「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The intermediate layer 20 and the cathode side electrode 14 can be formed by screen printing using a patterned screen, e.g.例文帳に追加

このような中間層２０及びカソード側電極１４は、例えば、パターン化されたスクリーンを用いるスクリーン印刷によって形成することが可能である。 - 特許庁

The method includes a step of using patterned photoresist masks and a step of etching regions or portions of an elastomeric layer of the elastomeric block.例文帳に追加

この方法は、パターンの付いたフォトレジストマスクを使用する工程およびエラストマーブロックのエラストマー層の領域または一部をエッチングする工程を包含する。 - 特許庁

The negative type feature of an exposed and developed positive type electron beam resist is reversed to positive type feature in a patterned silicon nitride layer of the nanoinprinting original plate.例文帳に追加

露光、現像したポジ型電子ビームレジストのネガ型特徴を、ナノインプリンティング原版のパターン化窒化ケイ素層におけるポジ型特徴に反転する。 - 特許庁

To obtain a method for improving metal deposition on a patterned dielectric layer, especially an aperture such as a via or a trench having an aspect ratio larger than about 1.0.例文帳に追加

パターン形成誘電層、特にアスペクト比が約１．０より大きいバイアおよびトレンチ等のアパーチャへの金属層堆積を改善する方法が求められている。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board includes a step for forming a wiring pattern 40 by etching a metal layer 20 formed with a patterned mask 30.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、パターニングされたマスク３０が設けられた金属層２０をエッチングして配線パターン４０を形成することを含む。 - 特許庁

The patterned layer 100 comprises a memory cell array 1 whose height of the upper surface is relatively high, and a peripheral circuit 2 whose height of the upper surface is relatively low.例文帳に追加

パターン層１００は、上面の高さが相対的に高いメモリセルアレイ部１と、上面の高さが相対的に低い周辺回路部２とを含む。 - 特許庁

Since a self-aligned LDD structure can be patterned by a barrier layer without using an additional photomask, alignment error can be avoided.例文帳に追加

この場合、余分なフォトマスクを使用することなく、バリア層によって自己整合ＬＤＤ構造をパターン化することができるので、アライメントエラーを回避することができる。 - 特許庁

In the patterned resist layer 103B of the initial profile, the width of the groove 103C at the bottom is smaller than the width of the groove 103C in other positions.例文帳に追加

初期形状のパターン化レジスト層１０３Ｂでは、底部における溝部１０３Ｃの幅が他の位置における溝部１０３Ｃの幅よりも小さい。 - 特許庁

A multilayer mask including a lithographically patterned photoresist and an unpatterned organic antireflection coating (BARC) is formed on a substrate layer to be etched.例文帳に追加

リソグラフィーによりパターン化されたフォトレジストとパターン化されていない有機反射コーティング（ＢＡＲＣ）を含む多層マスクが、エッチングされる基板層上に形成される。 - 特許庁

After the resist pattern is removed, the protective layer is selectively removed by wet-etching with the patterned film as a mask, so that the semiconductor laminate structure is exposed.例文帳に追加

レジストパターンを除去した後、パターニングされた被膜をマスクとして、保護層をウェットエッチングにより選択的に除去し、半導体積層構造を露出させる。 - 特許庁

To suppress the etching residue and to control the taper angle, when a laminated film comprising a titanium film, an aluminum alloy film and a titanium nitride film is patterned to form a wiring layer.例文帳に追加

チタン膜、アルミニウム合金膜と窒化チタン膜を含む積層膜をパターニングして配線層を形成する場合に、エッチング残渣を抑制しテーパ角を制御する。 - 特許庁

An alumina layer is patterned to form a mask precursor, and then this mask precursor is subjected to etching by ion milling to form a first mask 22a.例文帳に追加

アルミナ層をパターニングしてマスク前駆体を形成したのち、このマスク前駆体に対してイオンミリングによるエッチング処理を施して第１のマスク２２ａの形成する。 - 特許庁

A laminate film, composed of the polysilicon film 12, the titanium nitride barrier metal layer 13 and the tungsten film 14, is patterned to form polymetal gate electrodes.例文帳に追加

