「reflection process」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To feed back an evaluation result of a semiconductor material to a device manufacturing process to elevate the yield, by making the evaluation result of a semiconductor material (a voltage value of reflection microwave by a μ-PCD method) and a characteristic evaluation result (mobility) of semiconductor device correspond to each other.例文帳に追加

半導体材料の評価結果（μ-PCD法による反射マイクロ波の電圧値）と半導体デバイスの特性評価結果（移動度）とを対応させることにより、半導体材料の評価結果をデバイス製造プロセスにフィードバックし歩留を高くする。 - 特許庁

Before or after the process, the light reflection material 6 is removed, UV light 7 is irradiated from the back side of the UV sheet 1, and the viscous layer section 4a on the back of the semiconductor chip in the UV sheet 1 is also cured.例文帳に追加

また、この工程に先立ち、又はこの工程の後で上記光反射材６を外してから、ＵＶシート１の裏面側からＵＶ光７を照射し、ＵＶシート１における半導体チップ裏面の粘着層部分４ａも硬化させる。 - 特許庁

To provide a white reflection film for a display device, wherein tube unevenness is efficiently suppressed even when used without subjecting an optical member to a special process and high luminance is ensured, and to provide a back light of a direct below type consisting of the same.例文帳に追加

本発明は、光学部材に特殊な加工を施すことなく用いても、管むらを効率的に抑制し、且つ高輝度な表示装置用の白色反射フィルム及びそれからなる直下型方式のバックライトを提供せんとするものである。 - 特許庁

By having an image input/processing portion 7 fetch an image D4 picked up by an imaging device 3 in the reflection type large-sized display device 2A and process the image D4 for generating image data D5 matching the image data D1.例文帳に追加

画像入力・処理部７は、撮像装置３によって撮像された画像Ｄ４を反射型大型表示装置２Ａ内に取り込み、取り込んだ画像Ｄ４を処理することにより、画像データＤ１にマッチングされた画像データＤ５を生成する。 - 特許庁

A mold 13 is manufactured in an LIGA process conducting irradiation 7 such as X-ray beam irradiation using asymmetrical reflection with a crystal or X-ray interference fringe beam irradiation with a crystal.例文帳に追加

ＰＭＭＡ等のレジスト材料３に対して高精細Ｘ線マスク、結晶による非対称反射を用いたＸ線ビームの照射、結晶によるＸ線干渉縞ビームの照射等の照射７を行うＬＩＧＡプロセスによりモールド１３を作製する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an oscillating body apparatus by which micro oscillating bodies having different resonance frequencies are manufactured with the same etching mask, and reduction in an effective reflection area and variation in the resonance frequency in manufacturing process is suppressed.例文帳に追加

異なる共振周波数のマイクロ揺動体を同じエッチングマスクで製造することができ、有効反射面積の低下及び共振周波数の製造ばらつきを抑制することが可能となる揺動体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective polymer which can prevent the reflection of a lower coating film layer in a process for forming a hyperfine pattern with 193 nm ArF light and 248 nm KrF light and can further remove standing-waves, and to provide a method for synthesizing the polymer.例文帳に追加

１９３ｎｍＡｒＦ及び２４８ｎｍＫｒＦ光を用いる超微細パターン形成工程において、下部膜層の反射を防止でき、定在波を除去し得る有機乱反射防止重合体及びその合成方法を提供する。 - 特許庁

To improve the electrification characteristics, moisture proof property (moisture resistance), scratching resistance and sticking characteristics of a photo-thermal photographic sensitive material, to decrease haze due to interferential irregularity or scattering reflection in the process of laser exposure and to provide a photo-thermal photographic image forming material with high picture quality.例文帳に追加

光熱写真感光材料の帯電特性、防湿性（耐湿性）、耐傷性およびクッツキ特性を向上させ、レーザー露光において干渉ムラや乱反射によるヘイズを低減し、画質のよい光熱写真画像形成材料を提供する。 - 特許庁

