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patterned layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1139件
The semiconductor device includes: a semiconductor wafer 1; an Al-Si metal layer 2 which is patterned on the wafer 1 and provides a plurality of concaves 9 on the top surface; an oxide film 11 which is formed at the section to which the layer 2 and the wafer 1 are exposed; and Ni plated film 3 and Au plated film 4 which are formed to fill the concaves 9 through the film 11 on the layer 2.例文帳に追加
半導体ウエハ1と、半導体ウエハ1上にパターンニングして形成され最表面に複数の凹部9が形成されたAl−Si金属層2と、Al−Si金属層2上と半導体ウエハ1が露出した箇所上に形成された酸化膜11と、Al−Si金属層2上に酸化膜11を介して各凹部9を埋め込むように形成されたNiめっき膜3およびAuめっき膜4とを備える。 - 特許庁
The manufacturing method of an element contains a plurality of patterning processes patterning a layer structuring an element on a flexible board 10 as well as forming alignment marks 16, 26 simultaneously, and further, a process patterning another layer selecting an alignment mark formed in some process in the above plurality of patterning processes based on the selected alignment mark when another layer structuring the element is patterned.例文帳に追加
可撓性基板10上に素子を構成する層をパターニングすると同時にアライメントマーク16,26を形成するパターニング工程を複数回含み、さらに、前記素子を構成する別の層をパターニングするときに、前記複数回のパターニング工程において形成したアライメントマークのうち、いずれかの工程で形成したアライメントマークを選択し、該選択したアライメントマークに基づいて前記別の層のパターニングを行う工程を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for simultaneously realizing a patterning technique capable of forming a large area pattern at a low cost and a fine patterning technique capable of forming a small feature pattern as a method for forming a patterned thin film layer for IC that can be utilized in manufacture of a large area electronic device.例文帳に追加
大面積の電子装置の製造に利用できるパターニングされたIC用薄膜層の形成方法として、安価に大面積のパターンを形成できるパターニング技術と、小さな特徴パターンを形成できる微細パターニング技術と、を同時に実現する方法を提供する。 - 特許庁
The display element for displaying a prescribed shape is composed of an organic electroluminescence element provided with an element main part in which a transparent anode 2, a light-emitting layer 4, and a cathode 6 patterned into the same shape as the prescribed shape are laminated on a transparent insulating substrate 1 in this order.例文帳に追加
所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、発光層と、該所定形状と同じ形状にパターニングされた陰極とがこの順序で積層された素子主要部を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁
With regard to layers 11, 12 to be patterned before the layer 12 is formed that contains such interconnections as to exercise a substantial influence on behavior of the semiconductor device 10 if there is a difference between elements in parasitic capacity values depending on positional relationship with other interconnections, these layers are formed by batch exposure.例文帳に追加
他の配線との位置関係によって生じる寄生容量の値に素子間で差があると半導体装置10の動作に実質的な影響を与えるような配線を含む層12以前にパターン形成する層11、12については一括露光でパターン形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing a photoelectric conversion device further includes a step for forming a removal part 8 by removing a portion of the membrane 3a and then patterning the membrane 3a, and a step for forming a light absorption layer 3 equipped with the removal part 8 by calcining the membrane 3a thus patterned.例文帳に追加
さらに、この光電変換装置の製造方法では、皮膜3aの一部を除去して除去部8を形成し、皮膜3aをパターニングする工程と、パターニングした皮膜3aを焼成して、除去部8を備えた光吸収層3を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
To provide a transparent conductive base material having superior transparency and high conductivity formed by a low-cost and simple ink coating method and including a patterned transparent conductive layer excellent in film strength and film resistance stability with inconspicuous and hardly visible patterns, as well as a manufacturing method thereof.例文帳に追加
低コストかつ簡便なインク塗布法を用いて形成される良好な透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度と膜抵抗安定性に優れ、パターンが目立たず、視認しにくいパターン透明導電層を有する透明導電性基材、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The positive photosensitive resin composition is applied onto the interlayer insulating film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, dried, irradiated with light through a mask patterned to form windows 6c in predetermined parts, and developed with an aqueous alkali solution to form a pattern.例文帳に追加