これらのポリシリコン膜１２、バリアメタル層１３及びタングステン膜１４からなる積層膜がパターニングされることによりポリメタルゲート電極が形成されている。 - 特許庁

Bumps of the semiconductor element and the front surface wiring layer are connected by a connecting wiring pattern, and the connecting wiring pattern is patterned by directly exposing a resist film thus formed to a beam light, and is formed by etching.例文帳に追加

接続用配線パターンは形成されたレジスト膜をビーム光により直接露光することによりパターン化し、エッチングすることで形成する。 - 特許庁

To obtain a magnetic recording layer for a magnetic bit-patterned recording medium, with which the efficiency of writing is improved without damaging thermal stability by utilizing inclined anisotropy.例文帳に追加

傾斜異方性を利用して熱安定性を損なうことなく書込み効率を改善する磁気ビットパターン記録媒体用磁気記録層を得る。 - 特許庁

The method of forming a conductor circuit is characterized in that a silicon-containing polymer layer patterned is formed on an insulation layer by using an ink jet device, and then, the formed layer is brought into contact with a solution of a transition metal salt or a suspension, thereby forming a transition metal layer on the silicon-containing polymer layer.例文帳に追加

インクジェット装置を用いることにより、パターン化されたケイ素含有重合体の層を絶縁層上に形成した後、遷移金属塩の溶液あるいは懸濁液と接触させることにより、該ケイ素含有重合体層上に遷移金属層を形成することを特徴とする導体回路の形成方法。 - 特許庁

The method of forming a conductor circuit is characterized in a silicon-containing polymer layer patterned is formed on an insulation layer by using a screen printer, and then, the formed layer is brought into contact with a solution of a transition metal salt or a suspension, thereby forming a transition metal layer on the silicon-containing polymer layer.例文帳に追加

スクリーン印刷装置を用いることにより、パターン化されたケイ素含有重合体の層を絶縁層上に形成した後、遷移金属塩の溶液あるいは懸濁液と接触させることにより、該ケイ素含有重合体層上に遷移金属層を形成することを特徴とする導体回路の形成方法。 - 特許庁

The FRP decorative material 21 is preferably a laminate of a colored gelcoat-cured surface layer and a resin-impregnated/cured fibrous sheet reinforcing layer or a laminate of a surface layer of the cured surface layer of the colored and patterned bulk molding compound(BMC) and the resin-impregnated/cured fibrous sheet reinforcing layer.例文帳に追加

上記ＦＲＰ化粧材２１は、着色ゲルコートの硬化表面層と樹脂含浸硬化の繊維シート補強層との積層体からなるもの、或いは着色柄入りバルクモールディングコンパウンド（ＢＭＣ）の硬化表面層と樹脂含浸硬化の繊維シート補強層との積層体からなるものが好ましい。 - 特許庁

A recording layer of a patterned medium is made by laminating a first magnetic recording layer 10d with a large coercivity, and a second magnetic recording layer 10e with a small coercivity in order on a substrate 10a and shortening the side in the radial direction of the second magnetic recording layer 10e than the side in the radial direction of the first magnetic recording layer 10d.例文帳に追加

パターンドメディアの記録層を、保磁力の大きい第１磁性記録層１０ｄと、保磁力の小さい第２磁性記録層１０ｅとを基板１０ａ上に順に積層するとともに、第２磁性記録層１０ｅの半径方向の辺を、第１磁性記録層１０ｄの半径方向の辺よりも短い形状にする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an analyte test strip, including a process for arranging a patterned spacer layer between a first insulating layer and a second insulating layer, which is a process wherein the second insulating layer is disposed above the first insulating layer, and a channel is defined between the first and second insulating layers.例文帳に追加

検体試験片を製造する方法であって、第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に型どられたスペーサー層を配置する工程であって、第２の絶縁層は第１の絶縁層の上に配置され、チャネルが第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に規定される工程を含む。 - 特許庁

