「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

Semiconductor multi-layer films constituted of n-InGaAsP light absorption layers 101 or n-InGaAs light receiving layers 103 or the like are epitaxially grown on an n-InP substrate 100, and an SiN film is deposited and patterned.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１００上にｎ−ＩｎＧａＡｓＰ光吸収層１０１やｎ−ＩｎＧａＡｓ受光層１０３等からなる半導体多層膜を順次エピタキシャル成長した後、ＳｉＮ膜を堆積し、パターニングを行う。 - 特許庁

Carbon gas is generated from carbon deposits attached on the inner wall of the etching chamber when the substrate is etched, and carbon gas is deposited on the side walls of the patterned organic material layer 2 to serve as a side wall protective film.例文帳に追加

エッチングチャンバ１０の内部に付着させた炭素系堆積物から、基板のエッチング処理時にカーボン系のガスを生じさせ、これをパターニングした有機材料層２の側壁に堆積させながら側壁保護膜として機能させる。 - 特許庁

A pair of comb-line electrodes 2 are patterned such that one side becomes +45° and another side becomes -45° with respect to the center line X on a flat substrate 1, and are coated with an insulating layer 3 and, further, surface hydrophobic treatment 4 is applied thereon.例文帳に追加

平面基板１上に、中心線Ｘに対して一方が＋４５度、他方が−４５度となるように一対の櫛歯状電極２がパターンニングされ、絶縁層３でコートされ、その上に表面疎水処理４が施されている。 - 特許庁

To provide a fishing rod with patterned Japanese papers beautifully wound on the surface, excellent in design and quality, and protected by a thick coating layer, and lithely bending, enhanced fittingness and a method for producing the same.例文帳に追加

模様付和紙が竿表面に綺麗に巻き付けられ意匠的にも品質的にも優れ、厚いコーティング層で保護され、竿の撓み等にもしなやかに馴染み耐久性を高めた釣竿の製造方法と釣竿を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic transistor can directly form a patterned organic semiconductor layer by a simple process and can manufacture the organic transistor with excellent transistor characteristics.例文帳に追加

簡易な工程によりパターン状の有機半導体層を直接的に形成することが可能であり、トランジスタ特性に優れた有機トランジスタを製造することが可能な有機トランジスタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The semiconductor substrate comprises an SiGe layer SG formed on an Si substrate 1 and a region 1a having a higher impurity concentration than other region is patterned on the surface of the Si substrate.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上にＳｉＧｅ層ＳＧを備えた半導体基板であって、前記Ｓｉ基板表面に、他の領域よりも不純物濃度を高くした高濃度領域１ａをパターン状に形成した領域を備えている。 - 特許庁

A gate insulating film 14 is formed on the surface of a semiconductor substrate 12, and an amorphous semiconductor film 16 is deposited in place of a polycrystalline semiconductor film on the gate insulating film 14, and the amorphous silicon layer 16 is patterned into the shape of a gate electrode.例文帳に追加

半導体基板１２表面にゲート絶縁膜１４を形成し、当該絶縁膜上に多結晶半導体膜の代わりにアモルファス半導体膜１６を堆積し、このアモルファスシリコン層１６をゲート電極部としてパターニングする。 - 特許庁

In the method of manufacturing an evaporation donor substrate, a first substrate which is an evaporation donor substrate is irradiated with first light (laser light) through a second substrate which is a mask substrate, whereby a material layer over the first substrate is patterned.例文帳に追加

蒸着用基板である第１の基板に、マスク基板である第２の基板を介して第１の光（レーザ光）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。 - 特許庁

A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.例文帳に追加

配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁

The patterned medium in which magnetic dots fine-processed after forming of the magnetic metal thin film as a recording layer and arranged in an array state are formed is provided with a magnetic dot formed by fine processing of a solid state magnetic metal thin film.例文帳に追加

記録層として磁性金属薄膜を成膜した後に微細加工してアレイ状に配列された磁性ドットを形成したパターンドメディアは、固体状磁性金属薄膜の微細加工により形成された磁性ドットを備える。 - 特許庁

The dielectric layers 11 covering the data electrodes 6 are patterned in strips, gaps are to be made between each dielectric layer 11 and adjacent longitudinal partition walls, and the dielectric layers 11 are formed to be covered with phosphor layers 10.例文帳に追加

