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patterned layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1139件
In forming vias 113 in a dielectric layer 106, posts based on a patterned conductive material are printed at each via location, the unpatterned dielectric layer 106 is deposited, and a second patterned conductive layer is deposited.例文帳に追加
誘電層106内にビア113を形成する際、まず各ビア位置にパターン化された導電材よりなるポストを印刷し、次にパターン化されていない誘電層106を堆積させ、次に第2のパターン化された導電層を堆積させる。 - 特許庁
To provide a forming method of a patterned conductor layer capable of forming a minute patterned conductor layer without using metal particles while reducing the number of photolithography steps and etching steps.例文帳に追加
金属微粒子を使用することなく、かつフォトリソグラフィー工程やエッチング工程を削減しながら、微細なパターン化導体層を形成することが可能なパターン化導体層の形成方法を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device is provided with a semiconductor substrate 10, a patterned layer 100 formed on the main surface of the semiconductor substrate 10, and an interlayer insulating film 110 formed on the patterned layer 100.例文帳に追加
半導体装置は、半導体基板10と、半導体基板10の主表面上に形成されるパターン層100と、パターン層100上に設けられる層間絶縁膜110とを備える。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having few shape failures in a patterned wiring layer even if the device has the wiring layer which needs to be patterned for long etching time, and to provide the manufacturing method.例文帳に追加
長いエッチング時間をかけてパタニングする必要のある配線層を有する場合であっても、パタニングされた配線層の形状不良が少ない半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A patterned mask 20 is formed on the surface of a sacrifice layer 18, which is a part of a multilayer structure 10 comprising a substrate 12, a conductive layer 14, an insulating layer 16, and the sacrifice layer 18.例文帳に追加
基板12、導電層14、絶縁層16及び犠牲層18から成る多層構造10の一部である犠牲層18の表面上にパターニングされたマスク20を形成する。 - 特許庁
A control gate layer covering the substrate 100 via a gate oxide layer is formed on the substrate 100, the control gate layer is patterned to form a control gate, an interlayer insulating layer pattern and a floating gate on the cell array part.例文帳に追加
半導体基板100上にゲート酸化層を介して覆うコントロールゲート層を形成し、パタニングしてセルアレー部にコントロールゲート、層間絶縁層パターン及び浮遊ゲートを形成する。 - 特許庁
After a boron is ion-implanted into the SiGe layer 13 through the Si layer 14 in amorphous, the SiGe layer 13 and the Si layer 14 are patterned to form a gate electrode 15.例文帳に追加
アモルファス状態のSi層14を介してSiGe層13にボロンをイオン注入した後、SiGe層13及びSi層14をパターン化してゲート電極15を形成する。 - 特許庁
The silicon layer formed as one continuous wire as well as the Al layer are etched simultaneously when the Al layer is patterned, so that the silicon layer is electrically broken between gate lines.例文帳に追加
シリコン層は、その形成時には1本の連続配線として形成されるが、Al層がパターン形成されるときにAl層と同時にエッチングされて、各ゲート線の間で電気的に断線される。 - 特許庁
A perpendicular magnetic recording medium includes a nonmagnetic interlayer formed on a nonmagnetic substrate, an antiferromagnetic layer having a thickness of 2 nm or more and 30 nm or less, a first nonmagnetic underlayer having a thickness of 0.2 nm or more and 5 nm or less, a first bit patterned ferromagnetic layer, a first bit patterned nonmagnetic layer, and a second bit patterned ferromagnetic layer.例文帳に追加
非磁性基板上に形成された非磁性中間層、2nm以上30nm以下の厚さを有する反強磁性層、0.2nm以上5nm以下の厚さを有する第1の非磁性下地層、第1のビットパターン状強磁性層、第1のビットパターン状非磁性層、第2のビットパターン状強磁性層を有する垂直磁気記録媒体。 - 特許庁