In order to provide the patterning device 32, which has the material layer 31 and the patterned layer of the opaque material, on the surface of the material layer and form the PFPE liquid layer 40, the PFPE liquid which covers the surface is applied to the surface, and at least a part of the PFPE liquid layer is removed.例文帳に追加

素材層３１および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイス３２を素材層の表面に設けることと、ＰＦＰＥ液層４０を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, having a nonmagnetic substrate and a servo layer patterned into stripes extending in the radial direction and a perpendicular magnetic recording layer, with both layers formed on the nonmagnetic substrate and separated from each other, a soft magnetic layer is formed between the servo layer and the perpendicular magnetic recording layer.例文帳に追加

非磁性基板と、前記非磁性基板上に半径方向に延びた縞状の形状にパターニングされたサーボ層と垂直磁気記録層とが分離して形成された磁気記録媒体において、前記サーボ層と前記垂直磁気記録層との間に軟磁性層を形成した構成を有する構成とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the patterning device, includes providing a patterning device having the blank layer and the patterned layer of the opaque material on the surface of the blank layer, applying the PFPE liquid to the surface covering the surface in order to form the PFPE liquid layer and removing at least a portion of the PFPE liquid layer.例文帳に追加

パターニング・デバイスの製造方法は、素材層および不透明材料のパターン状層を有するパターニング・デバイスを素材層の表面に設けることと、ＰＦＰ液層を形成するため、表面に表面を覆うＰＦＰＥ液を塗布することと、ＰＦＰ液層の少なくとも一部を除去することとを含む。 - 特許庁

The sacrificial layer 118 is patterned so that a bulkhead arrangement space R1 in which an ink bulkhead 140A of a bulkhead layer 140 is arranged, and a bump connecting space R2 in which a bump 64 is arranged can be formed.例文帳に追加

そして、犠牲層１１８をパターニングして、隔壁層１４０のインク隔壁部１４０Ａが配置される隔壁配置空間Ｒ１、及び、バンプ６４が配置されるバンプ接続空間Ｒ２を構成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device further includes a first metal layer 72 deposited on the gate insulating film 15 and patterned to provide a gate electrode 16 on the gate insulating film 15 opposed to a polysilicon layer 11 of parts becoming thin film transistors 4, 5.例文帳に追加

ゲート絶縁膜15上に成膜した第１の金属層72をパターニングして、薄膜トランジスタ４,５となる部分のポリシリコン層11に対向したゲート絶縁膜15上にゲート電極16を設ける。 - 特許庁

In one embodiment, a photosensitive cladding layer is exposed by chemical rays that transmit a first gray scale mask, is patterned, thereafter, is developed to define a groove having the curved major bottom surface within a layer.例文帳に追加

一実施例では、感光性クラッディング層が、第１グレースケールマスクを通過した化学線にさらされてパターニングされ、その後に現像され、湾曲した主底面を有する溝を層内に規定する。 - 特許庁

Then, the polycrystalline silicon film is patterned, a booster plate 22 is formed, and an etching stop layer 22a is formed on the upper face of each diffused layer region 16b of the drain side selection gate 16A.例文帳に追加

そして、その多結晶シリコン膜をパターニングして、ブースタープレート２２を形成するとともに、ドレイン側選択ゲート１６Ａの各拡散層領域１６ｂの上面にエッチングストップ層２２ａを形成する。 - 特許庁

To make a coil of a magnetic head small in diameter and to make the magnetic head compact by forming an end surface of an insulating layer vertically when the insulating layer is etched to be patterned.例文帳に追加

絶縁層をエッチングしてパターン形成する際に絶縁層の端面を垂直となるように形成し、これによってたとえば、磁気ヘッドのコイルの小径化、磁気ヘッドの小型化を図ることを可能にする。 - 特許庁

Next, the thin polycrystal silicon film is patterned to form a semiconductor layer, and a gate insulating film is formed to cover the semiconductor layer, then a gate electrode is formed on the gate insulating film.例文帳に追加

次に、多結晶シリコン薄膜をパターニングして半導体層を形成し、半導体層を覆うゲート絶縁膜を形成した後、半導体層のゲート絶縁膜の上にゲート電極を形成する。 - 特許庁

