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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
Process gas generally tends to precipitate at higher temperature with increasing pressure.例文帳に追加
一般に、プロセスガスは圧力が高くなるほど高温で析出する傾向がある。 - 特許庁
To stably control temperature of a combustor by a simple process.例文帳に追加
簡単な工程で、燃焼器の温度を安定して制御することを可能にする。 - 特許庁
The thermal process has the processing temperature lower than the melting point of the phase transformation film.例文帳に追加
熱処理工程は、相変化膜の熔融点より低い工程温度を含む。 - 特許庁
CONTROL METHOD OF VAPOR TEMPERATURE OF VAPOR COMPRESSOR IN UPGRADED BROWN COAL PROCESS例文帳に追加
改質褐炭プロセスにおける蒸気圧縮機の蒸気温度制御方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD OF TEMPERATURE CONTROL DURING CLEAVING PROCESS OF THICK FILM MATERIAL例文帳に追加
厚膜材料劈開工程中の温度制御装置および温度制御方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR COMPENSATING AMPLIFIER OUTPUT FOR TEMPERATURE AND PROCESS VARIATIONS例文帳に追加
増幅器出力の温度及び工程の変動を補償する方法及び装置 - 特許庁
The process is operated in the presence of hydrogen at a temperature in the range 200-400°C.例文帳に追加
本方法は、水素存在下、200〜400℃の範囲の温度で操作される。 - 特許庁
The temperature of the coke oven gas in the above process is preferably ≥400°C.例文帳に追加
この時のコークス炉ガスの温度としては、400℃以上であることが好ましい。 - 特許庁
The flow path 41 of the chip 2 is formed in the temperature range selected, based on the DNA dissociation process, the annealing process, and the replication process in the temperature gradient occurring in the chip 2, respectively.例文帳に追加
ここで、チップ2の流路41は、チップ2に発生する温度勾配におけるDNAの解離工程、アニーリング工程および複製工程に基づいてそれぞれ選択された温度領域に形成されている。 - 特許庁
This health food is produced by three processes consisting of a first process for treating silkworms to dry at a high temperature in vacuum, a second process for pulverizing them and a third process for further treating at a high temperature to inactivate α-glucosidase.例文帳に追加
蚕を真空中で高温乾燥処理する第1工程と、粉末にする第2工程と、さらに高温処理をして、α−グルコシダーゼを不活性化する第3工程とから製造される。 - 特許庁
The pulverizing and drying process comprises a first process for raising the temperature to about 60°C and agitating and pulverizing, and a second process for agitating and pulverizing at 60-80°C.例文帳に追加
前記粉砕・乾燥工程は、温度を約60℃まで上げて攪拌・粉砕する第一の工程と、温度を60℃〜80℃として攪拌・粉砕する第二の工程を含む。 - 特許庁
In the method, heating at high temperature using hot air or far-infrared rays is performed after a boiling/ripening process, after a smoking attachment process, and before a drying process.例文帳に追加
当該方法は、熱風又は遠赤外線を用いた高温加熱を煮熟工程後、燻付け工程後、かつ、乾燥工程前に高温加熱を行う。 - 特許庁
The amount of process liquid ejected from a process liquid ejection section capable of ejecting the process liquid is reduced with increasing temperature of an ink ejection section capable of ejecting ink.例文帳に追加
インクを吐出可能なインク吐出部の温度が高いほど、処理液を吐出可能な処理液吐出部からの処理液の吐出量を少なくする。 - 特許庁
In the bond magnet insertion process, the bond magnet compressed in the bond magnet compression process is inserted into the rotor frame under a normal temperature environment as in the bond magnet compression process.例文帳に追加
ボンド磁石挿入工程は、先のボンド磁石圧縮工程で圧縮したボンド磁石を、同じく常温環境下でロータフレームに挿入する - 特許庁
The method for high frequency induction heat-treatment is provided with a temperature control process for hardening, a hardening timing control process, and a hardening cooling process.例文帳に追加
本発明の高周波熱処理方法は、焼入用温度制御工程と、焼入時期制御工程と、焼入冷却工程とを備えている。 - 特許庁
In the third carbonization process, the high strength carbon fiber carbonized in the first carbonization process and the second carbonization process is further treated at a high temperature.例文帳に追加
第三炭素化工程においては、上記第一炭素化工程と第二炭素化工程とにおいて炭素化した高強度炭素繊維を、更に高温処理する。 - 特許庁
A method for preserving the plasma is used and has the process (1) and a process (3) for preserving the plasma acquired in the process (1) at a temperature from -200 to 10°C.例文帳に追加
また、工程(1)と、工程(1)で得た血漿を−200〜10℃で保存する工程(3)とを有することを特徴とする血漿の保存方法を用いる。 - 特許庁
Then, the sealing process for plasma-etching (process 212) the device starts, when dimer powder is heated to a temperature of approximately 150°C to be vaporized into a gas (process 214).例文帳に追加
次いで、デバイスを、プラズマエッチングする212シーリング工程は、ダイマー粉末がガスへと気化する約150℃の温度まで加熱されるときに始まる214。 - 特許庁
