「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

An adhering layer 35 is patterned on an insulating film 34, a resist 52 is patterned by photo lithography method and metal nano ink is ejected toward an opening of the resist 52 from an ink jet head.例文帳に追加

絶縁膜３４に密着層３５をパターニングし、フォトリソグラフィー法によりレジスト５２をパターニングし、インクジェットヘッドからレジスト５２の開口にむけて金属ナノインクを吐出する。 - 特許庁

The patterned medium can be manufactured at a low cost and high throughput and conversion of a perpendicular two-layer medium to a patterned medium considered to be difficult can be enabled.例文帳に追加

これにより、低コスト、高スループットでパターンド媒体が製造可能になるだけでなく、困難と考えられていた垂直二層媒体のパターンド媒体化が可能となる。 - 特許庁

The control gate 9a and the dummy gate 9b are patterned from the same second layer polysilicon film, and the insulation films 10a and 10b are patterned from the same ONO film.例文帳に追加

制御ゲート９ａ及びダミーゲート９ｂは、同じ２層目のポリシリコン膜からパターニングされ、各絶縁膜１０ａ，１０ｂは同じＯＮＯ膜からパターニングされたものである。 - 特許庁

A resist 104 patterned in a regular element region is covered with a new resist layer 110, which is so patterned that only an alignment pattern (106, 107) is exposed.例文帳に追加

次に、正規の素子領域におけるパターニングされたレジスト１０４を、新たなレジスト層１１０によって覆い、アライメントパターン（１０６，１０７）のみが露出するようにパターニングする。 - 特許庁

This light transmittable conductive material includes an easily adhering layer on a light transmittable base material, a metal layer patterned on the easily adhering layer, a resin layer coating the easily adhering layer and the metal layer and containing modified epoxy resin, and an adhesive layer on the resin layer.例文帳に追加

光透過性基材上に易接着層と、該易接着層上にパターニングされた金属層と、該易接着層及び該金属層を被覆し、かつ変性エポキシ樹脂を含有する樹脂層と、該樹脂層上に接着剤層とを有することを特徴とする光透過性導電性材料。 - 特許庁

The method for fabricating a photomask includes the steps of: providing a film stack having a molybdenum layer and a light-shielding layer in a processing chamber; pattering a first resist layer on the light-shielding layer; etching the light-shielding layer using the first resist layer as an etch mask; and etching the molybdenum layer using the patterned light-shielding layer and the patterned first resist layer as a composite mask.例文帳に追加

フォトマスクを製作するための方法は、モリブデン層と光遮断層とを有するフィルムスタックをプロセスチャンバに提供するステップと、該光遮断層上に第１のレジスト層をパターニングするステップと、該第１のレジスト層をエッチングマスクとして使用して該光遮断層をエッチングするステップと、該パターニングされた光遮断層および該パターニングされた第１のレジスト層を複合マスクとして使用して該モリブデン層をエッチングするステップとを含む。 - 特許庁

A dimensionally patterned decorated plate is obtained by forming a barrier layer on a base material, forming a transparent resin layer on the barrier layer and further forming a printed layer on the transparent resin paper by use of a light blocking ink, the barrier layer and the base material having a color of the same kind.例文帳に追加

基材上にバリア層を設け、このバリア層上に透明樹脂層を形成し、さらにこの透明樹脂層に遮光性インクで印刷層を形成するとともに、バリア層と基材を同色とした。 - 特許庁

An SOG (spin-on-glass) layer to be a first hard mask layer and a CVD formation silicon oxide film layer to be a second hard mask layer are successively laminated on a polysilicon layer, and the gate electrode of the polysilicon is patterned by etching.例文帳に追加

ポリシリコン層上に第１のハードマスク層としてＳＯＧ（スピンオングラス）層を、その上に第２のハードマスク層としてＣＶＤ形成シリコン酸化膜層を積層して、エッチングによりポリシリコンのゲート電極のパターニングを行う。 - 特許庁

A wiring pattern 20 containing the first layer 12 and the second layer 14 which are patterned is formed by etching the metal layer 16, and a part of the first layer 12 is left outside the second layer 14 of the wiring pattern 20.例文帳に追加

金属層１６をエッチングして、パターニングされた第１の層１２及び第２の層１４を含む配線パターン２０を形成し、第１の層１２の一部を配線パターン２０の第２の層１４の外に取り残す。 - 特許庁

