「patternwise」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

(2) The resist is patternwise exposed with an allowance for the resolution limit of the resolving power of wavelength of exposing light and this resist or a mask material formed from the resist is treated by isotropic etching to carry out patterning finer than the resolution limit.例文帳に追加

レジストについて露光波長の解像力の解像限界より余裕をもったパターン露光を行い、その後該レジスト又はレジストにより形成されたマスク材料を等方性エッチングを用いて処理することにより、前記露光波長の解像力の解像限界よりも微細なパターニングを行う。 - 特許庁

In the patterning method, a photosensitive heat-resistant resin precursor is applied on a substrate, dried, patternwise exposed, developed, subjected to heat treatment 1 at 50-200°C for a short time within 5 hr after the development and further subjected to heat treatment 2 at 250-450°C.例文帳に追加

感光性耐熱樹脂前駆体を基板上に塗布、乾燥、パターン上に露光、現像した後、現像終了から５時間以内に５０℃〜２００℃で短時間熱処理１を実施した後、さらに２５０℃〜４５０℃で熱処理２を実施することを特徴とする感光性耐熱樹脂前駆体のパターン加工方法。 - 特許庁

This single particle pattern laminated membrane is manufactured by developing a fine particle-containing liquid or the like on the support having the surface on which the hydrophilic graft polymer chain is present patternwise and two-dimensionally flocculating the fine particles while controlling the developing thickness of the fine particle-containing liquid or the like to form the single particle layer.例文帳に追加

このような単粒子パターン積層薄膜は、微粒子含有液体等を親水性グラフトポリマー鎖がパターン状に存在する表面を有する支持体上に展開し、該微粒子含有液体等の展開厚みを制御しつつ微粒子を２次元凝集させ、単粒子層を形成させることにより製造しうる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a microarray chip capable of correcting a defective part or removing the same when the defective part is formed and having a specific biopolymer arranged and fixed thereto in a fine patternwise state without causing the non-specific adsorption of an object to be inspected or the like.例文帳に追加

本発明は、不良部分が発生した場合に修正やその不良部分の除去が可能であり、また被検査物が非特異的な吸着をすること等のない、微細なパターン状に特異性生体高分子が配列・固定されたマイクロアレイチップの製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a microarray chip capable of correcting a defective part or removing the same when the defective part is formed and having a specific biopolymer arranged and fixed thereto in a fine patternwise state without causing the non-specific adsorption of an object to be inspected or the like.例文帳に追加

本発明は、不良部分が発生した場合に修正やその不良部分の除去が可能であり、また被検査物が非特異的な吸着をすること等のない、高精細なパターン状に特異性生体高分子が配列・固定されたマイクロアレイチップの製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The method for forming the graft pattern includes: bringing a radical-polymerizable unsaturated compound into contact with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360-700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material.例文帳に追加

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a surface inspection device capable of certainly detecting a patternwise spills not having marked unevenness like a surface crack and turnover or turnup in a surface to be inspected, developing high flaw detection precision, and being sufficiently incorporated even in a product quality inspection line, and a surface inspection method.例文帳に追加

被検査面における表面の割れ・抉れ・めくれ上がりのような顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出でき、高い欠陥検出精度を発揮でき、製品の品質検査ラインにも十分組込ことができる表面検査装置および方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A resist film 11 comprising a chemical amplification type resist material having a base resin containing at least one selected from a t-butyl group, a t-butyloxycarbonyl group and a t-butyloxycarbonylmethyl group as a protective group and an acid generator is formed and patternwise exposed by irradiation with extreme-ultraviolet radiation (13.5 nm band) 13.例文帳に追加

保護基として、ｔ−ブチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基及びｔ−ブチルオキシカルボニルメチル基のうちの少なくとも１つを含むベース樹脂と酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線（１３．５ｎｍ帯）１３を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

In a photolithographic method including a step for coating the smooth surface 1a of a substrate 1 with a photosensitive material, a step for patternwise exposing the resulting photosensitive material layer 2 and a step for developing the layer 2, the surface of the photosensitive material layer is polished prior to the exposure.例文帳に追加