Target temperature Tt (broken line Y) of the PM filter set during manual regeneration process is set in high temperature side of target temperature Tt (solid line X) of the PM filter set during automatic regeneration process.例文帳に追加
手動再生処理時に設定されるPMフィルタの目標温度Tt(破線Y)は、自動再生処理時に設定されるPMフィルタの目標温度Tt(実線X)よりも高温側に設定される。 - 特許庁
Thereby, the grasping of the accurate finishing of the treatment in the target temperature and the temperature in the process becomes possible, the required target temperature to the foregoing process can be lowered, and the cost reduction of energy, etc., and enhancement in productivity become possible.例文帳に追加
目標温度での正確な処理終了、工程内での温度把握か可能になり、前工程への要求目標温度を低減でき、エネルギー等のコスト削減、生産性向上が可能になる。 - 特許庁
In the bacteria elimination process, the clothes in a drum 22 is heated with hot air to eliminate the bacteria and the drum 22 whose temperature is raised by the bacteria elimination process is cooled in the rinsing process after the bacteria elimination process.例文帳に追加
この除菌工程はドラム22内の衣類を温風で加熱除菌するものであり、除菌工程で昇温したドラム22は除菌工程後のすすぎ工程で冷却される。 - 特許庁
Electrolytic protection is carried out for both forming dies (4, 5) by applying AC voltage (20) to both forming dies (4, 5) in press forming process such as a temperature rising process, a pressing process and a cooling process.例文帳に追加
昇温・プレス・冷却と言う、プレス成形プロセス中において、その双方の成形用金型(4,5)に交流電圧(20)を印可することにより、電気的に防食を行う。 - 特許庁
For example, the utilization ratio lowering process is at least a process selected from among a group comprising a hydrocarbon-type-fuel supply quantity variation process, a reforming temperature variation process, and a power generation load variation process.例文帳に追加
また、利用率低下工程は、例えば、炭化水素系燃料供給量変動工程、改質温度変動工程、発電負荷変動工程からなる群より選択された少なくとも一つの工程である。 - 特許庁
In a process S108, the temperature of the growth furnace 10 is changed to a growth temperature T_B from the growth temperature T_W before the barrier layer is grown.例文帳に追加
工程S108では、障壁層を成長する前に成長温度T_Wから成長温度T_Bに成長炉10の温度を変更する。 - 特許庁
Temperature difference (Ts-Tc) between the surface temperature Ts and the central temperature Tc of the steel ingot at the start of the extend forging process is within the range from 10°C to 40°C.例文帳に追加
鍛伸が開始される時点における、鋼塊の表面温度Tsと中心温度Tcとの差(Ts−Tc)は、10℃以上40℃以下である。 - 特許庁
To provide an improved temperature control system and method to be used for a manufacturing process such as a semiconductor manufacturing process and equipment.例文帳に追加
半導体製造プロセス等の製造プロセスと装置に使用する改善された温度制御システムと方法を提供する。 - 特許庁
Next, there is provided a sealing resin application process (S3) for applying the sealing resin at a temperature in the heating process prior to the sealing resin application.例文帳に追加
封止樹脂塗布前加熱工程の温度で封止樹脂材を塗布する封止樹脂塗布工程(S3)を設ける。 - 特許庁
And, the baked bread can be retained for the predetermined time in the fresh baked condition because the process has the temperature reserving process.例文帳に追加
また、保温工程があることにより焼き上がったパンを焼きたて状態にして所定時間維持することができる。 - 特許庁
During this crystallization process, the film is not widened in width, and the film is widened in width after the temperature holding process to produce a retardation film 17.例文帳に追加
この結晶化工程の間は拡幅せず、温度保持工程の後に拡幅して位相差フィルム17とする。 - 特許庁
This process is especially effective as a method for purifying air of a raw material prior to low-temperature distillation process of air.例文帳に追加
このプロセスは、特に、空気の低温精留プロセスに先立って原料空気を精製する方法として有効である。 - 特許庁
In the controller 130, when running a production process in which a lower limit temperature is set, it is confirmed whether or not the temperature detected by the temperature sensor 15 is lower than the lower limit temperature.例文帳に追加
制御装置130は、下限温度が設定されている製造工程を実行しようとする際に、温度センサ15が検知する温度が下限温度未満であるか否かを確認する。 - 特許庁
When the food insertion is detected, a temperature compensation process controlling the temperature at a third reference temperature higher than a second reference temperature at the time of food insertion detection is implemented.例文帳に追加
そして、食品投入が検知されると、食品投入検知時の第2の基準温度より高い第3の基準温度で温度制御する温度補償行程を実行させる。 - 特許庁
In the film deposition process, deposition is performed under such a condition that the temperature of the substrate during deposition is controlled to be in a range from the eutectic temperature of zinc oxide and the flux to a temperature higher by 150°C or less than the eutectic temperature.例文帳に追加
