dimension formed on the wafer.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層のエッジプロパティを変化させた後、露光されたフォトレジスト層をマスクとして使用することによりウエハにエッチングプロセスを行い、ウエハ上に形成された均一な最小加工寸法を有するパターン化材料層を形成する。 - 特許庁

The method comprises a step for forming the thin film (220) to be patterned on a substrate (210), a step for forming an anti-reflective coating (ARC) layer (240) on the thin film (220), and a step for forming a mask layer (250) on the (ARC) layer (240).例文帳に追加

当該方法は、基板（２１０）上にパターニングされる薄膜（２２０）を形成する工程、その薄膜（２２０）上に反射防止コーティング（ＡＲＣ）層（２４０）を形成する工程、及びそのＡＲＣ層（２４０）上にマスク層（２５０）を有する工程を有する。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

The buffer layer is patterned, and the piezoelectric/electrostrictive layer is patterned according to the pattern of the buffer layer.例文帳に追加

単結晶基板上に配向成長させて形成されたバッファー層と該バッファー層上に配向成長させて形成された下電極層と該下電極層上に配向成長させて形成された圧電/電歪体層と該圧電/電歪体層上に形成された上電極層を有する圧電/電歪体素子構造体であって、該バッファー層がパターニング形成され、このパターニングに倣って該圧電/電歪体膜がパターニングされる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a laminate having a patterned metal film excellent in adhesion and in insulation properties between patterned metal films capable of easily performing plasma etching treatment of a plated layer.例文帳に追加

本発明は、被めっき層のプラズマエッチング処理を容易に実施することができる共に、密着性に優れたパターン状金属膜を有し、パターン状金属膜間の絶縁性に優れるパターン状金属膜を有する積層体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mask for patterning a thin film by which the thin film can be patterned without damaging an organic polymer film formed on a substrate, in the mask for patterning the thin film used when the thin film is patterned on the substrate on which the organic polymer layer is formed.例文帳に追加

有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、基板上に形成された有機高分子膜にキズをつけることなく、薄膜のパターン化が可能な薄膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing semiconductor includes a step for forming a substrate, a step for sticking a polysilicon layer on the substrate, a step for sticking the photoresist layer on the polysilicon layer, a step for patterning the photoresist layer, a step for sticking an inorganic material layer which is conformable and not photosensitive on the patterned photoresist layer, and a step for etching anisotropically the inorganic material layer and a semiconductor material layer.例文帳に追加

基板を形成するステップと、前記基板上にポリシリコン層を被着させるステップと、前記ポリシリコン層上にフォトレジスト層を被着させるステップと、前記フォトレジスト層をパターン形成するステップと、前記パターン形成したフォトレジスト層上に共形かつ非感光性の無機材料層を被着させるステップと、前記無機材料層および半導体材料層に異方性エッチングを施すステップとを含むことを特徴とする半導体製造方法である。 - 特許庁

To protect a contact hole against a connection failure, by a method wherein a barrier metal layer is prevented from being corroded in an after treatment process where resist is removed after a wiring layer is patterned.例文帳に追加

配線層のパターニングを行った後、レジストの除去等の後処理工程においてバリアメタル層が腐食されず、コンタクトホールの接続不良が防止された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, a gate insulating film, a semiconductor layer and a resistant contact layer are successively formed and thereafter a conductive film is laminated thereon and is patterned to form a data line having a source electrode, a drain electrode and an alignment key for color filters.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜、半導体層、及び抵抗性接触層を順に形成した後、導電膜を積層しパターニングして、ソース電極を有するデータ線、ドレーン電極、及び色フィルター用整列キーを形成する。 - 特許庁

To provide an electroconductive base material for plating, from which a conductor layer pattern being patterned and free from plating burning and a base material with the conductor layer pattern can be manufactured with good productivity and which itself can be easily produced.例文帳に追加

パターニングされ、めっき焼けのない導体層パターン及び導体層パターン付き基材を生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材を提供する。 - 特許庁

An amorphous silicon layer is patterned to form a filtering channel 63 for connecting an active layer region containing a crystallization source region 60, a source region 64, a channel region under a gate electrode 65, and a drain region 66.例文帳に追加