In this process, an original surface side of the exposure reflection surface 52 is curved in a carrying direction over a major scan direction, and a center point R of the curve is set near on a reading line; thus putting a top R of the curve on the read line.例文帳に追加

この時、露光反射面５２の原稿面側を、主走査方向に亘って、搬送方向に湾曲させ、その湾曲の中心点Ｒを読み取りライン上近傍に設定することで、湾曲の頂点Ｒを読取ライン上とすることができる。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the manufacturing process of a reflection type liquid crystal display device used for the display part of the portable information equipment, pixel structures 15, 16 for shading TFTs and between pixels are provided without having to user a black matrix to widen an effective pixel region.例文帳に追加

携帯用情報機器の表示部に用いる反射型の液晶表示装置の作製工程において、有効画素領域を広げるために、ブラックマトリクスを用いることなくＴＦＴおよび画素間を遮光する画素構造１５，１６を有する。 - 特許庁

Since the surface of the coil 4 is roughened, the reflection of the laser beam L by the surface of the foil 4 can be suppressed, and thus the beam can be passed through the foil 4 through the irradiation of the beam L to process the via hole 5 in the resin layer 3.例文帳に追加

銅箔４は表面が粗面化されていてレーザ光Ｌが銅箔４の表面で反射されるのを低減することができ、レーザ光Ｌの照射で銅箔４を貫通して接着樹脂層３にバイアホール５を加工することができる。 - 特許庁

To manufacture a high performance solid-state imaging apparatus by properly controlling the thickness of a reflection preventing film provided to a photodiode surface, and the thickness of a sidewall provided to a gate electrode side wall of an MOS transistor without increasing manufacturing process.例文帳に追加

製造工程を増加させることなく、フォトダイオード表面に設けられた反射防止膜の膜厚およびＭＯＳトランジスタのゲート電極側壁に設けられたサイドウォール厚を適正に制御して、高性能な固体撮像装置を作製する。 - 特許庁

In a semiconductor manufacturing process, an organic reflection preventing film provides selectivity for a lower layer and/or minimizes the etching speed in the lateral direction of photoresist of an upper layer which maintains a critical dimension determined by a photo resist.例文帳に追加

半導体製造プロセスであって、このプロセスは、有機反射防止膜が、下層に対して選択性を与え、及び／又は、フォトレジストによって定められるクリティカルディメンジョンを維持する上層のフォトレジストの横方向のエッチング速度を最小化する。 - 特許庁

This system is adapted to recognize a character based on the trace of a reflected light obtained by reflecting a light emitted by a light emitting means by a reflection means, and process the recognized character as an input character.例文帳に追加

本発明のシステムは、発光手段によって発光された光を反射させる反射手段によって反射された反射光の軌跡に基づいて文字を認識する認識し、この認識した文字を入力文字として処理するシステムである。 - 特許庁

The image recording system which records a medical image on the reflection recording medium according to an image signal representing the medical image is equipped with an image processing means 110 which performs dynamic range compression processing for an inputted image signal and this image processing means 11 preferably performs a process of compressing the dynamic range of a high-density area and further preferably performs a frequency emphasizing process in addition to the dynamic range compressing process.例文帳に追加

医用画像を表す画像信号に基づいて反射記録媒体に医用画像を記録する画像記録システムであって、入力された画像信号に対してダイナミックレンジ圧縮処理を行う画像処理手段１１０を備え、この画像処理手段１１は、望ましくは高濃度領域のダイナミックレンジを圧縮する処理を実行し、さらに望ましくは、ダイナミックレンジ圧縮処理に加えて周波数強調処理を実行する。 - 特許庁

Since an optical compensation layer 74 is formed between a substrate 50 formed with a pixel electrode 53 and a polarization layer 72 formed on the substrate 50, the reflection preventive film 73 hardly is injured and soiled in a manufacturing process, and the display quality is improved.例文帳に追加

