「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A fan 64 forcedly circulates the process gas blown from each nozzles 63 to uniform temperature distribution and process-gas distribution in the process tube 22.例文帳に追加

各ノズル６３から吹き出したプロセスガスを、ファン６４によって強制的に対流させて、プロセスチューブ２２内における温度分布及びプロセスガスの分布を均一にする。 - 特許庁

The method for drying and crushing the basidiomycete includes process for lyophilizing the basidiomycete at a control temperature of 35 to 65°C and a process for crushing the dried product obtained in the lyophilization process.例文帳に追加

前記乾燥粉砕方法は、担子菌を、35〜65℃の管理温度で凍結乾燥する工程、及び前記凍結乾燥工程により得られた乾燥物を粉砕する工程を含む。 - 特許庁

Subsequently a precure process for precuring the matrix resin by heating it and an aftercure process for performing the aftercure by heating the matrix resin at a temperature higher than the precure process.例文帳に追加

その後、母材樹脂を加熱してプリキュアするプリキュア工程と、母材樹脂をプリキュア工程より高い温度で加熱してアフターキュアするアフターキュア工程とを行う。 - 特許庁

In the reaction chambers respectively adjacent to the low temperature zone, the reaction zone, and the cooling zone, a preheating process, a reaction process, and a cooling process are simultaneously performed.例文帳に追加

低温領域、反応領域、及び冷却領域にそれぞれ隣接した反応チェンバーで予熱工程、反応工程及び冷却工程が同時に行なわれる。 - 特許庁

To make an appropriate temperature compensation even when the ambient temperature of a thermosensitive element and the ambient temperature of processing means (processing circuit) that performs a process for a temperature compensation of the thermosensitive element change independently of each other.例文帳に追加

感熱素子の周囲温度と、感熱素子の温度補償のための処理を行う処理手段（処理回路）の周囲温度とが互いに無関係に変化しても、適切な温度補償が行えるようにする。 - 特許庁

The application of the heat energy can be done by heat treating the sintered body by raising the temperature of the sintered body to the required temperature range and keeping the temperature for the required period of time, or by keeping the temperature of the sintered body in a temperature decreasing process of the firing at the required temperature range and for the required period of time.例文帳に追加

熱エネルギの付与は、焼結体を所定温度域まで昇温し、かつ所定時間保持する熱処理とすることができるし、また、焼成の降温過程における焼結体を、所定温度域で所定時間保持することによってもできる。 - 特許庁

A first process for applying shearing force to a fatty acid amide in water at a temperature higher than the fusing temperature of the fatty acid amide to emulsify the fatty acid amide and a second process for charging the emulsion formed in the first process in water the temperature of which is lower than the fusing temperature of the fatty acid amide or the fatty acid amide emulsion to mix the same with water or the emulsion are successively performed.例文帳に追加

脂肪酸アミドを水中でその融解温度以上の温度で剪断力を加えて乳化する第１工程と、この第１工程で生成されたエマルジョンを脂肪酸アミドの融解温度以下の水または脂肪酸アミドエマルジョン中に投入して混合する第２工程とを順に行う。 - 特許庁

In the apparatus for successively and automatically executing a mixing process, a fermenting process, and a baking process for the bread material mainly composed of the powder body, the water and the yeast, a water temperature inside the bread material is detected by a water temperature sensor and the respective processes of making the bread are executed when the detected water temperature is the fixed temperature or higher.例文帳に追加

主として粉体と水とイーストよりなるパン材料を混合工程から発酵工程、焼成工程までを順次自動的に実行するものにおいて、水温センサによりパン材料の内の水温を検出し、検出水温が一定温度以上の時に製パンの各工程を実行するものである。 - 特許庁

When necessity of temperature rise process and/or reduction process of the exhaust emission control catalyst is judged and it is judged that the temperature rise process or the reduction process is necessary, post injection is performed by a fuel injection valve capable of directly injecting fuel into a cylinder.例文帳に追加

排気浄化触媒の昇温処理及び／又は還元処理の必要性を判定し、昇温処理或いは還元処理が必要と判断されるときには、気筒内へ燃料を直接噴射可能な燃料噴射弁によってポスト噴射を実行する。 - 特許庁

The method comprises: a process of adding perchloric acid into the waste water containing the fluorophosphoric acid compound; a process of adjusting a temperature of the waste water to 65°C to 85°C; a process of keeping the waste water within the temperature range; and a process of adding a calcium compound into the waste water.例文帳に追加