アモルファスシリコン層をパターニングし、結晶化ソース領域６０とソース領域６４、ゲート電極６５下部のチヤネル領域、及びドレイン領域６６を含む活性層領域を連結するフィルタリングチャンネル６３を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 has an insulating substrate 10 where a patterned insulating layer 40 and a conductive layer 50 are formed, and the two semiconductor elements (semiconductor chips) 21 and 22 stacked on the insulating substrate 10.例文帳に追加

半導体装置１は、パターニングされた絶縁層４０および導電層５０とを成膜した絶縁基板１０と、この絶縁基板１０上に積層された２枚の半導体素子（半導体チップ）２１、２２とを有している。 - 特許庁

When the head substrate is produced, the laminated member, wherein an ink guide forming scheduled region and a sacrifice layer 70 are alternately laminated, is subjected to an etching treatment for once to be patterned into a prescribed shape to remove the sacrifice layer 70.例文帳に追加

また、ヘッド基板を作製する際、インクガイドの形成予定領域と犠牲層７０とを交互に積層した積層部材を、１度のエッチング処理で所定の形状にパターニングした後、犠牲層７０を除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent plating resistance when used for forming a cured material layer on a patterned surface resin layer formed on a substrate with a formed circuit.例文帳に追加

回路形成済基板上に形成されているパターニングされた表面樹脂層上に硬化物層を形成するために用いられたときに、十分に優れためっき耐性が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A nitride based III-V compound semiconductor mixed crystal layer such as an n-type AlGaN layer 23 is grown on a substrate such as a (c) surface sapphire substrate 21 and is patterned to form a seed crystal.例文帳に追加

ｃ面サファイア基板２１などの基板上に例えばｎ型ＡｌＧａＮ層２３のような窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体混晶層を成長させ、これをパターニングして種結晶を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing processes of an active matrix type thin film transistor element substrate, a gate insulating film, a semiconductor layer and an electrode layer for forming video signal wiring and a drain electrode are formed in film forms after a gate electrode is patterned.例文帳に追加

アクティブマトリックス型薄膜トランジスタ素子基板の製造工程において、ゲート電極をパターンニング後、ゲート絶縁膜と、半導体層と、映像信号配線とドレイン電極を形成するための電極層を成膜する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a three-dimensional semiconductor circuit, a conductive layer possessing a doped polysilicon layer at its upper part is formed, patterned, and annealed for the formation of the first single grain polysilicon terminal 16 of a semiconductor device.例文帳に追加

三次元半導体回路の製造方法は、ドープ・ポリシリコンを上側に有する導電層（１３）を設け、パターニングし、アニールすることによって、半導体素子の第１単粒子ポリシリコン端子（１６）を形成する。 - 特許庁

To provide a display for enhancing image quality by forming a pixel electrode without being affected by a semiconductor layer, while provided with the semiconductor layer divided by film formation on a partitioning wall and patterned finely.例文帳に追加

隔壁上からの成膜によって分断され、微細化パターニングされた半導体層を備えながら、半導体層に影響されずに画素電極を形成できることで画質の向上が図られた表示装置を提供する。 - 特許庁

A pad layer 20 and a barrier layer 30 are formed on a substrate, these pad layers are patterned so as to form a trench opening and are etched through the trench opening and a trench 12 is formed on the substrate 10.例文帳に追加

基板上にパッド層２０及びバリア層３０を形成し、これらパッド層２０等をトレンチ開口部を形成するようにパターン化し、トレンチ開口部を通じてエッチング処理し、基板１０にトレンチ１２を形成する。 - 特許庁

The magnetic recording medium is provided with a substrate 2a, the magnetic recording layer 2b provided on the substrate 2a and magnetic flux guide materials 2c, 2c.. formed on the magnetic recording layer 2b to be patterned in a prescribed pattern and including at least a soft magnetic body.例文帳に追加

基体２ａと、基体２ａ上に設けられた磁気記録層２ｂと、磁気記録層２ｂ上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・とを備える。 - 特許庁

Inverting the PXLED to expose the pattern of the masking layer or using the Talbot effect to create an aligned second patterned masking layer allows the formation of PXLEDs with low defect density.例文帳に追加

マスク層のパターンを露出させるためにＰＸＬＥＤを逆にするか、又は、「タルボット」効果を用いて整列した第２のパターン化マスク層を作り出すことにより、欠陥密度の低いＰＸＬＥＤを形成することができる。 - 特許庁