By forming the protecting layer 31 prior to forming the resist pattern 33a, the protecting layer 31 can be accurately patterned without being affected by ruggedness in the microscopically three-dimensional resist pattern 33a.例文帳に追加

保護層３１をレジストパターン３３ａの形成前に形成すれば、微視的に立体構造物であるレジストパターン３３ａの起伏の影響を受けずに保護層３１を精確にパターンニングすることができる。 - 特許庁

The light interference type color display has a transparent substrate, an inner front light diffusion layer, a plurality of first electrodes, a patterned supporting layer, a plurality of optical films, and a plurality of second electrodes.例文帳に追加

透明基板、内側前方光拡散層、複数の第一電極、パターン化支持層、複数の光学的フィルム、および複数の第二電極を有する光干渉型カラーディスプレイが提供される。 - 特許庁

To provide a production method for a laminate having patterned metal films, capable of readily plasma etching a plating layer and of obtaining a laminate having excellent insulating properties between the patterned metal films.例文帳に追加

本発明は、被めっき層のプラズマエッチング処理を容易に実施することができ、パターン状金属膜間の絶縁性に優れた積層体を得ることができる、パターン状金属膜を有する積層体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This component of shoes includes a vulcanized rubber base material layer, a textile sheet is sunk into the outer surface of the vulcanized rubber base material layer, and the vulcanized rubber base material layer and the textile sheet are bonded to form a textile patterned surface on the outer surface of the vulcanized rubber base material layer.例文帳に追加

本発明の靴の構成部材は、加硫ゴム基材層を備え、前記加硫ゴム基材層の外側表面に織物シートをめり込ませて前記加硫ゴム基材層と前記織物シートとを結合し、前記加硫ゴム基材層の外側表面に織物模様入り面を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

This inkjet recording method is to provide a non-white solid patterned layer P on a white solid coating layer W after the white solid coating layer W is provided on the surface of a film base material S under the condition that the ink for the white solid coating layer includes a porous inorganic pigment.例文帳に追加

インクジェット記録方法は、フィルム基材Ｓの表面上に白色ベタ塗り層Ｗを設けた後に、その白色ベタ塗り層Ｗの上から非白色パターン層Ｐを設ける方法であって、前記白色ベタ塗り層用インクが多孔質無機顔料を含有していることを特徴とする。 - 特許庁

A silicon layer 103 is patterned using a preparation method similar to a conventional one utilizing a well-known lithographic technique and etching technique, after forming a p-type silicon layer 132 and a germanium layer 107 in one part of the silicon layer 103, so as to form a silicon core 131.例文帳に追加

シリコン層１０３上の一部にｐ型シリコン層１３２およびゲルマニウム層１０７を形成した後で、よく知られたリソグラフィ技術とエッチング技術を利用した従来と同様な作製方法を用いてシリコン層１０３をパターニングし、シリコンコア１３１を形成する。 - 特許庁

This dual-chamber multi-analyte test strip 100 has a first insulating layer 102, a first electrically conductive layer 104 including a first working electrode disposed thereon, and a first patterned spacer layer 108 positioned above the first electrically conductive layer 104, and having a first sample-receiving chamber.例文帳に追加

複室多検体テストストリップ１００は、第一絶縁層１０２、その上に配置された第一作用電極を備える第一導電層１０４、及びその第一導電層の上に配置された第一パターンスペーサー層１０８を有し第一試料受け取り室を有する。 - 特許庁

The decorative material for a floor made by laminating the decorative sheet on a woody base material 5 is provided with a colored thermoplastic resin layer 4, a patterned layer 3 and an ionomer resin layer 1 in this order, and the ionomer type resin layer has a thickness from 50 to 400 μm.例文帳に追加

木質系基材上５に化粧シートを積層してなる床用化粧材において、少なくても木質系基材の側から、着色熱可塑性樹脂層４、絵柄模様層３、アイオノマー樹脂層１を順に設けたこと、前記アイオノマー系樹脂層が５０〜４００μｍである。 - 特許庁

