「reflection process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical disk device that carries out a stable operation of a reflection-type photo sensor which detects a position of an optical pickup unit and simplifies an assembly process.例文帳に追加

光ピックアップの位置を検出する反射型フォトセンサに安定した動作を行なわせ且つ組立工程を簡略化した光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the manufacturing cost of a TFD element-driven reflection and reflection/semitransmission type liquid crystal display device using an MIM type nonlinear element and, at the same time, to improve the refinement and contrast of the device by proposing a new manufacturing process.例文帳に追加

ＭＩＭ型非線型素子を用いたＴＦＤ素子駆動の反射型及び反射半透過型液晶表示装置の、新しい製造工程を提案することで、製造コストを低減し、かつ高精細化、高コントラスト化を実現する。 - 特許庁

To provide a resin composition for hard coat which forms a film having a low reflection function and a hard coat function with a single coating operation, a process of producing the same, and a substrate for anti-reflection coating using the resin composition for hard coat.例文帳に追加

一回のコーティングで低反射機能とハードコート機能を付与した被膜を形成できるハードコート用樹脂組成物及びその製造方法、並びにハードコート用樹脂組成物を用いた反射防止コーティング基材を提供する。 - 特許庁

In the reflection light detection type defect detection process, the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with light, reflection light reflected by the electrophotographic photoreceptor is received by a light receiving means and the defective part of the electrophotographic photoreceptor is detected.例文帳に追加

反射光検出式欠陥検出工程は、電子写真感光体の表面に光を照射し、電子写真感光体で反射される反射光を受光手段で受光して電子写真感光体の欠陥部を検出する。 - 特許庁

The operation condition of the diffuse reflection sensor 301b is so adjusted that the sensor output of the diffuse reflection sensor 301b at this time may be approximated to reference values preliminarily set for three primary colors of subtractive process respectively.例文帳に追加

このときの拡散反射型センサ３０１ｂのセンサ出力が、減法混色の３原色に対してそれぞれ予め設定された基準値に近づくように拡散反射型センサ３０１ｂの動作条件を調整する（ｓ１０）。 - 特許庁

When a deep trench machining is performed for monocrystal silicon by using this device to repeat switching of an etching primary process and a deposition primary process, a generated reflection electric power can be suppressed.例文帳に追加

この装置を用いて、エッチング主体の工程とデポジション主体の工程を切り換えて繰り返し行うことにより、単結晶シリコンに深い溝加工を行ったところ、発生する反射電力を抑制することができた。 - 特許庁

To provide a die having a surface on which many fine and highly accurate shapes are formed by a simple and inexpensive process and also to provide a molded article having anti-reflection function using the die by a simple and inexpensive process.例文帳に追加

簡単・低コストなプロセスによって、表面に多数の微細形状を高精度に形成した金型を作製し、さらにこの金型を使用することで、反射防止機能を備えた成形品を簡便・安価に提供する。 - 特許庁

To provide a plastic substrate for display elements having a reflecting surface at the substrate itself by simplifying a manufacturing process step for the reflecting surface of a reflection type liquid crystal display device manufactured by many process steps and adopting plastic for the substrate heretofore made of glass and further the reflection type liquid crystal display using the same.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection type mask blank and a reflection type mask for EUV exposure, and a method of manufacturing the same enabling defect inspection without removing a hard mask layer in a process inspection after the etching of an absorbing material layer and also enabling easier defect repair without any complicated process even if a black defect is found in the process inspection.例文帳に追加

本発明は、吸収体層のエッチング後の工程検査で、ハードマスク層を除去することなく欠陥検査することを可能にし、さらに、この工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく、容易に欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス、反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

This absorption spectrometric apparatus for the semiconductor manufacturing process includes: a channel switching mechanism 50 connected to an exhaust channel of a processing chamber 39 in the semiconductor manufacturing process; and an absorption spectrometric apparatus 51 for multiple reflection type moisture concentration measurement for detecting an absorbance change caused by gas by multiple reflection in the cell of laser light from a laser light source, and measuring the moisture concentration in process gas.例文帳に追加

半導体製造プロセス用吸光分析装置は、半導体製造プロセスの処理チャンバ３９の排気流路に接続された流路切換え機構５０と、レーザ光源からのレーザ光をセル内で多重反射させてガスによる吸光度変化を検出してプロセスガス中の水分濃度を測定する多重反射型水分濃度計測用吸光分析計５１とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method for the scattering reflector comprises: the disposing process of disposing a plurality of resin pots on a substrate by using a dispenser; the process of applying a photosensitive resin on the substrate where the resin pots are disposed; and a reflection film laminating process of laminating a reflection film on a recessed and projected surface on the substrate formed by the resin pots and the photosensitive resin.例文帳に追加