成膜工程では、堆積時の基板温度を酸化亜鉛とフラックスの共晶温度以上共晶温度+150℃以下の範囲に制御した条件で堆積するものである。 - 特許庁
After drying the particle dispersion layer and the coating layer to some degree at a low temperature, a temperature of the substrate is raised to a temperature Ta satisfying inequalities: T2<Ta<T3 in a temperature raising process.例文帳に追加
低い温度で粒子分散層および被覆層をある程度乾燥させた後、昇温工程において、基板は、T2<Ta<T3を満たす温度Taに昇温される。 - 特許庁
In a raw web roll storing process 26, the raw web roll 38 is stored for 5-80 days at a storing temperature higher than the winding temperature.例文帳に追加
原反ロール保存工程26で、原反ロール38を巻取温度よりも高い保存温度で5日〜80日保存する。 - 特許庁
As a result of this arrangement, the temperature is controlled to be at the temperature respectively selected at each process, when DNA passes through the flow path 41.例文帳に追加
このため、流路41をDNAが通過する際、各工程においてそれぞれ選択された温度に制御される。 - 特許庁
After this curing process, the reaction completed product is cooled to a temperature of 40°C or below (corresponding to the use temperature of the plastic lens).例文帳に追加
この硬化工程後、40℃以下の温度(プラスチックレンズの使用温度に相当)に反応完結生成物を冷却する。 - 特許庁
Preferably a temperature raising process for raising temperature of the water treatment equipment is performed before the hot water flow treatment.例文帳に追加
熱水通水工程の前に、水処理機器の温度を上昇させる昇温工程を実施することが好ましい。 - 特許庁
A cooling temperature in the forced cooling process is preferably equal to a solidification temperature of the dispersion or higher and ≤30°C.例文帳に追加
強制冷却する工程の冷却温度は、分散体の凝固温度以上30℃以下であることが好ましい。 - 特許庁
In certain embodiments, the process temperature is maintained at a temperature of about 350°C or lower during the chemical vapor deposition to fill the feature.例文帳に追加
或る実施例に於いて、工程温度は特徴部充填の化学蒸着の間約350°C以下に維持される。 - 特許庁
Then, annealing is conducted at a temperature at least equal to a bonded interface strengthening temperature (Tr) used in a following process but less than 450°C.例文帳に追加
次に、その後の結合界面強化温度(Tr)に少なくとも等しいが450℃未満の温度でアニーリングする。 - 特許庁
A temperature of exhaust gas produced by a combustion process (S316) is detected (S317) to determine (S320) a predetermined temperature threshold.例文帳に追加
燃焼工程(S316)で生成した排ガス温度を検出(S317)して、所定温度閾値を判定(S320)する。 - 特許庁
In a second thermal processing process (step S60), the polyimide film is heated up to a temperature equal to or higher than the curing temperature of the polyimide film.例文帳に追加
第2熱処理工程(ステップS60)では、ポリイミド膜を、ポリイミド膜の硬化温度以上の温度まで加熱する。 - 特許庁
In activation, a process is repeated until t_ml becomes larger than t_0, where temperatures indicated by the temperature sensors are compared, the lowest temperature (t_ml) is selected, and the temperature t_ml is compared with the reference temperature t_0 (for example, freezing point temperature).例文帳に追加
始動時、これらの温度センサが示す温度を比較して、最も低い温度(t_mlとする)を選別し、温度t_mlと基準温度t_0(例えば氷点温度)とを比較する過程を、t_mlがt_0より大となるまで繰り返す。 - 特許庁
The device executes high temperature warning control process and lights the water temperature warning lamp 53 when cooling water temperature T is higher than a high temperature side set value (overheating criterion water temperature) Th, and there is risk of overheating of the engine 2.例文帳に追加
冷却水温Tが高温側設定値(オーバーヒート判定水温)Th以上であり、エンジン2がオーバーヒートするおそれがある場合は、高温警告制御処理を実行して水温警告ランプ53を点灯する。 - 特許庁
To provide a temperature recording system for measuring a minute temperature change, causing information to be additionally written into a cool memory in process of temperature history recording, and excelling in managing a plurality of temperature history data, and a temperature recorder.例文帳に追加
微少な温度変化を計測可能で、温度履歴記録中にクールメモリに追加で情報書き込みでき、複数の温度履歴データ管理に優れた温度記録システム、および温度記録装置を提供する。 - 特許庁
To manufacture a transistor having a good electrical characteristic by a low-temperature process.例文帳に追加
低温プロセスによって良好な電気的特性を有するトランジスタを製造する。 - 特許庁
The temperature T_L of the reaction liquid L of the chemical bath deposition process is equal to or higher than 70°C.例文帳に追加
化学浴析出法の反応液Lの温度T_Lは70℃以上である。 - 特許庁
This heat pump has a coolant circuit 11 for drawing heat from a low-temperature object in the decomposition process of a gas hydrate and giving the heat to a high-temperature object in the generation process of the gas hydrate.例文帳に追加
ヒートポンプは、ガスハイドレートの分解過程で低温の物体から熱を汲み上げ、ガスハイドレートの生成過程で高温の物体に熱を与える冷媒回路11を備える。 - 特許庁
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