Then, a green emission layer and a blue emission layer having electron transportation property are sequentially patterned by a transfer method, on the heat-treated surface above the lower electrode 3, of the other pixel in those pixels.例文帳に追加

その後、各画素のうちの他の画素における下部電極３の上方の加熱処理された面上に、電子輸送性の緑色発光層および青色発光層を、転写法によって順次パターン形成する。 - 特許庁

To speedily eliminate copper and to minimize the loss of copper in a patterned interconnected body without eliminating a metal layer and a dielectric layer at a lower side or corroding copper.例文帳に追加

本発明は、下側の金属層及び誘電体層を除去することなく、又は銅を腐食することなく、銅の高除去速度を実現し、そしてパターン化された相互接続体内の銅の消失を最小にする。 - 特許庁

A thin film layer such as a luminescent layer of the electroluminescent element is patterned by discharging a liquid material on a substrate 1 while scanning a nozzle part 2 as shown by an arrow by a coating applicator having the nozzle part 2.例文帳に追加

ノズル部２を備えた塗布装置により、ノズル部２を矢印で示すように走査しながら基板１上に液状材料を吐出することで、電界発光素子の発光層等の薄膜層をパターニングする。 - 特許庁

To provide a patterned optical waveguide which is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, either one of layers of which is formed with a silica-based compound, and has an excellent polarized wave dependability.例文帳に追加

、下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか１層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって偏波依存性に優れた光導波路に関する。 - 特許庁

A release layer for controlling the position of a boundary defect formed during film growing is formed and patterned on the base substrate (step 1020), and the low defect density film is grown on the release layer (step 1060).例文帳に追加

膜成長の間に形成される境界欠陥の位置を制御するためのリリース層をベース基板に生成且つパターニングし（ステップ１０２０）、リリース層上に低欠陥密度膜を成長させる（ステップ１０６０）。 - 特許庁

By etching the laminated layer using the plug consisting of the third metal film 111 and the first patterned interlayer insulating film 107 as a mask, a metal wiring composed of the laminated layer is formed.例文帳に追加

前記積層膜に対して、第３の金属膜１１１からなるプラグ及びパターン化された第１の層間絶縁膜１０７をマスクにしてエッチングを行なって、前記積層膜からなる金属配線を形成する。 - 特許庁

The test strip 100 additionally has a second electrically conductive layer 120 including a second working electrode disposed above the second patterned spacer layer, a second insulating layer 122 disposed above the second electrically conductive layer, a first analyte reagent layer 106 disposed on the first working electrode within the first sample-receiving chamber, and a second analyte reagent layer 118 disposed on the second working electrode within the second sample-receiving chamber.例文帳に追加

第二パターンスペーサー層の上に配置された第二作用電極を備える第二導電層１２０、第二導電層の上に配置された第二絶縁層１２２、第一試料受け取り室内の第一作用電極の上に配置された第一検体試薬層１０６、及び第二試料受け取り室内の第二作用電極の上に配置された第二検体試薬層１１８を有する。 - 特許庁

The printed circuit board (110) comprises a conductive layer (20), a via (10) traversing the conductive layer, and a patterned conductive material (200) having a plurality of voids (210) in the vicinity of the via of the conductive layer.例文帳に追加

本発明の一実施例では、導電層（２０）と、前記導電層を横断するバイア（１０）と、前記導電層の前記バイアの近くに複数の空隙（２１０）を有する、あるパターンをなす導電材料（２００）とを具備する、印刷回路基板（１１０）が与えられる。 - 特許庁

The pressure-sensitive transfer tape 8 for ornament is constituted by forming the metal deposit layer 2 on the base material 1 via the demolding layer and further forming the pressure-sensitive adhesive layer 3 so as to pattern the patterned characters, the signals, the pictures, the patterns, the halftone dots, the figures and the others on the same by printing.例文帳に追加

装飾用感圧転写テープ８は基材１上に離型層を介して金属蒸着層２が形成され、さらにその上に感圧接着層３が印刷によって、パターン化された文字、記号、絵柄、模様、網点、図形等を型取るよう形成されている。 - 特許庁