該方法は、 フルオロリン酸化合物を含有する廃水中に過塩素酸を添加する工程、 廃水の温度を６５〜８５℃に調整する工程、 廃水を該温度範囲内に保持する工程、及びカルシウム化合物を廃水に添加する工程を有する。 - 特許庁

To provide a process and a system for a magnetron sputtering by which a highly efficient film deposition can be realized at low temperature near to ordinary temperature by preventing the temperature of a base material from rising.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリングにおいて、基材の温度上昇を防止して常温に近い低い温度で高能率の薄膜形成を可能にする方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The range of cooling temperature of this element battery 2 is established at -20°C so that the temperature of this element battery 2 at forming process may be within the range of allowable temperature of the element battery 2.例文帳に追加

この素電池２の冷却温度の範囲は、成形時での素電池２の温度が当該素電池２の許容温度範囲内になるよう−２０℃に設定される。 - 特許庁

To make eliminable a process for offset temperature characteristic compensation on the basis of data obtained by measuring data on the offset temperature characteristic by changing temperature for every individual product.例文帳に追加

個々の製品ごとに温度を変化させてオフセット温度特性のデータを測定し、このデータに基づいてオフセット温度特性補償を行う工程をなくせるようにする。 - 特許庁

A temperature-down target value is preferably set to a melting point of a glass fusing agent that is a main component of the glass bead, or a temperature near thereto, in the temperature lowering stirring process 4.例文帳に追加

降温攪拌工程４には、ガラスビードの主組成分であるガラス融剤の融点、もしくはこれに近い温度に降温目標値が設定されることが望ましい。 - 特許庁

The accelerated test process includes a stage for maintaining the temperature of the semiconductor device within a temperature range of plus and minus 40°C of a temperature for mostly accelerating the stress migration for 0.4 hour or longer.例文帳に追加

加速試験工程は、半導体装置の温度をストレスマイグレーションが最も加速される温度の前後４０℃の温度帯で０．４時間以上保持する段階を有する。 - 特許庁

In the process of manufacturing the SZ slot 8, the temperature of a rotary die 2 is measured by using a radiation thermometer 9 and its temperature information is sent to a temperature control unit.例文帳に追加

ＳＺスロット８の製造工程において、回転ダイス２の温度を、放射温度計９を用いて測定し、この温度情報を温度制御機へ送信する。 - 特許庁

To provide the forming method of a temperature conversion function by which a heat treatment temperature at which a processed material is exposed in a heat treatment process after heat treatment, and temperature distribution is obtained with higher accuracy.例文帳に追加

熱処理後にその熱処理工程で晒された熱処理温度や温度分布を精度良く求めることが可能な温度換算関数の形成方法を提供する。 - 特許庁

It is to be desired that the heating temperature of the winding coil in the predrying process S2 should be the temperature not less than the glass-transition temperature and not more than the fusing point of the cable covering resin.例文帳に追加

予備乾燥工程Ｓ２における巻線コイルの加熱温度は、電線被膜樹脂のガラス転移温度以上融点以下の温度とすることが好ましい。 - 特許庁

To provide an operating method in a producing process for steel with which the molten steel pouring temperature can be obtained in the desired temperature range while considering the unevenness of the molten steel pouring temperature.例文帳に追加

注湯温度のバラツキを考慮しつつ、当該注湯温度を好ましいとされる温度範囲内とできる鉄鋼の製造プロセスの操業方法を提供する。 - 特許庁

After that, the processing process S114 including heating and tension impression is performed, in which tension impression is made by letting the temperature reach a second temperature not exceeding the first temperature.例文帳に追加

その後に、第１の温度を超えない第２の温度に到達させながら張力を印加する、加熱および張力印加を伴う処理工程Ｓ１１４等が行われる。 - 特許庁

To provide a temperature sensor circuit capable of effecting a highly accurate temperature compensation by eliminating manufacturing process variation, a semiconductor integrated circuit and a temperature sensor circuit regulating method.例文帳に追加

製造プロセス変動の影響をなくし、高精度な温度補償が可能な温度センサ回路、半導体集積回路及び温度センサ回路の調整方法を提供する。 - 特許庁

Next, the sheet resistance RS of the temperature monitoring wafer 10 having completed the process is measured under the heat treatment condition including the unknown temperature with the heat treatment furnace as the temperature measuring object.例文帳に追加