A microwave insulating material includes a dimensionally stable support, a patterned adhesive layer 26 overlying at least a portion of the support, a polymer film layer 16 overlying the patterned adhesive layer, and a plurality of expandable cells 28 disposed between the support and the polymer film layer and defined by the patterned adhesive layer, wherein the expandable cells vary in size.例文帳に追加
電子レンジ用断熱材料は、寸法安定性支持体と、支持体の少なくとも一部に重なるパターン化した接着剤層26と、パターン化した接着剤層に重なるポリマーフィルム層16と、支持体と上記ポリマーフィルム層との間に配置されるとともに接着剤層によって画定される複数の膨張可能なセル28とを備え、この膨張可能なセルはサイズが変わる。 - 特許庁
The electrostatic discharge protection device comprises a low-temperature co-fire ceramic film including a first patterned conductor electrode material layer, a second patterned conductor electrode material layer, and at least one via hole for exposing both a part of the first patterned conductor electrode material layer and a part of the second patterned conductor electrode material.例文帳に追加
上記静電放電保護装置は、第1のパターン化された導体電極材料層と、第2のパターン化された導体電極材料層と、上記第1のパターン化された導体電極材料層の一部及び上記第2のパターン化された導体電極材料層の一部をともに露出させる少なくとも一つのビアホールとを有する低温共焼結セラミックフィルムを備えている。 - 特許庁
In one embodiment, a method for etching chromium includes steps of: preparing a film stack having a chromium layer in a processing chamber; patterning a photoresist layer on the film stack; depositing a conformal protective layer on the patterned photoresist layer; etching the conformal protective layer to expose the chromium layer through the patterned photoresist layer; and etching the chromium layer.例文帳に追加
一実施形態において、クロムをエッチングする方法は、クロム層を有する膜スタックを処理チャンバー内に用意するステップと、膜スタック上でホトレジスト層をパターン化するステップと、パターン化されたホトレジスト層に適合保護層を堆積するステップと、その適合保護層をエッチングして、パターン化されたホトレジスト層を通してクロム層を露出させるステップと、クロム層をエッチングするステップとを備えている。 - 特許庁
To improve reliability in the separation process of a layer to be patterned like a wiring layer in a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造方法において、配線層のような被パターニング層の分離工程における信頼性の向上を図る。 - 特許庁
A gate layer is formed on a semiconductor substrate, and it is patterned, and then a metallic layer is formed on the upper part of produced matter.例文帳に追加
半導体基板の上部にゲート層を形成してそのゲート層をパタニングした後、生成物の上部に金属層を形成する。 - 特許庁
The SiON layer and the mask layer are patterned to form an opening, exposing a substrate region on which a shallow trench isolation region is formed.例文帳に追加
SiON層とマスク層は所定パターンに定義されて開口が形成され、基板領域を露出して、シャロートレンチ分離領域を形成する。 - 特許庁
An FSG layer is formed on the conductive layer which is patterned by a high density plasma CVD, filling the gap between conductor lines.例文帳に追加
FSG層は、高密度プラズマCVDによりパターン化された導電層の上に形成され、導電ライン間のギャップを充填する。 - 特許庁
In an alternate embodiment, the dielectric layer that is patterned and etched to form dielectric strips is deposited on the first semiconductor layer.例文帳に追加
変形例では、誘電体層を第1半導体層に付着し、これにパターン化及びエッチングを施して誘電体ストリップを形成しする。 - 特許庁
The second metal wiring layer is patterned to form a groove for exposing a portion of an upper surface of the first metal wiring layer.例文帳に追加
第2のメタル配線層は、第1のメタル配線層の上面の一部を露出させるための溝を形成するようにパターニングされている。 - 特許庁
In the terminal part 40, a wettability changing layer 43 is formed on a substrate 41, and a conductive layer 45 is patterned on it.例文帳に追加
端子部40において、基板41には、濡れ性変化層43が形成されており、その上に導電層45がパターン形成されている。 - 特許庁