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜4及び第2導体層7上に塗布、乾燥し、所定部分に窓6Cを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁
In the liquid crystal panel 10 for display, the layer thickness of resin 30 is made uniform by extending a 1st polarizing plate 15 arranged on the side of a surface laminated on a patterned optical retardation plate 20 to the reverse side of a display driver terminal 11, i.e. the formation area of the resin 30.例文帳に追加
表示用液晶パネル10において、パターン化位相差板20との貼り合わせ面側に配置される第1の偏光板15を、表示ドライバ端子11の裏側、すなわち、樹脂30の形成領域にまで延在させ、樹脂30の層厚を均一化させる。 - 特許庁
Thus, in the nano-carbon material composite substrate, since the nano-carbon material is generated and patterned only in the catalyst layer exposed through the opening to dispose the nano-carbon material in it, an electric field is liable to concentrate and it is expected to exhibit excellent electron emission characteristics.例文帳に追加
このため、本発明のナノ炭素材料複合基板は、開口部により露出された触媒層にのみナノ炭素材料が生成されており、パターニングされてナノ炭素材料が配置されることから、電界が集中しやすく、優れた電子放出特性が発揮されることが期待できる。 - 特許庁
A layer of a photoresist 2 is formed on the surface of a base 1 made of a metal material and the photoresist 2 is patterned by exposure and development subsequent thereto through a photomask 4 having a desired pattern presented by dots.例文帳に追加
金属材料からなる基材1の表面にフォトレジスト2の層を形成し、網点で所望の絵柄を表現してなるフォトマスク4を介しての露光とそれに続く現像によりフォトレジスト2をパターニングし、腐食液を用いて基材1の露出部分をハーフエッチングした後、フォトレジスト2を残したままにする。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device in which a floating gate electrode itself is patterned easily, in addition, patterning performance is improved and yield in wiring is not degraded, even in patterning of an upper layer such as a subsequently formed control gate electrode; and a method for fabricating the device.例文帳に追加
フローティングゲート電極そのもののパターニングを容易にすると共に、その後に形成されるコントロールゲート電極など上層のパターニングにおいても、パターニング性能の向上及び配線歩留まりの低下を防ぐことができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the waveguide type optical device by which the core layer consisting of a polymer is patterned by dry etching to form the optical waveguide is characterized in that first, second and third etching gases used in respective steps have compositions respectively different from each other.例文帳に追加
ポリマーからなるコア層を、ドライエッチングによってパターニングし光導波路とする導波路型光デバイスの製造方法であって、各工程に用いられる第1、第2、及び第3のエッチングガスが、それぞれ異なる組成であることを特徴とする導波路型光デバイスの製造方法である。 - 特許庁
The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加
非晶質シリコン膜12aは、フォトリソグラフィ処理でWaの3倍の幅寸法45nmでパターニングされるが、スリミング技術で30nmに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜15に変質させ、これによって寸法がWaである15nmに形成される。 - 特許庁
The VCM includes a set of magnetic sensing elements; a lens carrier physically connected to the set of magnetic sensing elements for placing a lens; a pedestal; a set of printed circuit boards (PCB) fixed onto the pedestal; and a flat coil formed on a patterned metal layer on the set of PCB so as to face the magnetic sensing elements.例文帳に追加
VCMは、一組の感磁素子と、一組の感磁素子に剛結合され、レンズを載置するレンズキャリアと、台座と、台座に固設される一組のプリント回路基板(PCB)と、一組のPCBにあるパターン化金属層において、感磁素子に対向するように形成されるフラットコイルとを含む。 - 特許庁
The positive photosensitive resin composition is applied on the interlayer insulation film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, the composition is dried and irradiated with light through a mask patterned so as to form a window 6C in a predetermined portion, and a pattern is formed by development with an alkaline aqueous solution.例文帳に追加
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜4及び第2導体層7上に塗布、乾燥し、所定部分に窓6Cを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁
The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9.例文帳に追加
この高伝導化プリント基板1は、中空導体構造よりなり、絶縁基材2の外表面にパターニングされた銅箔パターン4と、銅箔パターン4を被覆する導体被膜9と、銅箔パターン4と導体被膜9間に形成された発泡中空層7とを、少なくとも有している。 - 特許庁
A first metal film 12A made of an indium tin oxide (ITO) and a second metal film 15 made of Al are successively laminated by vapor deposition on an organic EL layer 13, a photoresist 16 is applied on the second metal film 15, then the photoresist 16 is patterned to a mask pattern of an anode electrode by exposing and developing the photoresist 16.例文帳に追加