データ電極６を覆う誘電体層１１を帯状にパターン形成し、誘電体層１１と隣り合う縦隔壁７との間に隙間を有するようにし、さらに誘電体層１１を蛍光体層１０で覆うように形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which an oxide layer composed of perovskite type oxide containing Mn is patterned by a simple method, whereby a production cost is reduced and a production yield can be enhanced.例文帳に追加

簡易な方法でＭｎを含むペロブスカイト型酸化物からなる酸化物層のパターン化を行うことにより、製造コストを低減させ、かつ、歩留まりを向上させることができる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high quality color filter substrate at low cost for a liquid display device composed of a plurality of patterned layers composed of a first layer of non-photosensitive resin and a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、非感光性樹脂からなる第１の層と感光性樹脂からなる複数のパターン化層からなる液晶表示装置用カラーフィルタ基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

Connecting terminals 106, 107 made of patterned copper foils 103, 105 are formed on both surfaces of an insulating board 102, and the terminals of both the surfaces are electrically connected by a conductor layer 108 passing through the insulating board.例文帳に追加

絶縁基板１０２の両面にパターニングされた銅箔１０３、１０５からなる接続端子１０６，１０７が形成されており、両面の接続端子は絶縁基板を貫通する導体層１０８で電気的に接続されている。 - 特許庁

To provide a method for flattening a patterned surface, which can precisely, simply and inexpensively flatten the surface of a magnetic layer having patterned recessed and projecting portions and can promote increase in recording density by improving the scanning property and read/write property of a magnetic head by flattening; and to provide a magnetic recording medium and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

パターニングされた凹凸部を有する磁性層の表面をより高精度、簡便かつ低コストに平坦化することができ、平坦化により磁気ヘッドの走査性と読み書き（ｒｅａｄ／ｗｒｉｔｅ）性を向上させることができるようになることで、更に高記録密度化を促進することができるパターン表面の平坦化方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The master recording medium 101 includes a substrate 110 including a plurality of servo regions S and a plurality of data regions D, and a magnetic layer 140 formed on each of the servo regions S and patterned in the shape of a servo pattern to be patterned on a magnetic recording medium, wherein regions corresponding to the servo regions S are raised and protruded.例文帳に追加

サーボ領域Ｓとデータ領域Ｄとに区分された複数の領域を有する基板１１０と、サーボ領域Ｓ上に形成されたものであり、磁気記録媒体に形成しようとするサーボパターン形状を磁気転写するようにパターン化された磁性層１４０とを備え、サーボ領域Ｓに対応する領域が陽刻突出されたことを特徴とするマスター記録媒体１０１である。 - 特許庁

To solve the problem that the conditions are hard to be realized in the distance between a first layer which is patterned and has a step to a periphery and a second layer formed thereafter, in the case of a semiconductor device which is important to the distance between the two layers and yield of high dispersion thereof and needs to reduce the distance.例文帳に追加

２つの層間の距離とそのばらつきが高い歩留まりに対し重要となり、更にその距離を近づける必要がある半導体装置の場合、パターン化され、周辺と段差のある第１の層とそれ以降に形成する第２の層との距離においてこの条件を実現するのは困難である。 - 特許庁

A membrane structure includes: an air permeable hydrophobic membrane 16 having a first side 42 and a second side 46; a coating layer 28 including oleophobic fluoropolymer, which is arranged on a surface of the membrane; and a patterned layer 40 of particles arranged on the first side 42 of the membrane, which is formed by printing.例文帳に追加

第１側面４２及び第２側面４６を有する空気透過疎水性メンブレン１６、疎油性のフルオロポリマーを含有し、メンブレンの表面に設けた皮膜２８及びメンブレンの第１側面４２に設けた粒子のパターン状層４０を備えるメンブレン構造であり、該パターン状層４０は印刷により形成されている。 - 特許庁

A digital lithographic process is configured to provide print-patterned mask features in at least two layers, with one layer printed directly atop another layer to form a feature stack, such that one feature is offset from an underlaying feature in order to selectively align the plane of the sidewall of that feature stack.例文帳に追加

デジタル・リソグラフィ・プロセスは、少なくとも２層の印刷パターン形成マスク構造部を設けるように構成され、１つの層を別の層の上に直接印刷して構造部スタックを形成し、その際、１つの構造部を下層の構造部から位置をずらして構造部スタックの側壁の平面を選択的に整列させる。 - 特許庁

In an organic LED panel having an insulating layer 3 made of photosensitive resin, which covers the edge portion of a patterned transparent electrode 2 and in which a part of the transparent electrode forming at least luminous pixels is made to expose, a ultraviolet light irradiates the substrate 1 after the insulating layer is formed.例文帳に追加