A self organized monomolecular film (SAM) is chemically coupled to the base layer, next to but except for the patterned layer.例文帳に追加
自己組織化単分子膜(SAM)が、パターン化層と並べて、ただしパターン化層は除いて前記基層に対して化学的に結合される。 - 特許庁
A perpendicular magnetic recording layer of a magnetic recording medium includes a plurality of bit-patterned magnetic islands, wherein each of the plurality of islands overlay a soft magnetic under-layer.例文帳に追加
磁気記録媒体の垂直磁気記録層は複数のビットパターン磁気アイランドを含み、その各々が軟磁性下層を覆っている。 - 特許庁
Subsequently the first electrode layer 2 and the crystal orientation control layer 3 are patterned by dry etching so as to make them correspond to the positions of the pressure chambers 8.例文帳に追加
次に、第1電極層2及び結晶配向制御層3を各圧力室8の位置に対応するようにドライエッチングでパターニングする。 - 特許庁
A photosensitive resin composition layer is formed on a substrate, on which a surface coating layer having high lyophobic property is formed and patterned.例文帳に追加
基板上に形成された感光性樹脂組成物層の上に疎液性の高い表面被覆層を形成させ、パターンを形成させる。 - 特許庁
The mandrel 2 has a patterned insulation layer 8 on the metal layer 4 for electroforming an orifice 30 in the orifice area 34.例文帳に追加
マンドレル2はオリフィス領域34にオリフィス30を電鋳するため金属層4の上にパターニングされた絶縁体層8を有する。 - 特許庁
The mask also includes a patterned layer of a material substantially opaque to the energy beam disposed on the mask substrate or the phase shifting layer.例文帳に追加
マスクはまた、マスク基板または位相シフト層上に配設されエネルギー・ビームに対しほぼ不透明な材料のパターン化された層も含む。 - 特許庁
A patterned photo-resist layer is formed by using the first mask again such that the semiconductor material layer is protected above the gate.例文帳に追加
第1のマスクを再度用いてパターニングされたフォトレジスト層を形成することにより、ゲートの上側の半導体材料層を保護する。 - 特許庁
The patterned photoresist layer is used as a mask, and the exposed field oxide mask layer and buffer oxide film are removed selectively.例文帳に追加
パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして使用し、露出されたフィールド酸化マスク層及びバッファ酸化膜を選択的に除去する。 - 特許庁
The first wiring layer 8 patterned in a specific shape is formed on the first interlayer insulating film 5.例文帳に追加
第1層間絶縁層5の上に所定形状にパターン化された第1配線層8を形成する。 - 特許庁
To provide a simple manufacturing method of a stacked structure having a fine-patterned optical anisotropic layer.例文帳に追加
精密なパターン状の光学異方層を有する積層構造体の簡便な製造方法の提供。 - 特許庁
Then, the emboss-patterned surface 15a of the n-type layer 15 is subjected to wet etching, to thereby form numerous etched pits 19.例文帳に追加
次に、n型層15表面15aをウェットエッチングして多数のエッチピット19を形成する。 - 特許庁
In the method according to the invention, a first mirror is patterned in the thin silicon layer of a first SOI wafer.例文帳に追加
本発明による方法では、第1のミラーが、第1のSOIウェハの薄いシリコン層にパターン化される。 - 特許庁
Then the conductive film 2A is patterned by dry etching method to shape the conductive layer 2, as specified.例文帳に追加
次に、導電膜2Aをドライエッチング法によりパターニングして所定の形状の導電層2を形成する。 - 特許庁
A conductive film is formed on all the surface and patterned into a first metal wiring layer 4.例文帳に追加
全面に導電膜を形成し、パターニングすることにより、第1の金属配線層4を形成する。 - 特許庁
Thereafter, the clad foil 10 is patterned to electrically connect the chip 20 and the inner layer material 40.例文帳に追加
その後、クラッド箔10をパターニングして、チップ20及び内層材40との電気的接続を行う。 - 特許庁
The mask layer 150 is patterned so as to satisfy inequalities Wg < t/tan54.7°, and Wa > t/tan54.7°, where t denotes the thickness of the single crystal substrate 120.例文帳に追加
単結晶基板120の厚さtとWgとWaとが、Wg<t/tan54.7°及びWa>t/tan54.7°を満たす様にマスク層150はパターニングされる。 - 特許庁