有機EL層13の上に、ITOでなる第1金属膜12A、Alでなる第2金属膜15を順次蒸着により積層させ、第2金属膜15の上にフォトレジスト16を塗布し、露光・現像してフォトレジスト16をアノード電極のマスクパターンにパターニングする。 - 特許庁
After a chamber plate 30 provided for a thin metal plate and a diaphragm 10 are bonded integrally with an etching stop layer, i.e., a thin protective film 20, the chamber plate 30 is patterned through a lithography process and an etching process thus forming a large number of chambers of uniform size and interval in the chamber plate 30.例文帳に追加
金属材の薄板に備えられるチャンバー板及び振動板をエッチング停止層である保護薄膜と一体に結合した後、チャンバー板をリソグラフィ工程とエッチング工程とによってパターニングして、チャンバー板には多数のチャンバーが均一の大きさと間隔に形成されるようにする。 - 特許庁
When installing the dielectric body and barrier ribs on the glass board 12, the material of dielectric body is placed on the top layer of the electrode, and thereon the material for the barrier ribs is placed, and after formation of the barrier rib pattern, the material of dielectric body and the patterned material of the barrier ribs are subjected to a baking process simultaneously.例文帳に追加
他方の基板ガラス12に、誘電体と隔壁と設けるに際し、電極の上層に誘電体材料を配置し、更に誘電体材料の上層に隔壁材料を配置し、隔壁パターン形成後、それら誘電体材料とパターン化した隔壁材料とを同時に焼成する。 - 特許庁
Dummy resistances 1 also serving as a part of outer conduction electrodes 6 are provided along the lengths of patterned upstream and downstream temperature measuring resistance elements 4a, 4b crossing a fluid flowing direction (X) on a thin film layer 3 above a space 2 of a base.例文帳に追加
流体流れ方向(X方向)と交差して基台の空間部2上の薄膜層3上にパターン形成された上流側及び下流側の測温抵抗エレメント4a及び4bの長さ方向に沿って、外部導通用電極部6の一部を兼ねる擬似抵抗体1を設ける。 - 特許庁
In the liquid crystal panel 10 for display, the layer thickness of resin 30 is made uniform by extending a first polarizing plate 15 arranged on the side of a surface laminated on a patterned optical retardation plate 20 to the reverse side of a display driver terminal 11, i.e, the formation area of the resin 30.例文帳に追加
表示用液晶パネル10において、パターン化位相差板20との貼り合わせ面側に配置される第1の偏光板15を、表示ドライバ端子11の裏側、すなわち、樹脂30の形成領域にまで延在させ、樹脂30の層厚を均一化させる。 - 特許庁
To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.例文帳に追加
回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁
To provide a patch transferring medium having a patterned cholesteric liquid crystal layer, with which a patch can be easily transferred to a transferee, which has abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of a medium even after the several times of repeated use and, in addition, by which easily authenticity can be determined, and further which has a hologram.例文帳に追加
被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なパターニングされたコレステリック液晶層、さらには、ホログラムを有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁
A patterned Ti/Au film and a Ti/Au connecting conductor are formed on the magnetic thin film, a polyimide film of thickness 10 μm, and Cu coils each of height 35 μm, width 90 μm, and space 25 μm and a polyimide layer filling a space between the Cu coils are formed thereon.例文帳に追加
この磁性薄膜上にパターニングされたTi/Au膜とTi/Auの接続導体が形成され、その上に10μm厚のポリイミド膜と、高さ35μm、幅90μm、スペース25μmのCuコイルとCuコイル間のスペースを充填したポリイミド層が形成される。 - 特許庁
Before forming a patterned lower electrode and a first wiring layer, that is, in a state where a first conductive film is formed on the entire surface, an insulation film for capacitance formation and a second conductive film are successively deposited, then patterning is performed and an upper electrode and a capacitive insulation film are formed.例文帳に追加
パターニングされた下部電極及び第1の配線層を形成する前に、つまり第1の導電膜が全面に形成されている状態で、容量形成用絶縁膜及び第2の導電膜を順次堆積した後、パターニングして上部電極及び容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁
Therein, a photo-curable resin is patterned according to a photolithography method and is cured, thereby, the seal material 26 is formed and a liquid crystal material for forming the liquid crystal layer 25 is injected to the inside of the seal material 26 to manufacture the liquid crystal display panel 1.例文帳に追加
そして、光硬化性樹脂をフォトリソグラフィー法によってパターニングして、光硬化性樹脂を硬化させることにより、シール材26を形成し、シール材26の内側に液晶層25を形成する液晶材料を注入することにより、液晶表示パネル1が製造される。 - 特許庁