Since the qualities of the patterned conductive layers 36 are stabilized by removing the burrs 38, the width of each patterned conductive layer 36 so does not exceed the width of each patterned black layer 35 as to be able to suppress preventively the deteriorations of the blackness of the front surface of a panel and the transmittance of a light projected from a light emitting portion.例文帳に追加

導電層３６のバリ３８を除去して品質を安定させるので、黒色層３５よりも導電層３６の幅が拡大せず、パネル前面の黒色度が悪化したり、発光部から照射される光の透過率が悪化するのを抑制防止できる。 - 特許庁

A polysilicon layer made on a thin SiO2 layer is plasma-etched, using a chemical reaction based on HBr/HeO2, via a patterned SiO2 cap layer.例文帳に追加

薄いＳｉＯ_2層の上に形成されたポリシリコン層を、パターン形成されたＳｉＯ_2キャップ層を介して、ＨＢｒ／ＨｅＯ_2ベースの化学反応を用いてプラズマ・エッチングする。 - 特許庁

Then a resist layer is formed, and a resist pattern is formed inside the outline patterned on the hard mask layer in a shape corresponding to the outline of a main magnetic pole auxiliary layer.例文帳に追加

次に、レジスト層を形成し、ハードマスク層にパターンニングした主磁極の外郭よりも内側に主磁極補助層の外郭に対応した形状にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

A gate conductive layer pattern is formed on the portions of the gate insulation layer pattern patterned to partially expose the source/drain regions and on the portion of the gate insulation layer pattern on the channel region.例文帳に追加

ソース／ドレイン領域を部分的に露出させるゲート絶縁膜パターン及びチャンネル領域のゲート絶縁膜パターン上にゲート導電膜パターンが形成される。 - 特許庁

Thereafter, a wiring layer is formed so as to entirely cover the surface 31S of the interlayer insulating layer 31 and the plug 41 and the wiring layer is patterned into a predetermined shape.例文帳に追加

その後、層間絶縁層３１の表面３１Ｓ及びプラグ４１の全体を覆うように配線層を形成し、当該配線層を所定の形状にパターニングする。 - 特許庁

Thereafter, the laminate is patterned to simultaneously form a gate electrode composed of a polysilicon layer and a metal layer and a source-drain contact wiring layer.例文帳に追加

その後、この積層体をパターニングして、各々が、ポリシリコン層と金属層との積層構造体からなるゲート電極と、ソース・ドレインコンタクト配線層とを同時に形成する。 - 特許庁

An organic compound containing insulating layer 12 is covered with a double layer which is composed of a resist hard mask layer 13 formed on the organic compound containing insulating layer 12 and a resist layer 14 formed on the resist hard mask layer 13, and the double layer is patterned.例文帳に追加

有機化合物含有絶縁層１２を、この有機化合物含有絶縁層１２上に形成されたレジストハードマスク層１３とこのレジストハードマスク層１３上に形成されたレジスト層１４からなる２重層で覆い、次に、この２重層をパターニングする。 - 特許庁

This inkjet recording method is to provide a non-white solid patterned layer P on a white solid coating layer W after the white solid coating layer W is provided on the surface of film base material S under the condition that the resolution of the white solid coating layer W is made higher than that of the non-white patterned layer P.例文帳に追加

インクジェット記録方法は、フィルム基材Ｓの表面上に白色ベタ塗り層Ｗを設けた後に、その白色ベタ塗り層Ｗの上から非白色パターン層Ｐを設ける方法であって、前記白色ベタ塗り層Ｗの解像度を、前記非白色パターン層Ｐの解像度よりも高くすることを特徴とする。 - 特許庁

This inkjet recording method is to provide a non-white solid patterned layer P on a white solid coating layer W after the white solid coating layer W is provided on the surface of a film base material S under the condition that the resolution of the white solid coating layer W is made higher than that of the non-white patterned layer P.例文帳に追加

インクジェット記録方法は、フィルム基材Ｓの表面上に白色ベタ塗り層Ｗを設けた後に、その白色ベタ塗り層Ｗの上から非白色パターン層Ｐを設ける方法であって、前記非白色パターン層Ｐの解像度を、前記白色ベタ塗り層Ｗの解像度よりも高くすることを特徴とする。 - 特許庁