つぎに温度測定対象である熱処理炉にて未知の温度を有する熱処理条件で処理を施した温度モニタウェーハ１０のシート抵抗ＲＳを検出する。 - 特許庁

In a calcination step that calcines the lower electrode 3, the calcination is performed at a low temperature at which only the low-temperature melting layer 3A melts, and in an annealing process step of the piezoelectric layer 4, the annealing process is performed at a high temperature at which the high-temperature melting layer 3B melts.例文帳に追加

下部電極３を焼成する焼成工程においては、低温溶融層３Ａのみが溶融する低い温度で焼成を行い、圧電層４アニール処理工程においては、高温溶融層３Ｂが溶融する高い温度でアニール処理を行う。 - 特許庁

The mold shrinkage factor of the matching material is lowered by hot-setting the mixture of a hollow sphere and a binding material by stages in a low-temperature curing process on the low temperature side and a high-temperature curing process on the high temperature side, holding the glass transition point of the binding material.例文帳に追加

中空球体と結合材料の混合物を結合材料のガラス転移点温度を挟んで低温側の低温硬化工程と高温側の高温硬化工程の段階的に加熱硬化することにより整合部材の成型収縮率を低減させる。 - 特許庁

The reaction rate of the process can be increased, since the process temperature can be made almost the same as that of the substrate surfaces, while preventing lowering of the dissolved concentration of ozone due to temperature rise of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の温度上昇によるオゾンの溶存濃度の低下を防止しつつ処理温度を基板表面の温度とほぼ同じにできるので処理の反応速度を高められる。 - 特許庁

In a heating process after the winding process, the bridge precursor resin 13b is melt at a prescribed temperature and causes bridge reaction by being kept at a thermal curing temperature for a prescribed period of time.例文帳に追加

架橋前駆体樹脂１３ｂは、巻回工程後の加熱工程において、所定温度で溶解すると共に、熱硬化温度に所定時間維持されることにより架橋反応を生ずる。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus which can keep the heat-up rate constant under the same process conditions until the temperature of a workpiece reaches a target process temperature.例文帳に追加

同一のプロセス条件下においては被処理体の温度が目標温度であるプロセス温度に到達するまでの昇温時間を一定に維持することが可能な熱処理装置を提供する。 - 特許庁

The deposition temperature in the first process can be made lower than the deposition temperature in the second process, as the vapor phase deposition technology, for example, an atomic layer deposition method is used.例文帳に追加

第１の工程における成膜温度を、第２の工程における成膜温度より低い温度とすることができ、気相成膜技術としては、例えば原子層堆積法を用いる。 - 特許庁

The ingredients preliminarily cooled or frozen to a lower temperature than a target temperature for vacuum-cooling the rice ball 1 may be used instead of the ingredient-deaerating process or in addition to the ingredient-deaerating process.例文帳に追加

前記具材の空気抜きに代えて、またはそれに加えて、おにぎり１の真空冷却の目標温度よりも低い温度まで予め冷却または凍結させた具材を用いてもよい。 - 特許庁

More specifically, for example the temperature of the process atmosphere is raised at a temperature required for crystallization, thereafter the substrate with the semiconductor film 104 formed thereon is input into the process atmosphere.例文帳に追加

より具体的には、例えば、あらかじめ処理雰囲気の温度を結晶化に必要な温度まで上昇させた後、半導体膜が形成された基板を上記処理雰囲気に投入する。 - 特許庁

This heat pump 1 is provided with a coolant circuit 4 drawing heat from a low-temperature object in the decomposition process of a gas hydrate and giving the heat to a high-temperature object in the generation process of the gas hydrate.例文帳に追加

ヒートポンプ１は、ガスハイドレートの分解過程で低温の物体から熱を汲み上げ、ガスハイドレートの生成過程で高温の物体に熱を与える冷媒回路４を備える。 - 特許庁

The casting die 1 includes a heating medium path 30 for circulating a heating medium from a portion that reaches a high temperature TH relative to the process of casting to a portion that reaches a low temperature TL relative to the process of casting.例文帳に追加

本発明の金型１は、鋳込み時に相対的に高温ＴＨとなる部分から低温ＴＬとなる部分へ熱媒体を流通させる熱媒体通路３０を備えている。 - 特許庁

Besides, in an austemper treatment, after dipping the cast iron into the molten tin, the cast iron is exposed to the atmosphere having the same temperature as the temperature of the metal bath (atmospheric bath process) to remove the molten tin under sticking process.例文帳に追加