At a black matrix substrate production step, a photosensitive black resin composition layer is patterned on a substrate.例文帳に追加
ブラックマトリクス基板製造工程では、感光性黒色樹脂組成物層を基板上にパターニングする。 - 特許庁
A resist pattern 47 patterned in a predetermined region is formed on the surface of the amorphous carbon layer 46.例文帳に追加
アモルファスカーボン膜46の表面上に所定の領域にパターニングされたレジストパターン47を形成する。 - 特許庁
The tandem solar cell is provided in which a second photoelectric conversion layer is patterned by a photolithography method.例文帳に追加
本発明のタンデム型太陽電池はフォトリソグラフィー法により第2光電変換層をパターニングする。 - 特許庁
PATTERNED THIN FILM AND USE OF SUCH FILM AS TEMPERATURE CONTROLLING LAYER IN HEAT ASSISTED MAGNETIC RECORDING MEDIA例文帳に追加
パターン形成された薄膜及びその膜の熱支援磁気記録媒体での温度制御層としての使用 - 特許庁
A photo-resist is formed on the inter-layer insulating film 8, which is patterned to a specified form.例文帳に追加
その後、層間絶縁膜8上にフォトレジストを形成し、このフォトレジストを所定の形状にパターニングする。 - 特許庁
A first conductive layer is formed on a substrate and patterned using a first mask to form a gate.例文帳に追加
基板上に第1の導電層を形成し、第1のマスクを用いてパターニングしてゲートを形成する。 - 特許庁
The sacrificial layer is patterned so that those parts adjacent to the multiple structures on the substrate are not be exposed.例文帳に追加
基板で前記複数の構造物に隣接した部分を露出させるように犠牲層をパターニングする。 - 特許庁
The patterned conductive layer is disposed on the surface of the core and is partially connected to the ultra fine pattern.例文帳に追加
パターン化導電層がコアの表面上に配置され、超微細パターンに部分的に接続される。 - 特許庁
The optical film includes a substrate 11 and a patterned foam layer 12 provided in a predetermined pattern on one surface of the substrate 11, wherein air bubbles 12a are formed in the patterned foam layer 12, and the amount of air bubbles 12a formed in the patterned foam layer 12 increases with the distance from the substrate 11.例文帳に追加
本発明の光学フィルムは、基材11と、基材11の一方の面に所定のパターンで設けられたパターン発泡層12とを備え、パターン発泡層12の内部には気泡12aが形成され、パターン発泡層12における気泡12aの形成量は基材11から離れるにつれて増加している。 - 特許庁
A transfer layer pattern 3 is formed by pressing a mold; then, a patterned film 4 is formed on the transfer layer pattern 3; and thereafter, the transfer layer pattern 3 is removed, and etching is performed from the association interface (indicated by a dotted line) at the formation of the patterned film 4 to etch the patterned film 4 into a final pattern 7.例文帳に追加
モールドを押し付けて形成した転写層パターン3を形成し、転写層パターン3に被パターン形成膜4を形成し、その後、転写層パターン3を除去して、被パターン形成膜4形成時の会合界面(点線部)からエッチングを進行させて、被パターン形成膜4をエッチングして最終パターン7を形成する。 - 特許庁
The zero valence metal layer is patterned by the computer guided laser beam to form electronic circuit constituent parts.例文帳に追加
0価金属層は、コンピューターでガイドされたレーザーでパターン付けされて電子回路構成部分を形成する。 - 特許庁
VACUUM ROLL COVERING FORGERY PREVENTIVE THIN-FILM INTERFERENCE PRODUCT HAVING OVERT AND/OR COVERT PATTERNED LAYER例文帳に追加
顕在的および/または隠在的パターン化層を有する真空ロール被覆偽造防止薄膜干渉品 - 特許庁
An aluminum thin film is formed on a substrate 201 and then patterned to be an aluminum wiring layer 205.例文帳に追加
基板201上にアルミ薄膜を形成し、アルミ薄膜をパターンニングしてアルミ配線層205とする。 - 特許庁
A prescribed gate electrode 15 is patterned on the gate oxide film 14, forming a source/drain diffusion layer 16.例文帳に追加
ゲート酸化膜14上に所定のゲート電極15のパターニング、ソース/ドレイン拡散層16を形成する。 - 特許庁
A polysilicon film 13 patterned through a layer insulating film 12 is formed on a silicon substrate 11.例文帳に追加
シリコン基板11上に、層間絶縁膜12を介してパターン化されたポリシリコン膜13を形成する。 - 特許庁
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