A barrier metal layer 21, a protection layer 20, a free ferromagnetic layer 18b, a nonmagnetic intermediate layer 18a, a tunnel barrier layer 17, a pinned ferromagnetic layer 14b, a nonmagnetic intermediate layer 15, a pinned ferromagnetic layer 14a, an anti-ferromagnetic layer 13, and an alignment control film 12 are patterned by ion milling.例文帳に追加

イオンミリングを行うことにより、バリアメタル層２１、保護層２０、フリー強磁性層１８ｂ、非磁性中間層１９、フリー強磁性層１８ａ、トンネルバリア層１７、ピンド強磁性層１４ｂ、非磁性中間層１５、ピンド強磁性層１４ａ、反強磁性層１３及び配向制御膜１２をパターニングする。 - 特許庁

A semiconductor device comprises a semiconductor layer formed on a substrate, an insulating layer, the semiconductor layer while is so patterned as to expose a part of the semiconductor layer, a barrier layer formed over parts of the exposed insulating layer and semiconductor layer, and a conductive layer formed on the barrier layer.例文帳に追加

半導体デバイスは、基板上に形成された半導体層と、半導体層上に形成され、半導体層の一部を露出させるようにパターニングされた絶縁層と、絶縁層および半導体層の露出部分上に形成されたバリア層と、バリア層上に形成された導電層とを含んでいる。 - 特許庁

The wiring forming method includes: patterning a silver halide emulsion onto at least one surface side of a substrate in accordance with a wiring pattern to form a patterned emulsion layer made of the silver halide emulsion on at least the one surface side of the substrate; exposing the patterned emulsion layer; and performing development processing for the exposed patterned emulsion layer to form a patterned conductive silver layer as the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A dielectric layer 23 is formed on a support surface 22 of a base substrate 21 and a contact surface 27 of the dielectric layer 23 is patterned to define a well feature.例文帳に追加

ベース基板21の支持面22上に誘電体層23を形成し、誘電体層23の接触面27をパターニングしてウェル形状を画定する。 - 特許庁

To provide an electroluminescence device including a patterned layer on a solvent-susceptible layer and a method of making and using such a device.例文帳に追加

溶媒感受性層上のパターニングされた層を含むエレクトロルミネセンスデバイス、およびそのようなデバイスを製造および使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EL element with heat resistance having a hole transport layer or a light-emitting hole transport layer insoluble to an organic solvent, and capable of being patterned.例文帳に追加

耐熱性があり、正孔輸送層または正孔輸送発光層の有機溶媒への不溶化やパターンニングも可能なＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

An organic EL element layer 15 consisting of an anode 11, a cathode 12 patterned into stripes and an organic layer 13 is formed on the lighting device 200.例文帳に追加

照明装置２００には、陽極１１、ストライプ状の陰極１２、及び有機層１３からなる有機ＥＬ素子層１５が形成されている。 - 特許庁

The patterned first silicon layer is irradiated and melted with a laser beam for the crystallization of the first silicon layer.例文帳に追加

パターニングされた第１のシリコン層にレーザビームを照射し、照射したレーザビームで第１のシリコン層を溶融して、第１のシリコン層を結晶化する。 - 特許庁

A back surface exposure process is executed and a photoresist layer 212 is patterned on this passivation layer with the use of the gate and the source/drain terminal as a mask.例文帳に追加

裏面露光プロセスを実行して、このパシベーション層上に、前記ゲート、ソース／ドレイン端子をマスクとして用いて、フォトレジスト層２１２をパターン化する。 - 特許庁

A first photoresist layer is patterned and etched to form a rectangular trench 37 in an insulation layer 31 formed of alumina.例文帳に追加

第１のフォトレジスト層をパターニングし、これを用いてエッチングを行うことにより、酸化アルミニウムからなる絶縁層３１に矩形溝３７を形成する。 - 特許庁

A cap layer 14 on an IC chip is coated with photoresist and patterned, to expose an UBM and the peripheral part of the cap layer around the UBM.例文帳に追加

ＩＣチップ上のキャップ層１４をフォトレジストでコーティングしパターン化してＵＢＭとＵＢＭ周囲のキャップ層の周辺部分を露出させる。 - 特許庁

A patterned mask layer defining a second gate electrode of the conductive layer corresponding to the second area is formed over the semiconductor substrate.例文帳に追加

第２領域に対応する導電層の第２ゲート電極を画定するパターニングされたマスク層が半導体基板を覆うように形成される。 - 特許庁

When forming the bus electrode 15, a low-melting glass layer which is a formation material of the dielectric layer 2 is patterned on the bus electrode 15.例文帳に追加