画素電極５３が形成された基板５０と、これに形成された偏光層７２との間に、光学補償層７４が形成されているので、製造工程において反射防止膜７３に傷や汚れが付きにくく、表示品位を向上させることができる。 - 特許庁

A reflective mirror 3 of the rear projection television (RPTV) includes a float glass plate (glass substrate) 1 formed to have a plate thickness of 3 mm by a float process, and a reflection enhancing film 2 constituted of aluminum (Al) formed on one surface 1a of the glass substrate 1 by a sputtering method.例文帳に追加

リアプロジェクションテレビ（ＲＰＴＶ）の反射ミラー３は、フロート製法により板厚が３ｍｍに形成されたフロートガラス板（ガラス基板）１と、ガラス基板１の一方の表面１ａに、スパッタ法により形成されたアルミニウム（Ａｌ）から成る増反射膜２とを備える。 - 特許庁

The image forming apparatus enters an image carrier deterioration-detection mode, when an input current value to the optical sensor, adjusted to make the output voltage of the optical sensor with respect to the surface reflection light of the intermediate transfer belt a predetermined value by process control exceeds the predetermined value.例文帳に追加

プロセスコントロールで中間転写ベルトの表面反射光に対する光学式センサの出力電圧を所定の値にするために調整される光学式センサへの入力電流値が所定の値を超えた場合に、像担持体劣化検知モードに入る。 - 特許庁

To provide a display module whose manufacturing processes can be reduced by performing the prevention of external light reflection and the protection of a packaging component using the same material and the same process, and whose production cost can be reduced by preventing an increase of the size and thickness of the device.例文帳に追加

外光反射の防止と実装部品の保護とを同一材料及び同一工程で行って製造工程を削減することができると共に、装置サイズ及び厚みの増大を防止して、製造コストを低減することができる表示モジュールを提供する。 - 特許庁

For example, it can prevent reflection from a lower film in a lithography process using 248 nm KrF, 193 nm ArF and 157 nm F_2 lasers and can eliminate light and standing waves generated by a thickness change of a photoresist itself.例文帳に追加

例えば、２４８ｎｍ（ＡｒＦ）、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）および１５７ｎｍ（Ｆ_2）レ−ザ−を利用するリソグラフィー工程においては下部膜の反射を防止することができ、且つ光およびフォトレジスト自らの厚さの変化によって生じる定常波を除去することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal pattern in a semiconductor device, which can suppress the occurrence of defects of a photoresist pattern by preventing irregular reflection caused by the metal in forming the metal pattern in the semiconductor device, and simplify the manufacturing process.例文帳に追加

半導体素子に金属パターンを形成する際の金属による乱反射を防止することにより感光膜パターンの不良の発生を抑制し、かつ、その製造工程を単純化することができる半導体素子の金属パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A first etching stopper film 2, a first insulating film 3, a second etching stopper film 4, a second insulating film 5 and inorganic anti-reflection film 6 are formed on a semiconductor substrate 1 sequentially from its lower layer, on which a resist layer 7 is formed and then subjected to a photolithographical process to form a hole pattern.例文帳に追加

半導体基板１上に、下層から順に第１エッチングストッパ膜２、第１絶縁膜３、第２エッチングストッパ膜４、第２絶縁膜５、無機反射防止膜６を成膜し、その上にフォトリソグラフィによりレジスト７を用いてホールパターンを形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical thin film and the anti-reflection film obtained by a coating and drying process using a die on a support, the die has a heat-retaining function and the difference between the retained die temperature and a coater chamber temperature is -2°C to +2°C.例文帳に追加

支持体上にダイを用いて塗布乾燥して得られる光学薄膜の製造方法において、ダイに保温機能を有し、ダイ保温温度とコーター室温度の差を−２℃〜＋２℃とすることを特徴とする光学薄膜及び反射防止膜の製造方法。 - 特許庁