パターニングされた透明電極２のエッジ部分を覆い、かつ少なくとも発光画素となる部分の透明電極が露出するように形成された感光性樹脂からなる絶縁膜３を有する有機ＬＥＤパネルにおいて、絶縁膜を形成した後に基板１に紫外光を照射する。 - 特許庁

When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with X-rays, a polymeric material obtained by substituting at least part of hydrogen atoms in a known polymeric material by an alkyl- containing substituent and/or an aromatic ring-containing substituent is used as a polymeric material constituting the resist layer.例文帳に追加

レジスト層を選択的にＸ線で露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、既存レジスト材料の水素原子の少なくとも一部をアルキル基を含む置換基、芳香族環を含む置換基、あるいはこれら両者により置換した高分子材料を用いる。 - 特許庁

In an exposure method in which a resist layer is selectively exposed with UV and patterned in a prescribed shape, a polymeric material having an introduced tetrahydrofurn group in which two or more of hydrogen atoms bonding to a carbon atom adjacent to an oxygen atom have been replaced with fluorine atoms is used as a polymeric material forming the resist layer.例文帳に追加

レジスト層に選択的に紫外線で露光して所定の形状にパターニングする露光方法において、上記レジスト層を構成する高分子材料として、酸素原子に隣接した炭素原子に結合した水素原子の２以上がフッ素原子により置換されたテトラヒドロピラン基が導入された高分子材料を用いる。 - 特許庁

In the mask for patterning the thin film used when the thin film is patterned on a color filter consisting of the organic polymer layer, a rugged part is formed on the surface on at least the side coming in contact with the organic polymer layer of the mask and at least the boundary of the rugged part is coated with a resin film.例文帳に追加

有機高分子層よりなるカラーフィルタ上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、マスクの少なくとも前記有機高分子層と接触する側の面に凹凸を形成し、かつ少なくとも凹凸境界部分に樹脂膜をコーティングしたことを特徴とする薄膜パターン化用マスク。 - 特許庁

This cathode substrate of a carbon nanotube(CNT) field remission display includes a glass substrate, a cathode layer patterned on the glass substrate, and patterning a surface of the cathode layer as mutually separate electron emitting areas, and a plurality of CNT structures respectively grown on a plurality of electron emitting areas.例文帳に追加

本発明のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）フィールドエミッション・ディスプレイのカソード基板が、ガラス基板と、ガラス基板上にパターニングされて、カソード層の表面が互いに離された電子放出領域としてパターニングされたカソード層と、複数の電子放出領域上にそれぞれ成長された複数のＣＮＴ構造とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method for the circuit board includes a process for forming the adhesive layer 33 to the conductor having at least one patterend surface and bonding the patterned conductor and the board, wherein the adhesive layer 33 contains (a) an organic solvent soluble polyimide, (b) an epoxy compound and (c) a curative agent.例文帳に追加

少なくとも片面がパターニングされた導電体に接着剤層を設け、パターニングされた導電体と基板とを貼り付ける工程を含む回路基板の製造方法であって、接着剤層が、（ａ）有機溶媒可溶性ポリイミド、（ｂ）エポキシ化合物、（ｃ）硬化剤を含有することを含む回路基板の製造方法。 - 特許庁

This method comprises a step of processing a first wafer with two faces and providing at least one semiconductor layer patterned and made plane, on at least one face of these two faces, and a step of connecting a second wafer of monocrystal silicon to the semiconductor layer on the first wafer.例文帳に追加

本方法は、２つの面を有する第１のウェーハを処理し、これらの２つの面の少なくとも一方の上に少なくとも１つのパターン化されて且つ平面化された半導体層を設けるステップと、単結晶シリコンの第２のウェーハを、第１のウェーハ上の半導体層に結合させるステップとを含む。 - 特許庁

In an FPC substrate 400, copper foil bonded to both faces of a base film 410 having insulating property and flexibility without a bonding layer is patterned, an input wiring 420a and an output wiring 420b are formed on the mounting face of an electronic part and a dummy wiring layer 422 on a face opposite to the mounting face.例文帳に追加

ＦＰＣ基板４００は、絶縁性および可撓性を有するベースフィルム４１０の両面に接着層なしで接合された銅箔をパターニングして、電子部品の実装面に入力配線４２０ａおよび出力配線４２０ｂを、実装面とは反対側の面にダミー配線層４２２を、それぞれ形成したものである。 - 特許庁