A system includes a magnetic recording medium having a magnetic layer with features in a discrete track configuration or a bit patterned configuration and an underlayer adjacent to the magnetic layer, the underlayer comprising a material capable of forming surface plasmon resonance; and a magnetic head having: a writer for writing to the medium; and a near-field transducer for heating the medium for thermally assisted recording.例文帳に追加
システムは、ディスクリートトラック構成またはビットパターン構成の特徴部を備える磁気層、および磁気層に隣接した下地層であって、表面プラズモン共鳴の形成が可能な材料を有する下地層を有する磁気記録媒体と、磁気ヘッドであって、媒体に書き込むための書込部および熱アシスト記録のために媒体を加熱する近接場トランスデューサを有する磁気ヘッドとを含む。 - 特許庁
To provide a method for forming a metal oxide thin film pattern by applying a photosensitive metal-organic material precursor solution onto a substrate without using a photosensitive prepolymer resin and directly patterning a coating film layer of the applied solution by a nanoimprint system and to provide the metal oxide thin film pattern patterned directly by this forming method and a method for producing an LED element including a photonic crystal layer by using this forming method.例文帳に追加
本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むLED素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The wiring board includes: a base material 12 formed of an insulating resin material; a substrate layer 16 formed on a surface of the base material, comprising a material prepared by mixing metal particles 20 and a binder resin, the metal particles serving as a plating catalyst, and patterned to form a pattern corresponding to a wiring pattern; and a metal film deposited on the substrate layer by plating to form the wiring pattern 18.例文帳に追加
配線基板は、絶縁性を有する樹脂材料で形成された基材12と、めっきの触媒となる金属粒子20とバインダ樹脂とを混合した材料により基材の表面に形成され、配線パターンに対応してパターン化された下地層16と、下地層上にめっきにより析出され配線パターン18を形成する金属膜と、を備えている。 - 特許庁
The color filter is characterized by comprising coloring pixels 14 disposed on a transparent substrate 10 and patterned with a plurality of colors and having a dot pattern with a number of parts where no coloring part constituting the coloring pixel exist (transparent non-coloring parts 16) formed inside at least a certain segment in the pixel in the layer thickness direction or in the layer formation direction of the coloring pixel.例文帳に追加
透明基板10上に設けられた複数色パターン化されている着色画素14中の一画素内の少なくとも一部の領域内に、着色画素の層厚み方向又は層形成面方向に着色画素を構成する着色部が存在しない部分(透明無着色部16)を多数有する網点状パターンが形成されていることを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁
The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.例文帳に追加
抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも(a)絶縁性基板1上にパターニングされた抵抗層2を形成する工程、(b)前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン3を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁
To provide an organic EL element and an organic EL display which are superior in display quality in which organic light-emitting layer is made to emit light by forming a hole transport layer only on a pixel electrode which is patterned on the substrate, where light emission unevenness due to omission of printing is less at the brim part where a barrier rib and a pixel electrode contact.例文帳に追加
有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機ELディスプレイパネルにおいて、基板上にあるパターニングされた画素電極上のみに正孔輸送層を形成し、隔壁と画素電極が接する縁部の印刷抜けによる発光ムラの少ない、表示品位のすぐれた有機EL素子及び有機ELディスプレイを提供する。 - 特許庁
In forming a thin film comprising catalyst metal particles on the surface of a substrate and growing carbon nanotubes on the thin film by chemical vapor deposition by using the catalyst particles on the thin film as nuclei, a specifically patterned chromium layer that prevents carbon nanotube growth is interposed between the substrate and the thin film to allow the carbon nanotubes to grow on only an area where no thin film chromium layer is present.例文帳に追加
基板表面に触媒金属粒子からなる薄膜を形成し、該薄膜の触媒粒子を核として薄膜上に化学蒸着法によりカーボンナノチューブを成長させるに当たり、基板と上記薄膜の間に、カーボンナノチューブの成長を阻止するクロム層を所要パターンで介在させることにより、薄膜のクロム層非介在部のみにカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁
The exposed photoresistor is developed, and the vacuum-deposited two layers of gold (platinum) and titanium (chromium) around the patterned photoresistor are etched in order, and then the desired pattern surface is made smooth by etching the glass surface, and after removing titanium (chromium) and gold (platinum), a nickel plating layer is laminated on a glass substrate, and the nickel plating layer is released from a mold to produce a master.例文帳に追加
露光された前記フォトレジスタを現像し、2層に真空蒸着されたゴールド(白金)、チタニウム(クロム)をパターニングされたフォトレジスタを中心に順次にエッチングした後、ガラス表面をエッチングして所望のパターン表面を滑らかにし、チタニウム(クロム)、ゴールド(白金)を除去してからガラス基板にニッケル鍍金層を積層し、ニッケル鍍金層を離型させてマスターを製作する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the multilayer board, a conductive wiring layer 14 formed by patterning a conductive film 13 is laminated via an insulating film 12, a circular confirmation hole 14 is provided in the conductive film 13 laminated first, the position of the confirmation section 14 is recognized, and the second wiring layer 18 or thereafter is patterned.例文帳に追加
本形態の多層基板の製造方法は、導電膜13をパターニングすることで形成された配線層14が絶縁膜12を介して積層される多層基板の製造方法において、最初に積層される導電膜13に円形の確認孔14を設け、この確認部14の位置を認識してから、2層目以降の配線層18のパターンニングを行う構成に成っている。 - 特許庁
When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with vacuum UV, a polymeric material having at least one saturated alicyclic n-membered ring (the number (n) of carbon atoms constituting the ring being an even number) and containing fluorine substituents introduced to two or more carbon atoms, constituting the ring and arranged with every other position being used as a polymeric material constituting the resist layer.例文帳に追加
真空紫外線でレジスト層を選択的に露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、飽和n員環(但し、環を構成する炭素原子数nは偶数である。)である脂環を少なくとも1つ有し、当該脂環を構成し且つひとつ置きに配置される少なくとも2以上の炭素原子にフッ素置換基が導入された高分子材料を用いる。 - 特許庁
Concerning the multilayer wiring board for semiconductor device (for package), with which multi-layers are wired by multiple insulator layers 131-135 and the wiring layer composed of multiple patterned conductive layers, a power source pattern (wiring) 127 similar to signal wiring 121 and 122 or ground pattern (wiring) 125 similar to signal wiring is located through the insulator layer while being paired along with signal wiring.例文帳に追加
複数の絶縁体層131〜135と、複数層のパターン化された導電層からなる配線層により、多層にして配線を設けた、半導体装置用(パッケージ用)の多層配線基板であって、信号配線121,122に相似な電源パターン(配線)127あるいは信号配線に相似なグランドパターン(配線)125を、絶縁体層を介して、信号配線に沿うように対をなして、配設している。 - 特許庁
For the purpose of reducing the short-circuit defects between wirings and enhancing the yield in the manufacturing stage, the semiconductor layer is patterned utilizing the dry etching construction method, then etched by using dilute HF before a thin film is deposited in the next stage to remove the polymer generated at the time of patterning of the semiconductor layer.例文帳に追加
半導体層のパタンニング時に発生するポリマを除去し、ショート不良を低減し製造工程における歩留まりの向上を達成するために、半導体層のパタンニングをドライエッチ工法を利用して行い、エッチングした後、次の薄膜堆積前に希HFにてエッチングすることによって、半導体層のパタンニング時に発生するポリマを除去し、配線間のショート不良を低減し製造工程における歩留まりの向上につなげる。 - 特許庁
To provide a reliable organic EL element by entirely transferring a patterned ink present on an blanket onto a printed board when forming a pattern of an organic light emitting layer by printing an organic light emitting ink in which an organic light emitting material is dissolved or stably dispersed in a solvent onto the substrate by offset printing, using the blanket for offset printing of which a print surface is a silicon rubber layer.例文帳に追加
印刷面がシリコーンゴム層であるオフセット印刷用ブランケットを用いて、有機発光材料を溶剤中に溶解又は安定して分散させてなる有機発光インキをオフセット印刷法にて基板上に印刷し有機発光層をパターン形成する際に、ブランケット上にあるパターン化されたインキを被印刷基板に対して全て転写させ、信頼性の高い有機EL素子を得ることを目的とする。 - 特許庁
The patterned single-layer insulating particulate films are subjected to covalent bond via a first organic film where a layer of an insulating particulate film selectively formed on the surface of the base material is formed selectively on the surface of the base material, and a second organic film formed on the surface of the insulating particulate.例文帳に追加
基材表面に選択的に1層形成された絶縁性微粒子の膜が基材表面に選択的に形成された第1の有機膜と絶縁性微粒子表面に形成された第2の有機膜を介して互いに共有結合していることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜、更に、これらの有機膜が互いに異なることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜を形成する。 - 特許庁