6) Prefectural and municipal governments shall be mindful to allow the independent participation of local residents in the establishment of health promotion targets, in the process until achievement of targets, and in the evaluation of targets, and to allow proactive reflection of their opinions in health promotion initiatives.例文帳に追加

６ 都道府県及び市町村は、健康増進のための目標の設定や、目標を達成するまでの過程及び目標の評価において、地域住民が主体的に参加し、その意見を積極的に健康増進の取組に反映できるよう留意すること。 - 厚生労働省

This modified sol-gel process silica particles are characterized in that a ratio (A1/A2)of a peak area (A1) based on an isolated silanol group and a peak area (A2) based on a hydrogen bonded silanol group is ≥0.03 in the measurement of IR spectrum by the diffused reflection method.例文帳に追加

拡散反射法で赤外分光スペクトルを測定した際に、孤立シラノール基に基づくピーク面積（Ａ１）と水素結合したシラノール基に基づくピーク面積（Ａ２）の比（Ａ１／Ａ２）が０．０３以上であることを特徴とする改質ゾル−ゲル法シリカ粒子である。 - 特許庁

To provide an AM(active matrix) substrate having display performance of both of satisfactory reflection and transmission having high visibility and manufactured at a low cost with a relatively simple method without complicating the manufacturing process of the substrate and its manufacturing method and an LCD(liquid crystal display) in which the substrate is used.例文帳に追加

ＡＭ基板の製造工程を複雑にすることなく、比較的簡単な方法で、視認性の高い良好な反射と透過の両表示性能を有し、且つ安価に製造できるＡＭ基板及びその製造方法とそれを用いたＬＣＤを提供する。 - 特許庁

To solve a problem of degrading in light extraction efficiency of a nitride semiconductor light-emitting device, which problem is caused by optical reflection or a crushed layer produced in machining a substrate that is hard to process, thereby enhancing the light extraction efficiency of the nitride semiconductor light-emitting device.例文帳に追加

窒化物半導体発光素子の光の反射による光の取り出し効率低下や難加工基板の機械的加工法で生ずる破砕層による光の取り出し効率低下の問題解決し、窒化物半導体発光素子の光の取り出し効率を上げること。 - 特許庁

To simplify a device construction and a manufacturing process and to conduct a bright and high quality picture display in a reflective and a semitransparent reflective liquid crystal devices adopting an internal reflection mode provided with a reflective electrode, which is functioning also as a reflective plate, on the side of a substrate facing a liquid crystal layer.例文帳に追加

基板の液晶に面する側に反射板を兼ねる反射電極を設けた内面反射方式を採る反射型や半透過反射型の液晶装置において、装置構成及び製造プロセスを単純化し、明るく高品位の画像表示を行う。 - 特許庁

To provide an absorbable spin-on glass anti-reflection film and lithography material that a) can absorb a light strongly and evenly in a region of ultraviolet light, b) does not "collapse" a resist material or run off an intended resist line, and c) does not react photoresist developer in a manufacturing process of an SOG anti-reflection film to develop manufacture of layered materials, electronic components, and semiconductor components.例文帳に追加

ａ）紫外光域において強力かつ均一に吸光し、ｂ）レジスト材料を「崩れ」させたり、意図したレジストラインよりはみ出ることのない、ｃ）フォトレジスト現像剤および上記のＳＯＧ反射防止膜の製造工程に対して感応することのない、吸収性スピンオンガラス反射防止膜およびリソグラフィー材料が、層状材料、電子部品、および半導体部品の製造を発展させるために望まれている。 - 特許庁

The image display medium, which has two sheets 121 and 112 having light transparency, developer housing cells which are formed therebetween and circumferentially enclosed by partition walls and the dry process developer included in the respective cells and in which the developer contains triboelectrified dry process developing particles varying in electrostatic charge polarities from each other and varying in optical reflection density from each other, is prepared.例文帳に追加