When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with X-rays, vacuum UV, extreme-ultraviolet radiation or soft X-rays, a high molecular material obtained by extending the π electron system of an aromatic ring in an aromatic ring-containing existing resist material is used as a high molecular material constituting the resist layer.例文帳に追加

Ｘ線、真空紫外線、極紫外線、軟Ｘ線のいずれかでレジスト層を選択的に露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、芳香族環を含む既存レジスト材料における芳香族環のπ電子系をより拡張した高分子材料を用いる。 - 特許庁

In a plasma nitride silicon film forming step, a plasma nitride silicon film (plasma SiN film 22) is formed on a wiring layer 19, which is a patterned metal layer located above a photodiode 12, by a plasma CVD method for setting RF power representing plasma generation energy, set on a device side, to be 700-1,500 W.例文帳に追加

フォトダイオード１２の上方で、パターニングされた金属層である配線層１９上に、装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗ〜１５００Ｗに設定するプラズマＣＶＤ法によりプラズマ窒化シリコン膜（プラズマＳｉＮ膜２２）を成膜するプラズマ窒化シリコン膜成膜工程を有している。 - 特許庁

The indicating element indicating a specified shape is composed of an organic electroluminescence element formed by laminating a transparent anode, an organic EL compound layer, a cathode buffer layer patterned in approximately the same shape as a specified shape, and a cathode on a transparent insulating substrate in the order.例文帳に追加

所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、有機ＥＬ化合物層と、該所定形状と略同一形状にパターニングされた陰極バッファー層と、陰極とがこの順序で積層された有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁

When the alignment layer 52 on a substrate 51 is irradiated with UV through an optical mask 53 to perform alignment division of the alignment layer 52, the optical mask 53 formed by providing a metal-dielectric multi- layered film 55 which is so optimized that UV 56 having a specified incident angle is transmitted on a light shielding patterned surface thereof is used.例文帳に追加

基板５１上の配向膜５２に光学マスク５３を通し紫外線を照射して配向膜５２の配向分割を行うに際し、特定の入射角の紫外線５６を透過するように最適化した金属−誘電体多層膜５５を遮光パターン面に設けた光学マスク５３を使用するようにする。 - 特許庁

In the method of producing the organic electroluminescent element having the substrate and an electrode patterned on the substrate, and also having at least one organic layer film-formed by coating on the electrode, a process is included which irradiates an electromagnetic wave onto the organic layer after it is coated and dried.例文帳に追加

基材及び該基材の上にパターニングされた電極を有し、該電極の上に塗布により成膜された少なくとも１層の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、該有機層を塗布、乾燥後に電磁波を照射する工程を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁

In an exposure method in which a resist layer is selectively exposed with UV and patterned in a prescribed shape, a polymeric material having an introduced cyclohexane group in which fluorine atoms have been substituted for all of hydrogen atoms bonding to continuously adjacent four carbon atoms is used as a polymeric material forming the resist layer.例文帳に追加

レジスト層を選択的に紫外線で露光して所定の形状にパターニングする露光方法において、上記レジスト層を構成する高分子材料として、連続して隣り合う４つの炭素原子に結合した水素原子が全てフッ素原子により置換されたシクロヘキサン基が導入された高分子材料を用いる。 - 特許庁

Thereafter, a second doped polysilicon film 28a and a second tungsten silicide film 28b are sequentially formed on the surface of a contact hole and the interlayer insulating film, and the second tungsten silicide film 28b and the second doped polysilicon film are patterned into an upper conductive layer pattern which comes into contact with the lower conductive layer pattern.例文帳に追加

その後、熱処理したコンタクト孔表面及び前記層間絶縁膜上に第２のドープしたポリシリコン膜２８ａと第２のタングステンシリサイド膜２８ｂを順次形成し、第２のタングステンシリサイド膜と第２のドープしたポリシリコン膜をパターニングし、下部導電層パターンとコンタクトする上部導電層パターンを形成する。 - 特許庁

This electro-optical device 2 having an electro-optical layer E between a pair of facing electrodes 13 and 17 is so structured that the one-side electrode 13 within the pair of electrodes is formed on a surface of a light absorption layer 19 capable of absorbing external light; and the absorption layer 19 is patterned in accordance with the shape of the one-side electrode 13.例文帳に追加

対向する一対の電極１３，１７間に電気光学層Ｅを有してなる電気光学装置２において、前記一対の電極の内の一方の電極１３が、外部光を吸収可能な光吸収層１９の表面に形成されており、該光吸収層１９が前記一方の電極１３の形状に合わせてパターニングされた構成とする。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

