「reflection process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a solid state image pickup device capable of obtaining a sufficient reflection reduction effect with an easy manufacturing process.例文帳に追加

容易な製造プロセスで、十分な反射低減効果を得ることができる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of semiconductor device comprises a process (a) for forming the organic reflection preventing film 10 on the surface of a semiconductor substrate 1, a process (b) for applying organic solvent 11 on the surface of semiconductor substrate 1 to effect washing by wet etching the surface of the organic reflection preventing film 10, and a process (c) for forming a resist film 12 after the process (b).例文帳に追加

半導体基板１の表面に有機反射防止膜１０を形成する工程（ａ）と、半導体基板１の表面に有機溶剤１１を塗布し有機反射防止膜１０の表面をウエットエッチング洗浄する工程（ｂ）と、工程（ｂ）の後、レジスト膜１２を形成する工程（ｃ）とを含む。 - 特許庁

While depending on an electric field strength of an electromagnetic wave received by the transmitting/receiving apparatus, in addition to a first modulation process or in place of the first modulation process, modulation in a second modulation process is performed for reflection.例文帳に追加

送受信装置で受信された電磁波の電界強度に依存して第１の変調プロセスに加えてまたは第１の変調プロセスに代えて第２の変調プロセスでの変調を行って反射する。 - 特許庁

To provide a reflection-transmission type color filter substrate capable of achieving the same optical efficiency and a degree of color purity in the reflection part and the transmission part while simplifying the manufacturing process, and a reflection-transmission type liquid crystal display device provided with the color filter.例文帳に追加

製造工程を単純化しつつ、反射部と透過部で同一の光学的効率と色純度を達成できる反射透過型カラーフィルタ基板、および該カラーフィルタ基板を備えた反射透過型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In the formation process of the conductor layers 19, 22, 33, alignment marks 41, 42 are formed, which comprise a first light reflection section 43 and a second light reflection section 45 for surrounding the first light reflection section 43 while being separated by a removing pattern 44.例文帳に追加

導体層１９，２２，３３の形成工程では、第１光反射部４３と抜きパターン４４を隔ててその第１光反射部４３を包囲する第２光反射部４５とからなる位置合わせマーク４１，４２を形成する。 - 特許庁

To satisfy both good recognition of a substrate by a processing device and prevention of reflection of exposure light in an exposure process.例文帳に追加

加工装置による基板の良好な認識と露光工程における露光光の反射の防止とを両立させる。 - 特許庁

After removal of the resist 7, a groove pattern is formed on the inorganic anti-reflection film 6 by the photolithographical process with use of a resist 8.例文帳に追加

レジスト７除去後、無機反射防止膜６上に、フォトリソグラフィによりレジスト８を用いて溝パターンを形成する。 - 特許庁

To reduce the number of the manufacturing process of a light reflection film formed on a reflector, and heighten a welding strength between a lens and the reflector.例文帳に追加

リフレクタに形成する光反射膜の製造工程数を削減し、かつ、レンズとリフレクタの溶着力を高める。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND PROCESS SHEET FOR MANUFACTURING REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートならびにその製造方法、反射防止体、位相差板および光学素子製造用工程シート。 - 特許庁

To provide an antenna reflective structure which can realize a simple manufacturing process and an effective reflection result.例文帳に追加

単純な製造プロセス及び有効な反射結果を実現することができるアンテナ反射構造体を提供する。 - 特許庁

A noise component which originates in multiple reflection, etc.in an optical transmission process can be easily removed by a band filter 5.例文帳に追加

また光伝送過程において多重反射などに起因するノイズ成分も、帯域フィルタ５により容易に除去し得る。 - 特許庁

To provide a reflective liquid crystal display device having a high reflection performance and permitting to simplify the structure and the manufacturing process therefor.例文帳に追加

構造および製造工程を簡素化できる高反射性能を有する反射型液晶表示装置を得る。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK AND MASK FOR EXPOSURE, SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク、多層反射膜付き基板、並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

During this process, micro air bubbles contained in the original transparent candy material diffuses reflection and the candy appears white. 例文帳に追加

この工程により透明の飴に中に無数の空気の細い隙間が生じ乱反射して白く見えるようになる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for manufacturing a reflection polarizer, of which the manufacturing process is simpler than the conventional one, and which is excellent in productivity.例文帳に追加

従来よりも製造工程が簡潔であり、生産性に優れる反射偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process of the reflection, the light is directed to the direction almost vertical to the surface of the coin and detected by the light receiving means 23.例文帳に追加

該反射の過程で光はコインの面と略垂直方向に向かい、受光手段２３によって検出される。 - 特許庁

To obtain a reflection surface which realizes high reflectance/cost reduction and high strength/low expansion and has excellent shape accuracy without performing a succeeding process of forming a reflection film by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による反射膜の形成という後工程を行うことなく、高反射率・低コスト化及び高強度・低膨張とともに、優れた形状精度を有する反射面を得る。 - 特許庁