ディスペンサを用いて基板上に複数の樹脂ポットを配設する配設工程と、前記樹脂ポットの配設された基板上に感光性樹脂を塗布する工程と、前記樹脂ポットおよび感光性樹脂によって形成される前記基板上の凹凸面に反射膜を積層する反射膜積層工程とを包含する、散乱反射板の製造方法を開示する。 - 特許庁

At the time, the subordinate CPU specifies the light emitting element to be newly turned off in the interrupt process (the interrupt process in which an interrupt counter matches a data reflection counter) executed at the extinction timing specified by light emitting parts set in the last light emission control main process.例文帳に追加

それと共に、サブＣＰＵは、前回の発光制御メイン処理にて設定された発光パーツにより特定される消灯タイミングで割り込み実行された割込処理（割込カウンタとデータ反映カウンタが一致するときの割込処理）にて新たに消灯制御する発光素子を特定する。 - 特許庁

The anti-reflection film is manufactured through: a process for preparing the solid particulate dispersion of an infrared absorption dye; a process for applying the above dispersion onto a transparent support to form an infrared-absorption layer thereon; and a process for forming a low-refractive index layer on the surface opposite to the infrared-absorption layer.例文帳に追加

赤外線吸収染料の固体微粒子分散物を調製する工程、固体微粒子分散物を透明支持体上に塗布して赤外線吸収層を形成する工程および低屈折率層を形成する工程により、反射防止フイルムを製造する。 - 特許庁

The top portion 303a of the case 303 is applied with a reflection-suppressing process by a black color paint or the like for frosting and that prevents the sunlight from entering into the case 303 and also prevents reflection of the case 303 itself.例文帳に追加

またケース３０３の頂上部３０３ａには、つや消しの黒色塗料等からなる反射抑制加工がなされており、太陽光がケース３０３内に侵入するのを抑え、かつケース３０３そのものの反射を抑えるものである。 - 特許庁

Other X-ray reflection devices are obtained, by forming a metal substrate on which a plurality of curved slits are formed with an X-ray LIGA process, and by forming grinding each side wall of the plurality of slits by using a magnetic fluid to form the X-ray reflection plane.例文帳に追加

他のＸ線反射装置は、Ｘ線ＬＩＧＡプロセスで複数の曲線状のスリットが形成された金属基板を形成し、磁性流体を使って前記複数のスリットの各側壁を研磨してＸ線反射面を形成して得られる。 - 特許庁

To provide a reflection film for a display which yields a liquid crystal display element having a simple configuration, a simple manufacturing process and a smaller thickness than conventional elements in the case of utilizing the reflection film as an electrode substrate for the liquid crystal display and so on.例文帳に追加

本発明の目的は、液晶表示素子用などの電極基板として利用した際に、素子構成ならびに製造プロセスが単純で、かつ従来よりも薄型の液晶表示素子が得られるディスプレイ用反射フィルムを提供することにある。 - 特許庁

A multiple quantum well layer 4 to detect infrared rays by utilizing transition between sub-bands and a reflection electrode layer 9 situated on a surface are separated farther than a distance in which the metal of the reflection electrode 9 is dispersed by a heat history during a manufacturing process.例文帳に追加

サブバンド間遷移を利用して赤外線を検出する多重量子井戸層４と表面に在る反射電極９とが製造工程中の熱履歴で該反射電極９の金属が拡散する距離以上に離隔して設けられている。 - 特許庁

A curved and projected rear 3a is subjected to a light reflection process to form the reflection concave plane 5, the light-emitting diode chip 8 is buried in a transparent body 3 as the plane 5, and the concave lens body 6 is formed so as to come into contact with a front surface 3b of the transparent body 3.例文帳に追加

発光ダイオードチップ８は、湾曲突出させた背面３ａに光反射処理を施して反射凹面５とした透明体３内に埋設され、透明体３の前面３ｂに接して凹レンズ体６が形成されている。 - 特許庁

Thus, the optical functional element and the low reflection structure can be formed through a single transfer process using the same mold 50, which can enhance the alignment accuracy of the low reflection structure as a black matrix with the optical functional element.例文帳に追加

同一の金型５０を用いた一回の転写により、光学機能素子および低反射構造体を形成することが可能となり、ブラックマトリクスとしての低反射構造体と光学機能素子との位置合わせ精度を高めることが可能となる。 - 特許庁