光透過性を有する２枚のシート１２１、１２２と、その間に形成され、周囲を仕切り壁で囲まれた現像剤収容セルと、各セルに内包された乾式現像剤とを有しており、現像剤は、互いに帯電極性の異なる、且つ、互いに光学的反射濃度の異なる、摩擦帯電した乾式現像粒子を含んでいる画像表示媒体を準備する。 - 特許庁

To provide a metal wiring substrate and a method of manufacturing the same, which can form a pattern of a metal film with a simple process not requiring any etching process on a metal film, can precisely form a fine pattern, even on a metal such as copper (Cu) that is difficult to control etching, and is superior in material utilization efficiency, and a metal wiring substrate for reflection liquid crystal display.例文帳に追加

金属膜のエッチング工程を必要とせず簡単なプロセスによりパターン形成することができ、銅（Ｃｕ）等のエッチング制御が困難な金属であっても精細にパターニングでき、かつ材料の利用効率の優れた金属配線基板及び金属配線基板の製造方法並びに反射型液晶表示装置用金属配線基板を提供する。 - 特許庁

In a process for manufacturing the composite optical element 10 which is formed by laminating a photosetting resin layer 2 with an optical shape 4 on a glass substrate 1, a band reflection filter 3 for cutting light of a wavelength in a range between 270 nm and 410 nm is provided on the glass substrate 1 before laminating the photosetting resin layer 2 thereon.例文帳に追加

ガラス基板１に、光学形状４を有する光硬化樹脂層２を積層した複合型光学素子１０の製造工程において、光硬化樹脂層２を積層する前のガラス基板１に、２７０〜４１０ｎｍの範囲の波長の光をカットするバンド反射フィルター３を設けておく。 - 特許庁

To provide a transflective liquid crystal apparatus adopting an FFS (Fringe-Field Switching) system, capable of obtaining display of high image quality and of a wide visual field angle in both reflection display and transmission display and capable of being manufactured in a simple process and at low costs.例文帳に追加

ＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式を採用した半透過反射型の液晶装置であって、反射表示と透過表示の双方で高画質かつ広視野角の表示を得ることができ、また簡便な工程で低コストに製造可能な構成を具備した液晶装置を提供する。 - 特許庁

When the process cartridge and the developing device are manufactured and shipped, a toner supply member of the developing device using the toner supply means is coated with powder which is a lubricant having a higher melting point than that of the toner and of which the particles are transparent as single substances but looks white by reflection of light as an aggregation of single substances.例文帳に追加

プロセスカートリッジ及び現像装置の生産出荷時にトナー供給部材を用いた現像装置でトナー供給部材にトナーよりも融点の高い潤滑剤で、単体では透明であるがその単体が集まると光の反射により白色に見える粉体を塗布する。 - 特許庁

In the process, a lower limit guard value efgafxgd for limiting reflection of a learning value is set when catalyst quick warming up control is executed with using the learning value corresponding to light load zone out of learning values of correction value of injection quantity learned for each load zone beforehand.例文帳に追加

当該処理では、予め負荷領域毎に学習される噴射量の補正値の学習値のうち軽負荷領域に対応する学習値を使用して触媒急速暖機制御が行われる場合に、学習値の反映を制限するための下限ガード値ｅｆｇａｆｘｇｄが設定される。 - 特許庁

The method for manufacturing the sputtering target for a reflection layer of an optical medium includes a process for firing raw material powder having a composition that is mainly composed of Al and contains 1-10 at% of one or two species of elements selected from the group consisting of Ta and Nb, and 0.1-10 at% of Ag.例文帳に追加

光メディアの反射層用スパッタリングターゲットの製造方法は、Ａｌを主成分とし、Ｔａ及びＮｂからなる群より選択される１又は２種の元素を１〜１０ａｔ％、及び、Ａｇを０．１〜１０ａｔ％含む組成を有する原料粉体を焼成する工程を備える。 - 特許庁