To prevent a cross sectional shape of an upper patterned layer film from being tapered, even when the number of processings is increased, in the case that a laminated film having a lower layer film mainly comprising silicon and an upper layer film mainly comprising tungsten or tungsten compound is etched.例文帳に追加

シリコンを主成分とする下層膜と、タングステン又はタングステン化合物を主成分とする上層膜とを有する積層膜に対してエッチングする場合に、処理数が増加しても、パターン化された上層膜の断面形状がテーパ状にならないようにする。 - 特許庁

A mask 11 having an aperture part patterned equally to a pattern of a hole transport layer is arranged on a substrate 1 upper face, and from the upper face of the mask 11, a solution or a dispersion liquid of a material constituting the hole transport layer is sprayed and dried up for forming the hole transport layer.例文帳に追加

正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を基板１上面に配置し、マスク１１上面より正孔輸送層を構成する材料の溶液または分散液を噴霧し、乾燥して前記正孔輸送層を形成する。 - 特許庁

Therein, a photosensitive core material layer is formed in a groove shape, is exposed by chemical rays that transmit a second gray scale mask, is patterned, is developed to define a core element.例文帳に追加

そして、感光性コア材料層が溝状に形成され、第２グレースケールマスクを通過した化学線にさらされてパターニングされ、現像され、コアエレメントを規定する。 - 特許庁

A Cu-plated film 3 is patterned on an lumina substrate 1 with a base layer in between, and a first Ni-plated film 4 is stacked on the Cu-plated film 3.例文帳に追加

アルミナ基板１上に下地層２を介してＣｕメッキ膜３がパターン形成されており、Ｃｕメッキ膜３上に第１のＮｉメッキ膜４が積層されている。 - 特許庁

The conductive film 8, in which a conductive layer part is patterned, is constructed of an insulating resin sheet 14 and a predetermined-shape conductor 15 arranged on a sheet 14.例文帳に追加

導電性フィルム８は、導電層部分がパターン化されたもので、絶縁性の樹脂シート１４と、シート１４上に設けられた所定形状の導電体１５とからなる。 - 特許庁

To provide a method for film forming an accurately patterned organic semiconductor layer, using a simple process, and to provide a method for manufacturing an organic thin-film transistor.例文帳に追加

精度良くパターニングした有機半導体層を簡単な工程で形成する有機半導体層の成膜方法、有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for an optical element, an Si thin film is coated on a substrate 10, the Si thin film is patterned to form thin films 120a, 120b together for each layer constituting an optical element.例文帳に追加

基板１０の表面にＳｉ薄膜を着膜し、Ｓｉ薄膜をパターニングして光学素子を構成する各層の薄膜１２０ａ，１２０ｂを一括して形成する。 - 特許庁

The moisture-permeable waterproof fabric includes a patterned moisture-permeable waterproof layer on one side thereof, and a mass of projections formed on the uppermost surface of the one side.例文帳に追加

片面側に、図柄が付された透湿防水層を有し、当該片面側の最表面に突起群が形成されていることを特徴とする透湿防水性布帛。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing a conductive material, which can produce the conductive material having a patterned fine conductive metal layer with high efficiency.例文帳に追加

パターニングされた微細な導電性金属層を有する導電性材料を高効率で生産可能な導電性材料の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

A first coating layer is formed of a metallic material other than copper on the bonding pad pattern and then a plurality of patterned plates are stacked thus forming a stacked package.例文帳に追加

そのボンディングパッド用パターンに銅以外の他の金属材料により第１コーティング層を形成して、複数のパターン形成板を夫々積層して積層体を形成する。 - 特許庁

An optical film 140 is formed by transferring the patterned film 1 and a light reflecting film is formed by vapor-depositing a light reflecting layer on the optical film 140.例文帳に追加

この型フィルム１を転写することによって、光学フィルム１４０が作成され、この光学フィルム１４０に光反射膜を蒸着して光反射フィルムが作成される。 - 特許庁

A resist layer is patterned with a stripe shape on a conductive substrate, exposed, electric nickel plating is conducted to an exposed conductive substrate part, then the conductive substrate is peeled off to manufacture a shadow mask.例文帳に追加

導体基板に、レジスト層をストライプ形状にパターニングし、露出した導体基板部分に電気ニッケルめっき法を施し、導体基板を剥離して、シャドウマスクを製造する。 - 特許庁