バス電極１５の形成に際しては、バス電極１５上に誘電体層２の形成素材である低融点ガラスの層をパターニングする。 - 特許庁

By using the conductive layer applied substrate wherein the conductive layer is formed patternwise, a patterned film can be repeatedly produced.例文帳に追加

この導電性層がパターン状に形成された導電性層付基体によれば、パターン化されたフィルムを繰り返して製造することができる。 - 特許庁

To provide a patterned perpendicular magnetic recording medium which has an exchange coupling composite recording structure of an FePt layer and a Co/X multiple layer.例文帳に追加

ＦｅＰｔ層およびＣｏ／Ｘ多重層の交換結合複合記録構造を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

A semiconductor layer 20 and the metal layer 22 are patterned by etching through the etching resist 28 to form wiring 30 from the metal layer 22, and a part under the wiring 30 of the semiconductor layer 20 is left as it is.例文帳に追加

エッチングレジスト２８を介して、半導体層２０及び金属層２２をエッチングによってパターニングして、金属層２２から配線３０を形成し、半導体層２０の配線３０下の部分を残す。 - 特許庁

After a thin film layer 14 having a predetermined shape is deposited on the ceramic layer 12 by using a focused ion beam system, the ceramic layer 12 is patterned by etching using the thin film layer 14 as a mask.例文帳に追加

このセラミック層１２上に、集束イオンビーム装置を用いて所定形状の薄膜層１４を堆積した後、この薄膜層１４をマスクとして、エッチングによりセラミック層１２をパターニングする。 - 特許庁

An organic insulating layer is formed, the insulating layer is patterned, a liner is accumulated on the insulating layer, the above structure is exposed in plasma, and a pore is formed in an insulating layer of an area adjacent to the liner.例文帳に追加

本発明は、有機絶縁層を形成し、絶縁層をパターン化し、絶縁層上にライナを堆積し、該構造をプラズマに露出してライナに隣接する領域内の絶縁層内に微細孔を形成する。 - 特許庁

To form a resist layer which is patterned with higher precision by a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法において、より高精度にパターン化されたレジスト層を形成することである。 - 特許庁

The resin filling part 93 is patterned to form a conductor layer 50, after plating the entire surface of the resin filling part.例文帳に追加

樹脂充填部９３上に、全面めっきを施した後にパターニングを行って導体層５０を形成する。 - 特許庁

A trench 16 is then formed in the active layer 12 by using the patterned underlying oxide films 14 and 15 as a mask (Fig.2(c)).例文帳に追加

パターニングした各下地酸化膜１４、１５をマスクとして活性層１２にトレンチ１６を形成する（図２（ｃ））。 - 特許庁

To securely obtain an objective pattern effect by preventing the flow of a pattern which is patterned on a gel coat layer and to further enhance a transparent feeling, design, effect and grade properties not obtained heretofore.例文帳に追加

ゲルコート層上に柄付けした柄が流れるのを防止し、目的とする柄模様を確実に得る。 - 特許庁

A patterned and U-shaped electrode terminals 5 are arranged on the three surfaces of the insulation layer at regular pitches.例文帳に追加

絶縁層の３表面には、パターン化したコ字形状の電極端子５が一定のピッチで形成される。 - 特許庁

As a third process, the resin layer for the optical waveguide is patterned into the shape of the desired optical waveguide 4.例文帳に追加

第３の工程として、光導波路用樹脂層を所望の光導波路４の形状にパターニングする。 - 特許庁

In a black matrix substrate manufacturing step, a photosensitive black resin composition layer 1 is patterned on a substrate 2.例文帳に追加

ブラックマトリクス基板製造工程では、感光性黒色樹脂組成物層１を基板上２にパターニングする。 - 特許庁

STACKED STRUCTURE HAVING PATTERNED OPTICAL ANISOTROPIC LAYER, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン状の光学異方性層を有する積層構造体及びその製造方法並びに液晶表示装置 - 特許庁

Furthermore, a gate oxide film 7 is formed thereon, after a polysilicon layer 8 is formed, a gate electrode 9 is patterned.例文帳に追加

さらに、この上に、ゲート酸化膜７を形成し、ポリシコン層８を形成した後、ゲート電極９をパターニングする。 - 特許庁