The result obtained by comparison of the voltage value of reflection microwave measured by the μ-PCD method and the control voltage value of reflection microwave, is fed back to a crystallization process to control a condition of crystallization.例文帳に追加

μ-PCD法によって測定された反射マイクロ波の電圧値と反射マイクロ波の管理電圧値との対比結果を結晶化プロセスにフィードバックし、結晶化条件を制御する。 - 特許庁

This method can be applied to evaluation of the reflection characteristic of a high-quality mirror of high light reflectance in a developing process, and allows evaluation of the reflection characteristic of the mirror in a practical structure.例文帳に追加

開発過程の高い光反射率の高品質ミラーの反射特性の評価に利用できるのは勿論、実用的構造でのミラーの反射特性の評価が可能である。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor device in which a non-reflection film having a desired reflection factor and a high reliability is fabricated by a simple manufacturing process, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

所望の反射率を有しかつ信頼性の高い無反射膜を簡易な製造プロセスにより得ることが可能な光半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the step (d), an exposure quantity in the reflection areas 2 in the photoengraving process is smaller than that in the transmission display areas 1 in the photoengraving process.例文帳に追加

工程（ｄ）において、反射表示領域２における写真製版の露光量を、透過表示領域１における写真製版の露光量よりも小さくする。 - 特許庁

To suppress increase in a process cost by making ruggedness on the surface of reflection electrodes, without adding the number of sheets of masks in a process step of making an electro-optic device.例文帳に追加

電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の表面の凹凸を作製して、工程コストの増大を抑える。 - 特許庁

This manufacturing method of a reflection plate has a projecting part formation process for discharging a resin material from an ink-jet head 50 to form plural resin projecting parts 17 on a substrate, and a reflection film formation process for coating the substrate formed with the plural resin projecting parts 17 with a reflection film 16'.例文帳に追加

本発明に係る反射板の製造方法は、インクジェットヘッド５０から吐出される樹脂材料によって、基板上に複数の樹脂凸部１７を形成する凸部形成工程と、前記複数の樹脂凸部１７が形成された基板の表面を、反射膜１６’で覆う反射膜形成工程とを有している。 - 特許庁

Since outdoor light transmitting the left end part and the right end part of the lens is reflected at the left-side reflection part and the right-side reflection part, a coating process for forming a reflection surface on a rear-surface of the lens is skipped, thus, cost is drastically reduced.例文帳に追加

レンズの左端部および右端部を透過した外光は左側反射部および右側反射部で反射させることができるので、レンズ後面に反射面を形成するための塗装工程を省略でき、その分、コストを大幅に低減できる。 - 特許庁

Thus, the reflection characteristics of the polarization component at the color separating process is made equivalent to the reflection characteristics of the polarization component at color-synthesizing the light which is made incident again after being modulated by reflection type liquid crystal panels 3R, 3G and 3B.例文帳に追加

これにより、色分離させる際の偏光成分の反射特性と、反射型液晶パネル３Ｒ，３Ｇ，３Ｂにより変調されて再入射する光を色合成させる際の偏光成分の反射特性とを同等とさせるようにした。 - 特許庁

In the reflection film forming step, the reflection film is formed under ≥0.5 kw and <2 kw throwing power in a sputtering process so that the ratio of the thickness of the substrate to the thickness of the reflection film lies in a range of 500 to 30,000.例文帳に追加

ここで、反射膜形成工程は、スパッタリング処理において０．５ｋｗ以上２ｋｗ未満の投下電力で、基板の厚さの反射膜の厚さに対する比が５００から３００００の範囲に収まるように反射膜を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a reflection type liquid crystal display device by which a reflection plate of a reflection type TFT-LCD or a partial reflection type TFT-LCD which has excellent paper white properties and whose display panel is bright and has high quality display characteristics of a high contrast ratio to a viewer can be manufactured in a simple process.例文帳に追加

ペーパーホワイト性に優れ、かつ観察者に対して表示パネルが明るくコントラスト比の高い高品位表示特性を有する反射型ＴＦＴ−ＬＣＤまたは部分反射型ＴＦＴ−ＬＣＤの反射板を簡単なプロセスで作製することができる反射型液晶表示装置の製法を提供する。 - 特許庁

To produce a reflection type liquid crystal display device in the same production process as a transmission type liquid crystal display device.例文帳に追加

透過型液晶表示装置と同一の製造工程で反射型液晶表示装置を製造することを可能にする。 - 特許庁

To obtain an organic EL device as a front light, suppressing reflection of external light while suppressing increases in member cost and process cost.例文帳に追加

部材コスト及びプロセスコストの増加を抑制しつつ外光の反射が抑制されたフロントライトとしての有機ＥＬ装置を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical sheet for precisely forming an opening part of a light reflection layer with a simple manufacturing process.例文帳に追加