To solve problems that gas is generated due to electric erosion reaction by developer and peeling of film is generated at a contact part in an organic insulation film patterning process for forming relief structure of a reflection film in an array process of a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置のアレー工程において、反射膜の凹凸形状を形成するための有機絶縁膜パターニング工程で、現像液による電喰反応からガスが発生し、コンタクト部で膜はがれが発生する問題が生じる。 - 特許庁

The dry process developer DL containing at least two kinds of dry process developing particles WP and BP having a triboelectric property, varying in electrostatic charge polarities from each other and varying in optical reflection density from each other can be exemplified.例文帳に追加

現像剤ＤＬは、互いに帯電極性の異なる、且つ、互いに光学的反射濃度の異なる少なくとも２種類の、摩擦帯電性を有する乾式現像粒子ＷＰ、ＢＰを含んでいるものを例示できる。 - 特許庁

The method of manufacturing the shaping mold for anti-reflection processing includes: an application process to apply coating slip containing the inorganic oxide particles and the condensation product of metal alkoxide to the base material; and a process to dry the coating slip applied to the base material.例文帳に追加

反射防止加工用賦形型の製造方法は、無機酸化物粒子と金属アルコキシドの縮合物とを含む塗工液を前記基材に塗布する塗布工程と、基材に塗布された塗工液を乾燥する工程とを含む。 - 特許庁

Therefore, a time-consuming aligning process necessary to adjust the reflection direction of a dielectric multilayered film filter for a conventional optical multiplexer/demultiplexer is not necessary.例文帳に追加

そのため、従来の光合分波器では誘電体多層膜フィルタの反射方向を調節するのに必要であった時間を要するアライメントを行う必要が無くなる。 - 特許庁

The manufacturing process is simplified, the manufacturing cost is saved, and the manufacturing tact time is shortened by eliminating the reflection layer from the optical disk 107.例文帳に追加

光ディスク１０７から反射膜を削除したことで、製造工程を簡略化することができ、製造コストを低減でき、製造タクトタイムを短縮することが可能となる。 - 特許庁

Thus, the complication of the manufacturing process and the increase in the manufacturing cost are prevented so much because the coating of a reflection film on the cut cross section 2b is unnecessary.例文帳に追加

したがって、前記切断面２ｂに反射膜コーティングを施す必要が無い分だけ、製造工程の煩雑化、及び製造コストの増加を防止することができる。 - 特許庁

To provide a reflection type color display capable of being made simplified in structure, simple in panel manufacturing process and low in cost and capable of achieving color display high in brightness and high in definition.例文帳に追加

ディスプレイ構造を簡略化し、パネル作製工程の簡素化、低コスト化を可能にし、高輝度、高精細なカラー表示が可能となる反射型カラーディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming the metallic wiring of a semiconductor memory device capable of effectively preventing irregular reflection caused by a metal contact at the time of an exposure process for a trench mask formation.例文帳に追加

トレンチマスク形成のための露光工程時に金属コンタクトによる乱反射を有効に防止できる半導体メモリ素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To suitably receive and process a reflected wave signal by a reflected wave reader in a form of plural transmissions whose communication distances are different from each other, in spite of the distance attenuation of the reflection wave signal.例文帳に追加

反射波読取器が反射波信号の距離減衰に拘らず通信距離の異なる複数の伝送形態で反射波信号を好適に受信処理する。 - 特許庁

To allow the reduction of flicker caused by deviations from respective most suitable counter voltages of a reflection part and a transmission part, without adding a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程の追加を伴うことがなく、反射部と透過部との各最適対向電圧からのずれに起因するフリッカーの発生を低減することが可能にする。 - 特許庁

To reduce an external light reflection of a plasma display panel and raise contrast without adding a new process and without inducing a new problem such as viewing angle dependence or the like.例文帳に追加

新たな工程を追加することなく、また視野角依存性等の新たな課題を生じることなく、プラズマディスプレイパネルの外光反射を低減しコントラストを高める。 - 特許庁

To provide a method for producing an electromagnetic wave reflection member, by which reduction in the reflectance caused in the production process can be recovered.例文帳に追加

本発明は、製造工程中に生じる反射率の低下を回復することができる電磁波反射部材の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To prevent the generation of the bridge of resist pattern and improve the yield and reliability of a semiconductor manufacturing device, in a lithography process employing an organic reflection preventing film.例文帳に追加

有機反射防止膜を使用したリソグラフィー工程において、レジストパターンのブリッジを発生せず、半導体製造装置の歩留まり及び信頼性を向上する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the diffuse reflection plate, firstly a photosensitive resin film 20 containing a photocrosslinkable monomer is subjected to pattern exposure (a pattern exposure process(b)).例文帳に追加