また、オーステンパ処理で、鋳鉄を溶融錫に浸漬後、金属浴と同じ温度の大気雰囲気に晒して（大気浴工程）付着過程にある溶融錫を除去した。 - 特許庁

After the hot water holding process, a temperature lowering process for lowering temperature of these equipment is performed, the water treatment unit 10 is connected with a water to be treated pipe 21 to assemble the pure water manufacturing apparatus 1.例文帳に追加

熱水保持工程の後、これらの機器の温度を低下させる降温工程を実施し、水処理ユニット１０を被処理水管２１に接続し、純水製造装置１を組立てる。 - 特許庁

In the cooking method for heating a cooking material by room temperature control of changing the internal temperature of a cooking chamber 2 according to a cooking pattern containing a heating process with settable heating set temperature and heating set time, room temperature control or material temperature control based on cooking material temperature can be selected for the heating process.例文帳に追加

加熱設定温度および加熱設定時間が設定可能な加熱工程を含む調理パターンに沿って調理室２内温度を変化させる室温制御により被調理物を加熱する加熱調理方法であって、前記加熱工程について前記室温制御か、被調理物温度による品温制御かを選択可能としたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process film excellent in surface properties, usable particularly for a high temperature process when manufacturing electronic circuits, components, etc.例文帳に追加

電子回路、部品など製造時に、表面性に優れ、とくに高温の工程に供することができる工程用フィルムを供給する。 - 特許庁

To provide a process for producing a ferroelectric thin film or a high dielectric thin film at an extremely low temperature suitable for fabrication process of micro LSI.例文帳に追加

微細ＬＳＩの製造プロセスに適する極めて低い温度で、強誘電体薄膜又は高誘電体薄膜を製造する。 - 特許庁

A point of time of switching from the first process to the second process is determined based on the input defrosting mode and the temperature of the material to be defrosted.例文帳に追加

第１工程から第２工程への切り換え時点は、入力された解凍モードと解凍物の温度に基づいて決定される。 - 特許庁

In a second annealing process and a temperature reducing process, a crystal core 10 is formed in a titanium silicide film 9 which is an amorphous film.例文帳に追加

第２アニール工程および降温工程により、非晶質膜であるチタンシリサイド膜９の中に結晶核１０を発生させる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a metal pattern of a nanometer scale to a one-dimensional or two-dimensional pattern by a single low-temperature process.例文帳に追加

単一の低温プロセスで一次元または二次元パターンへのナノメータースケールの金属パターンの製造のためのプロセスを提供する。 - 特許庁

After the first process, the n^- epitaxial layer 2 is annealed at a temperature of 1,200°C or more and a melting point of the n^- epitaxial layer 2 or less (the second process).例文帳に追加

第１工程後、１２００℃以上ｎ^-エピタキシャル層２の融点以下の温度でｎ^-エピタキシャル層２をアニールする（第２工程）。 - 特許庁

The above process of causing the aromatization catalyst to react with hydrogen gas is carried out in the same temperature range for carrying out the above aromatization process.例文帳に追加

前記芳香族化触媒と水素ガスと反応工程は前記芳香族化反応の温度と同じ温度領域で行われる。 - 特許庁

After the third process, the n^- epitaxial layer 2 is annealed at a temperature of 1,200°C or more and a melting point of the n^- epitaxial layer 2 or less (the fourth process).例文帳に追加

第３工程後、１２００℃以上ｎ^-エピタキシャル層２の融点以下の温度でｎ^-エピタキシャル層２をアニールする（第４工程）。 - 特許庁

The correction method of an infrared sensor signal further includes a second correction process for multiplying the infrared sensor signal after the first correction process by a correction coefficient B based on environmental temperature T_AMB.例文帳に追加

また、第１補正工程の後に、環境温度Ｔ_AMBに基づいた補正係数Ｂを乗算する第２補正工程を有する。 - 特許庁

The loach product is obtained by the method for producing a loach product comprising a first process of grinding loaches to be formed into paste, a second process of heating the paste and stirring the heated paste in a high-temperature atmosphere, and a third process of stirring the paste in a low-temperature atmosphere lower than that of the second process after treated in the second process.例文帳に追加

泥鰌を、すり身化してすり身を得る第１工程と、前記すり身を加熱して高温度雰囲気下で攪拌する第２工程と、第２工程の処理後、第２工程の高温度雰囲気よりも低い低温度雰囲気下で攪拌する第３工程とを含む製造方法により、泥鰌製品を得る。 - 特許庁