For an insertion molding sheet wherein a design patterned layer comprising a design part and a transparent window part is formed on a substrate sheet and an overcoat layer is formed on a most front surface, a total luminous transmittance of the design part is ≤ 2%, a total luminous transmittance of the transparent window part is 70-95% and the overcoat layer comprises an uncured ionizing radiation cured resin.例文帳に追加

基体シート上に絵柄部と透明窓部からなる絵柄パターン層が形成され、最表面にオーバーコート層が形成されているインサート成形用シートであって、絵柄部の全光線透過率が２％以下であり、透明窓部の全光線透過率が７０〜９５％であり、かつオーバーコート層が未硬化の電離放射線硬化樹脂からなるインサート成形用シート。 - 特許庁

In another embodiment, a method for process integration in manufacture of a photomask includes depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加

別の実施形態では、フォトマスク製造におけるプロセス集積方法は、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁

Namely, the method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: directly attaching the photosensitive adhesive layer 10 with the above performance onto the semiconductor mounted surface 6a of the support member 6; patterning the photosensitive adhesive layer 10 on the semiconductor mounted surface 6a through exposure and development; and directly adhering the semiconductor element 8a to the patterned photosensitive adhesive layer (insulating layer) 10a.例文帳に追加

すなわち、本発明に係る半導体装置の製造方法は、支持部材６の半導体搭載面６ａ上に上記性能を有する感光性接着剤層１０を直接付設する工程と、半導体搭載面６ａ上の感光性接着剤層１０を露光及び現像によってパターニングする工程と、パターニングされた感光性接着剤層（絶縁層）１０ａに半導体素子８ａを直接接着する工程とを備える。 - 特許庁

A plurality of magnetic tunnel junction elements is subjected to a first heat treatment, in a strong magnetic field toward the direction of reference axis (X), then they are patterned, such that each of elements has a high aspect ratio and its pinned-synthetic composite layer has a high shape anisotropy.例文帳に追加

複数の磁気トンネル接合素子は、リファレンス軸（Ｘ）方向への強磁場中において第１の熱処理が施されたのち、各素子が高アスペクト比を有し、そのピンドシンセティック複合層が高い形状異方性を有するようにパターニングされる。 - 特許庁

The problems are solved by pasting a stuff either on a substrate 1 through a colored adhesive 2C or on a colored substrate through an adhesive, wherein the stuff includes a transparent paper 4 with a patterned layer 3 appropriately formed on it and being impregnated with an impregnating resin composition.例文帳に追加

透明紙４に適宜、模様層３を形成し、含浸用樹脂組成物を含浸したものを、基材１上に着色接着剤２Ｃを介するか、着色基材上に接着剤を介して貼ることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film with a transparent conductive layer patterned in which deterioration of appearance due to difference of hue of reflection light between a pattern portion and the immediately below the pattern opening part can be controlled, and a touch panel using the same.例文帳に追加

透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁

In a servo area 28, a magnetic layer 12 is separated into a plurality of servo pattern unit parts 30 forming specified servo patterns and servo pattern gap filling parts 32 patterned so as to partially fill gaps between the plurality of servo pattern unit parts 30.例文帳に追加

磁性層１２を、サーボ領域２８において、所定のサーボパターンをなす複数のサーボパターン単位部３０と、該複数のサーボパターン単位部３０の間を部分的に充填するようにパターニングしたサーボパターン間充填部３２と、に分離した。 - 特許庁

This method for producing a patterned inorganic burnt coating film by transfer technique comprises using such a mold 1 that the surface of a resin coating layer 3 having specified pattern grooves 4 provided on a mold substrate 2 is coated with an inorganic film 5.例文帳に追加

転写法によるパターン状無機質焼成被膜の製造方法において、成形型として、型基板２上に形成された所定のパターン溝４を有する樹脂被膜層３の表面に無機質被膜５がコーティングされてなる成形型１を用いる。 - 特許庁

A patterned resin layer 3 expressing a marble pattern is formed on the molding surface 2 of a casting mold 1 and, thereafter, a base resin composition 4 is injected in the casting mold 1 to be molded and cured to manufacture artificial marble.例文帳に追加

注型用金型１の成形面２に大理石柄を表現する模様付き樹脂層３を形成した後、注型用金型１内にベース樹脂組成物４を注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法に関する。 - 特許庁