本実施形態に係る拡散反射板の製造方法では、まず、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜２０にパターン露光を施す（パターン露光工程(ｂ)）。 - 特許庁

To provide a material for forming a lower layer film of a photoresist with which a lower layer film with high etching resistance, a high reflection preventing effect, and a high poisoning resistant effect is formed as a lower layer film for a two layered or three layered resist process, and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

２層あるいは３層レジストプロセス用下層膜として、エッチング耐性、反射防止効果、耐ポイゾニング効果の高い下層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which the number of screwing in a process for assembling frames each other with a reflection member interposed between the frames is reduced.例文帳に追加

反射部材を間に挟み込んだ状態でのフレーム同士の組立工程の際のネジ止め点数を減少させることが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

(ii) The thickness of the silicon oxide film 11 is set so that the absolute value of a phase of the reflection coefficient equals or exceeds a second value within a range set in the process (i).例文帳に追加

次に（ｉｉ）工程（ｉ）で設定された範囲において、反射係数の位相の絶対値が第２の値以上となるように、シリコン酸化膜１１の膜厚を設定する。 - 特許庁

A layer structure of a sample is obtained from frequency spectral intensity to dispersion waveform of reflection light from a sample in CMP process and a measurement position of a sample is specified.例文帳に追加

ＣＭＰ加工中、試料からの反射光の分光波形に対する周波数スペクトル強度から試料の層構造を求め、試料の計測位置を特定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer film reflecting mirror which makes it possible to achieve the targeted dimensional precision of a reflection wave surface after the partial removing process of a multilayer film.例文帳に追加

部分的な多層膜除去加工後に目標とする反射波面の形状精度を達成することができる多層膜反射鏡の製造方法を提供する。 - 特許庁

A nondestructive process for an evaluation of the subsurface damage of the optical element comprises to measure a reflection light intensity by focusing a microscope onto a point of the optical element.例文帳に追加

光学素子の表面下の損傷を評価するための非破壊的なプロセスは、光学素子内の点に顕微鏡の焦点を合わせ、反射光の強度を測定する。 - 特許庁

In performing anisotropic etching by using an alkali etching solution, the reflection member 106 which is the mirror formed just backside of the light receiver can be formed by an extremely inexpensive process.例文帳に追加

また、アルカリエッチング液を用いて異方性エッチングを行う場合は、きわめて安価な工程で受光装置直裏面の鏡である反射部材１０６を形成できる。 - 特許庁

The decrease in reflection factor critically varies to become small when the content of the sputter (process) gas in the multilayer film of the multilayer film mirror becomes <0.005 atm%.例文帳に追加

多層膜ミラーの多層膜中に含まれるスパッタ(プロセス)ガスの含有量が0.005atm％未満となった場合に、反射率の低下が臨界的に変化して小さくなる。 - 特許庁

To provide a process for easily producing color filters which are high in color resolution to the extent sufficient for use in a reflection liquid crystal display, are thin and are light.例文帳に追加

反射型液晶ディスプレイ用として十分な程度に色彩解像度が高く、薄く、そして軽いカラーフィルタを簡便に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing process of a reflective mask blank and a reflective mask which have: a substrate 11; a multilayer reflection layer 21 formed on a surface of the substrate 11; an absorption layer 51 formed on the multilayer reflection layer 21, electron beam is irradiated on an area to be a light-shielding frame to generate a mixing layer in the multilayer reflection layer 21.例文帳に追加

本発明は、基板１１と、前記基板１１の表面に形成された多層反射層２１と、前記多層反射層２１の上に形成された吸収層５１を有する反射型マスクブランクおよび反射型マスクの製造工程において、遮光枠となる領域に電子線を照射して多層反射層２１にミキシング層を発生させる。 - 特許庁

To make determination of high reliability according to information that closely matches the actual state of a reflection source, by calculating the position of the reflection source from the distance over which a detected reflected echo propagates, using a method for determining flaws in the specimen by means of mode conversion tandem process.例文帳に追加

モード変換タンデム法による被検査体傷判定方法において、検出された反射エコーについて、その伝搬距離から反射源の位置を算出し、反射源の実体に即した情報から信頼性の高い判定を行うことができるようにする。 - 特許庁

To obtain both of high-quality reflection display and high-quality transmission display in a semitransmission type liquid crystal display device having a reflection display region and a transmission display region and to obtain the above liquid crystal display device in an easy manufacture process.例文帳に追加

反射表示領域と透過表示領域とを有する半透過型液晶表示装置において、高品位な反射表示と高品位な透過表示の双方を得られるようにし、かつそのような液晶表示装置を簡易な製造プロセスで実現できるようにする。 - 特許庁