In this manufacturing method, an aqueous solution containing ammonia ions, copper ions and chlorine ions is used for etching liquid at formation of a photoresist layer 16 patterned on the surface of a substrate, where a polyimide layer 14 and a copper layer 13 are formed in the order on a steel plate 11 and etching the copper foil layer 13.例文帳に追加

鋼板１１上に、ポリイミド層１４と銅箔層１３とがこの順序で形成された基板表面にパターニングされたフォトレジスト層１６を形成し、銅箔層１３をエッチング処理する際、エッチング液に、アンモニアイオンと、銅イオンと、塩素イオンとを含有する水溶液を用いる。 - 特許庁

The authenticity judging medium has: an optical selectively reflecting layer having selectively reflecting properties for reflecting either a left-handed circularly polarized light or a right-handed circularly polarized light in incident light; a patterned layer, which reverses the rotational direction of the incident light; a holographed layer, and a reflecting layer in this order.例文帳に追加

入射光のうち左円偏光および右円偏光のいずれか一方を反射する光選択反射性を有する光選択反射層、入射光の回転方向が反転するパターン層、ホログラム形成層ならびに反射層をこの順に有する真偽判定用媒体。 - 特許庁

In the case of a negative or positive photoresist layer patterned by a conventional lithography technique, a photoresist layer in an interface region with a semiconductor substrate is overheated to a temperature higher than its fusing temperature in a short time in order to fusedly bond a photoresist layer at an interface to a layer located therebelow on the semiconductor substrate.例文帳に追加

従来のリソグラフィー技術を用いてパターンされたネガもしくはポジフォトレジスト層の場合、界面のフォトレジスト層を、その下に位置する層と、半導体基板において溶着するために、半導体基板との界面領域のフォトレジスト層は、短期的に、溶解温度より高い温度で過熱される。 - 特許庁

Next, the conditioning gate layer, the conditioning oxide film layer, the dot layer and the tunnel ring oxide film layer are patterned to predetermined profile, a double gate having a tunnel ring oxide film 112, a dot floating gate 114, a conditioning oxide film 116 and a conditioning gate 118 is formed.例文帳に追加

次に、前記調節ゲート層、前記調節酸化膜層、前記ドット層及び前記トンネルリング酸化膜層を所定形状にパターニングしてトンネルリング酸化膜１１２、ドットフローティングゲート１１４、調節酸化膜１１６及び調節ゲート１１８を備える二重ゲートを形成する。 - 特許庁

To form the optical wave guide 9, the upper face of the element 1 is covered with a clad layer 91, a core layer 93 is formed on the clad layer, a core part 94 having a desired shape such that the core part 94 laps the light emitting part 101 of the element 1 in a planar view is patterned, and clad layer 97 is lapped on the core part 94.例文帳に追加

光導波路９の形成は、素子１の上面をクラッド層９１で覆い、その上にコア層９３を形成し、平面視で素子１の発光部１０１と重なるような所望形状のコア部９４をパターニングし、その上にクラッド層９７を重ねる。 - 特許庁

A gate line 121 is formed on an insulating substrate 110, on which a gate insulating film 140, semiconductor layer 150, and resistive contact layer are sequentially stacked, and then when the data line and a drain electrode 175 are formed, an electrode layer is patterned together with the resistive contact layer.例文帳に追加

絶縁基板１１０の上にゲート線１２１を形成し、その上部にゲート絶縁膜１４０と半導体層１５０と抵抗性接触層を順次に積層し、次に、データ線とドレーン電極１７５を形成する際に、電極層を抵抗性接触層と一括してパターン形成する。 - 特許庁

The semiconductor light emitting element is provided with a substrate 10, a thermal diffusion layer 11 formed on the substrate 10 and patterned at prescribed intervals, a flat layer 12 covering the thermal diffusion layer 11 and having a flat surface, and a light emitting part 18 formed on the flat layer 12.例文帳に追加

基板１０、基板１０上に形成され、所定の間隔でパターニングされた熱拡散層１１、熱拡散層１１を覆い、平坦な表面を有する平坦層１２、及び平坦層１２上に形成された発光部１８を備えることを特徴とする半導体発光素子である。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