本発明によるフォトリソグラフィ方法は、平滑面１ａを有する基体１上の、平滑面に感光性材料を塗布する工程と、この感光性材料層２にパターン露光する工程と、現像する工程とを有するフォトリソグラフィ方法にあって、パターン露光に先立って感光性材料層の表面研磨加工を行う。 - 特許庁

The objective pattern forming method includes a step for applying and drying a resin composition containing a polyimide precursor or polybenzoxazole on a substrate, a step for curing the composition by heating, a step for patternwise irradiating the composition with ion beams, a step for developing the polyimide precursor and a step for imidating the polyimide precursor by heating.例文帳に追加

ポリイミド前駆体又はポリベンズオキサゾールを含む樹脂組成物を、基板上に塗布し乾燥する工程、加熱硬化する工程、イオンビームをパターン照射する工程、該ポリイミド前駆体を現像する工程、該ポリイミド前駆体を加熱イミド化する工程を含むことからなる樹脂組成物のパターン形成方法。 - 特許庁

For example, the visible ray-sensitive resin composition 13 and a UV-sensitive resin composition 12 are laminated, patternwise exposed with visible ray VIS and developed, the whole surface is exposed with ultraviolet rays UV using the resulting pattern of the visible ray-sensitive resin composition 13a and development is carried out to obtain a desired pattern (12a) of the resin composition 12.例文帳に追加

例えば可視光感光性樹脂組成物１３と紫外線感光性樹脂組成物１２とを積層して用いて、可視光ＶＩＳでパターン露光、現像し、得られた可視光感光性樹脂組成物１３ａのパターンをマスクとして全面に紫外線ＵＶで露光し、現像することで、所望の樹脂組成物のパターン（１２ａ）を得る。 - 特許庁

The pattern form comprises a substrate, a property changing layer formed on the substrate, containing at least a photocatalyst, fine metal particles and a property imparting agent, and undergoing a change in property due to irradiation with energy, and a property changed pattern obtained by patternwise changing a property of the property changing layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒、金属微粒子、および特性付与剤を含有し、エネルギー照射により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性がパターン状に変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps 201 and 202 of forming a chemically amplified resist layer on a semiconductor substrate; a step 203 of patternwise exposing the chemically amplified resist layer; a step 204 of heating the chemically amplified resist layer after the exposure; a first developing step 205 in which alkali concentration is high; and a second developing step 206 in which alkali concentration is low.例文帳に追加

半導体基板上に化学増幅型レジスト層を形成する工程２０１、２０２と、化学増幅型レジスト層をパターン露光する工程２０３と、露光処理後に化学増幅型レジスト層を加熱する工程２０４と、アルカリ濃度の高い第一現像処理工程２０５、その後アルカリ濃度の低い第二の現像処理工程２０６を含む。 - 特許庁

In the method for producing a color filter in which ink jet heads each with many orifices are used and coloring ink is imparted from orifices to the top of a substrate while moving the substrate relatively to the ink jet heads to patternwise color a specified part of the substrate, ink jet heads in which plural orifices 2 are faced to one pixel to be colored are used.例文帳に追加

多数のオリフィスを有するインクジェットヘッドを使用し、インクジェットヘッドに対して基板を相対的に移動させながら、オリフィスから着色インキを基板上に付与し、基板の特定部位をパターン状に着色する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、着色する一つの画素に複数のオリフィス２を対応させたインクジェットヘッドを使用する。 - 特許庁

In a process for patternwise exposing a negative resist for an ink jet process of the pattern forming method, a pattern is formed by irradiation with an energy beam in an environmental atmosphere in which the contact angle between a negative resist surface which becomes developer-insoluble by an energy beam and ink becomes larger than the contact angle between an unirradiated developer-soluble surface part and the ink.例文帳に追加

インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The decorative sheet is obtained by providing a patternwise low gloss printing layer on one side of a transparent base material layer made of a synthetic resin and subsequently providing a surface protective layer to one side of the transparent base material layer while providing a pattern printing layer to the other side of the transparent base material layer, wherein the printing layer is colored by an organic pigment.例文帳に追加