簡単な製造工程で、光反射層の開口部を高精度に形成できる光学シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZABLE UNSATURATED COMPOUND AND PROCESS FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND DIFFUSE REFLECTION PLATE USING THE SAME例文帳に追加

光重合性不飽和化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び拡散反射板の製造方法 - 特許庁

Also, the reduction in manufacturing cost is effectively attained because the formation of the projecting and recessing parts in the reflection layer part is enabled via a simple process.例文帳に追加

また，反射層部位の凹凸形成も簡単な工程を通じてできるので，製造単価の節減にも効果を有する - 特許庁

The etching preventive film 102 is formed of a substance of ARC property capable of preventing the irregular reflection of exposed energy used at the time of the exposure process.例文帳に追加

エッチング防止膜１０２は露光工程時に用いられる露光エネルギーの乱反射を防止できるARC性物質で形成する。 - 特許庁

In a process P3, a photosensitive layer 52 is formed with a positive photosensitive material on the substrate 12 on which the reflection pattern 18 is formed.例文帳に追加

工程Ｐ3では、反射パターン１８が形成された基板１２上にポジ型の感光性材料で感光層５２を形成する。 - 特許庁

To solve problems that cracks are generated on a coat film of a reflection member for a surface light source or the coat film is peeled off in a manufacturing process and a reflection factor is changed due to differences in the film thickness of the coat film.例文帳に追加

製造過程において面光源用反射部材の塗膜にクラックが入ったり、剥がれたり、さらに塗膜の膜厚の違いによって反射率が変化する問題点を解決すること。 - 特許庁

To obtain a producing method of an optical disk in which a process of forming a reflection film is eliminated after information is transferred to an adhesive layer and a transfer release disk can be peeled from the reflection film without any problems.例文帳に追加

光ディスクの製造方法において、接着層上に情報を転写した後に反射膜を形成する工程を除去し、反射膜と転写リリースディスクとの間を支障なく剥がすこと。 - 特許庁

Even if the film thickness of the upper layer anti-reflection film fluctuates, the upper layer anti-reflection film is surely removed with a minimum required rinse liquid, for development process with no trouble thereafter.例文帳に追加

上層反射防止膜の膜厚が変動しても、必要最小限度のリンス液で上層反射防止膜を確実に除去できるので、後の現像処理を支障なく行うことができる。 - 特許庁

To decrease the number of process of attaching a reflection member in a light guide plate having the reflection member attached to the side faces having reflection grooves, to prevent leaking of light due to complicated recesses and projections on the side faces and to improve the conversion efficiency of light.例文帳に追加

反射溝を有する側面に反射部材を取り付けてなる導光板において、反射部材を取り付ける工数を低減をするとともに、側面の複雑な凹凸に起因する光の漏れをなくし、光の変換の効率を改善することを課題とする。 - 特許庁

Based on the reflection information of the reflection map texture, the lighting model and the light source information, the lighting process part performs a lighting process for expressing the gloss of the liquid in a liquid sticking area set as the area of the character's surface to which the liquid (sweat) sticks.例文帳に追加

ライティング処理部は、反射マップテクスチャの反射情報と照明モデルと光源情報に基づいて、キャラクタの表面のうち液体（汗）が付着する領域として設定される液体付着領域において、液体の光沢を表すためのライティング処理を行う。 - 特許庁

Then, as the reflection preventing film, one whose etching rate is higher than that of the photoresist is used in the first etching process, and one whose etching rate is lower than that of the base substrate is used in the second etching process.例文帳に追加

そして、反射防止膜として、第１のエッチング工程ではフォトレジストよりもエッチングレートが高く、第２のエッチング工程では下地基板よりもエッチングレートが低いものを用いる。 - 特許庁

To provide a method of correcting a photomask, in which diffuse reflection in a flaw portion on the backside can be prevented in an exposure process and even a flaw portion can be changed into transparent to the wavelength in a transfer process.例文帳に追加

露光の際に裏面の傷の部位での乱反射を防止し、かつ、傷の部位でも転写波長に対して透明とすることができるフォトマスクの修正方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, the open type semitransmissive reflection base plate (3) is available without the positioning process of the microlens array (31) and the fine hole (34), an etching process for forming the fine hole (34) or the like.例文帳に追加

それにより、マイクロレンズアレイ(31)と微小孔(34)との位置合わせや、微小孔(34)を形成するエッチングプロセス等を必要としないで、開口型の半透過反射基板(3)を得ることができる。 - 特許庁

The diffuse reflection plate is manufactured by a process of pressing the transfer film on the base so that the thin film layer faces the base, a process of peeling the temporary support and a process of forming a reflective film on the surface onto which the thin film layer is transferred.例文帳に追加

転写フィルムを基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a reflection type screen of higher quality at low costs through a simple and reliable manufacturing process.例文帳に追加

簡便且つ確実な製造プロセスにより高品質なもの低コストで提供できる、反射型スクリーンの製造方法を提供する。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法 - 特許庁