To realize a method for measuring film thickness and optical constant which requires neither a reflection preventing process for a sample having a thin film formed on a transparent substrate nor a special optical element for removing reverse-surface reflected light and its adjustment for a measurement optical system.例文帳に追加

透明基板５ａ上に薄膜が形成された試料６に対して反射防止処理を必要とせず、測定光学系に裏面反射光を除去するための特別な光学要素もその調整も必要としない膜厚及び光学定数の測定方法を実現する。 - 特許庁

To provide a resin composition that can form a hard coat film having low-reflection function suited for optical parts and having scratch resistance, mar resistance, chemical resistance or the like sufficient to protect a base material in a simple and convenient process with enhanced productivity, enhanced yield of product or the like.例文帳に追加

光学部品に適した低反射機能と、基材を十分に保護し得る耐引っ掻き性、耐擦り傷性、耐薬品性などを備えたハードコート膜を形成するにおいて、簡便な工程で生産性、製品歩留まりなどを向上させることができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of surface treatment by which an antiglare layer is formed with a short processing time without necessitating a complicated process, an apparatus for plasma discharge treatment, an antiglare film and an antiglare low reflection film formed by the method of surface treatment and the apparatus for plasma discharge treatment.例文帳に追加

処理時間が短い煩雑な工程を必要としない防眩性を有する層を生成する表面処理方法、及びプラズマ放電処理装置、また、これら表面処理方法及びプラズマ放電処理装置により形成された防眩性フィルム及び防眩性低反射フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a hard coat resin composition for eyeglass lenses of a high refractive index superior in adhesion to an eyeglass lens base material and an anti-reflection inorganic deposition film by having the same hard coat property as a coating agent of conventional polysiloxane by only active energy ray radiation without needing a heat curing process.例文帳に追加

熱硬化工程を必要とせず、活性エネルギー線照射のみで、従来のポリシロキサンのコーティング剤と同等のハードコート性を有し、さらには、メガネレンズ基材、反射防止用無機蒸着膜との密着性に優れる高屈折率のメガネレンズ用ハードコート性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a slanted short period optical fiber grating having a low reflectance by which method the grating part is formed by taking an influence of a reflection suppression angle due to the variation in the refractive index caused by taking the exposure and the variation in the refractive index during the process after the exposure into consideration in advance.例文帳に追加

露光による屈折率変化及び露光後の工程での屈折率変化による反射抑制角の影響を予め考慮してグレーティング部を形成することにより、反射率の小さいスラント型短周期光ファイバグレーティングの製造方法を提供する。 - 特許庁

A reflection document and transmitting document are scanned, types of the scanned document are auto-detected, auto-mode scan action for applying an image processing for the detected document type is executed, and, during the auto-mode scan process, description of the current auto-image processing is displayed.例文帳に追加

反射原稿と透過原稿とを読み取り、読み取る原稿の種類を自動判別し、判別された原稿の種類に応じた画像処理を施すオートモード読み取り処理を実行し、オートモード読み取り処理時に、現在行っている自動画像処理の内容を表示する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide module that is applicable to hybrid mounting including an array fiber and an optical element without performing an alignment process such as rotary adjustment of a fiber and that suppresses reflection in a connecting part between an optical waveguide and an optical element or an optical fiber, and also to provide a manufacturing method of the module.例文帳に追加

ファイバの回転調整などのアライメント工程を行わず、アレイファイバや光素子など混載実装にも適用可能であり、光導波路と、光素子や光ファイバとの接続部において、反射の抑制が可能な光導波路モジュールおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the focus control content determination process, a test laser beam is applied to a region (for example, the innermost periphery region) having a large reflection factor on an optical disk, and the focus control content is determined and stored in a memory, based on the focus control content executed at that time.例文帳に追加

フォーカス制御内容決定処理では、光ディスクにおける反射率の大きい領域（例えば最内周領域等）に対してテストレーザ光照射を行い、その時に実行したフォーカス制御内容に基づいてフォーカス制御内容を決定しメモリに記憶する。 - 特許庁