合成樹脂製透明基材層の一方の面にパターン状低艶印刷層を設けた後に前記一方の面全面に表面保護層を設け、前記合成樹脂製透明基材層の他方の面側に絵柄印刷層を設けた化粧シートであって、前記パターン状低艶印刷層が有機系顔料で着色されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加

光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層５が最上面に形成された基板１をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子３を露光部４に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁

A polymerizable liquid crystal composition is applied on a substrate 2 having aligning ability to form a coating film 3a, this coating film 3a is heated to a temperature showing liquid crystal regularity to allow it to exhibit liquid crystal regularity, and the coating film 3a is cooled to a cooling temperature below a liquid crystal transition temperature, held, and fully or patternwise irradiated with ionizing radiation within 1 h.例文帳に追加

配向能を有する基材２上に、重合性液晶組成物を塗布して塗膜３ａを形成し、液晶規則性を示す温度に加熱して液晶規則性を発現させた後、液晶転移点以下の冷却温度に冷却して保持し、１時間以内に全面もしくはパターン状に電離放射線を照射することにより課題を解決することができた。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step of bonding a compound, to a substrate, having both a polymerization initiating moiety capable of undergoing photocleavage to initiate radical polymerization and a substrate bonding moiety, and a step of contacting a radical-polymerizable unsaturated compound with the substrate and exposing light thereto patternwise, so as to form a region where a graft polymer is generated and a region where a graft polymer is not generated.例文帳に追加

光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、該基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させて、パターン状に露光して、グラフトポリマー生成領域と非生成領域とを形成する工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a sandblast resistant photosensitive resin composition which can be directly and patternwise exposed with visible light, particularly argon laser light whose wavelength peak is at about 488 nm or YAG(yttrium aluminum garnet) second harmonic laser light whose wavelength peak is at about 532 nm and has superior profitability and high sensitivity and to provide a dry film using the composition and a method for cutting a body processed using these.例文帳に追加

可視光、特に波長ピークが４８８ｎｍ付近にあるアルゴンレーザー光や波長ピークが５３２ｎｍ付近にあるＹＡＧ第２次高調波レーザー光などの可視光によって直接描画露光することができ、且つ経済性に優れた高感度な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物、およびこれを用いたドライフィルム、並びにこれらを用いた被処理体の切削方法を提供する。 - 特許庁

The graft polymer pattern forming method includes: (a) a step of forming a photocurable resin composition layer on a substrate; (b) a step of forming a photoreactive layer containing a compound having a polymerizable double bond on the photocurable resin composition layer; and (c) a step of patternwise exposing the photoreactive layer to produce a graft polymer in the exposed area, whereby a graft polymer pattern is formed.例文帳に追加

（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 - 特許庁

A monolayer is formed on a substrate by bonding a silane compound having a hydrolyzable group and a carbon-containing group with liquid-repellent ends to the substrate, the top of the substrate is patternwise coated with an alkaline liquid by an ink jet process and the monolayer in the coated areas is removed by the hydrolytic action of the alkaline liquid to form a liquid-repellent monolayer pattern and a patterned lyophilic substrate surface.例文帳に追加

基板上に、加水分解性基と、撥液性末端を有する炭素含有基とを有するシラン化合物がこの基板に結合した単分子層を形成し、アルカリ性の液体をインクジェット法で基板上にパターン塗布し、この塗布した部分において前記単分子層を上記アルカリ性液体の加水分解作用により除去し、撥液性の単分子層と、パターン化された親液性の基板表面を形成する。 - 特許庁

A resist solution is applied on a substrate and dried and the formed resist film is patternwise exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

基板上にレジスト溶液を塗布し、乾燥した後、形成されたレジスト膜をパターン状に露光し、次いで、現像する工程を含むパターン形成方法において、基板上にレジスト溶液を塗布した後、乾燥する前に、基板表面の端部に過剰に存在するレジスト溶液(a) 、レジスト溶液の塗布時に基板側面から裏面に回り込んで付着したレジスト溶液(b) 、または、これらのレジスト溶液(a) 及び(b) の両方を、プロピレングリコールモノメチルエーテル６０〜９５重量％と酢酸ブチル５〜４０重量％との混合物からなる洗浄液を用いて洗浄し除去する工程を配置することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