The cantilever type element comprises a barrier layer composed of a dielectric substance having a low thermal conductivity, a first deflector layer patterned to have a first uniform resistor extending by a length L_H1 from the basic part element, and a second high electrical resistance substance having a high thermal expansion coefficient.例文帳に追加
カンチレバー型要素は、低い熱伝導度を有する誘電性物質から構成される障壁層と、高い熱膨張係数を有する第一の電気的に抵抗性の物質から構成され、基部要素から長さL_H1で延在する第一の均一な抵抗器部分を有するようにパターン化された、第一偏向板層と、高い熱膨張係数を有する第二の電気的に抵抗性の物質で構成される。 - 特許庁
The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加
本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料13Bを露光、現像してパターン層15を形成する方法において、基板11の上に感光性レジスト材料13Bを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層13Aを形成する。 - 特許庁
To provide an organic electroluminescent element using as a luminescent material a mixture of high molecular and low molecular luminescent materials wherein a high molecular luminescent layer is patterned in manufacturing of a full-color high molecular organic electroluminescent element by a laser transfer method, and color purity and luminous characteristics is improved.例文帳に追加
本発明の目的はレーザー転写法によりフールカラー高分子有機電界発光素子を製作する時高分子発光層のパターニングが可能であって色純度及び発光特性を向上させる高分子及び低分子発光物質の混合物を発光材料として用いる有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁
An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.例文帳に追加
この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁
Etching of an electrode forming material layer M is carried out by having a resist R1 patterned into a shape provided with a part or all of a connection electrode forming part R1C with a width, which is equal to or greater than the set beforehand width of the connection electrode E3 which is necessary for connection of a display electrode E1 and a drawing electrode E2 in the manufacturing method.例文帳に追加
レジストR1が、接続電極成形部分R1Cの一部または全部が表示電極E1と引出電極E2の接続に必要な予め設定された接続電極E3の幅以上の大きさの幅を有する形状にパターニングされて、電極形成材料層Mのエッチングが行われる。 - 特許庁
In the electrode for an organic electron device, surface modification is performed to an electrode surface with a π-conjugated system cyclic compound so that a π conjugated plane is arranged substantially in parallel with the electrode surface in the organic electron device having at least one patterned electrode and an organic active layer.例文帳に追加
少なくともひとつのパターン化された電極、有機活性層を有する有機電子デバイスにおいて、電極表面が、電極表面と実質平行にπ共役平面が配置されるようにπ共役系環状化合物により表面修飾されたことを特徴とする、有機電子デバイス用電極。 - 特許庁
An exposure device which exposes an image with a light beam modulated by a spatial modulation element in accordance with image information is used, and a prescribed area of a photosensitive material 150 (photoresist) applied on a core layer 206 being an optical wiring board material is exposed and patterned with a light beam (UV) to form an etching mask 150A.例文帳に追加
画像情報に応じて空間変調素子により変調された光ビームで画像露光を行う露光装置を用い、光配線基板材料であるコア層206上に塗布した感光材料150(フォトレジスト)の所定領域を光ビーム(UV)により露光してパタニングしエッチングマスク150Aを形成する。 - 特許庁
A first interlayer insulating film 205 is formed on a semiconductor substrate 201 where an element isolation film 202 and a Tr are formed, then a bit line connection hole 206 and a connection conduction pad connection hole 207 are provided, and a first conductive layer is formed and patterned for the formation of a bit line 208 and a connection conduction pad 209.例文帳に追加
素子分離膜202とTrが形成された半導体基板201上に第1層間絶縁膜205を形成後、ビット線用接続孔206と接続導通パッド用接続孔207を形成し、全体の上に第1伝導層を形成しパターニングしてビット線208及び接続導通パッド209を形成する。 - 特許庁
To provide an electron emission element and its manufacturing method for suppressing diode light emission owing to a crack by preventing generation of the crack in an insulating layer when a cathode electrode is patterned and lowering a drive voltage as well as improving screen brightness by enhancing conductivity of the cathode electrode.例文帳に追加
カソード電極をパターニングする時に,絶縁層にクラックが生じないようにすることにより,クラックによるダイオード発光を抑制し,カソード電極の導電性を高めることにより,画面輝度を向上させると同時に,駆動電圧を下げることができる電子放出素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
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