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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > reflection processに関連した英語例文

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reflection processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 392



例文

An adjusting process includes a step of making the rad and tan adjustments to as to make maximum the reflection output of the beam 6 with which a land 70 is irradiated, and a step of making the tan adjustment so as to make proper the reflection output waveform of the beam 6 passed through a clock mark 72.例文帳に追加

調整工程は、ランド70を照射したビーム6の反射出力が最大となるように、rad調整とtan調整を行う工程と、次に、クロックマーク72を通過するビーム6の反射出力波形が適切となるようにtan調整を行う工程とがある。 - 特許庁

In an immersion process, the surface of the reflection layer 7 having fine irregularity is melted to be smoothed by immersing the reflection layer 7 made of metal consisting mainly of aluminum in etching solution containing phosphoric acid within a range of 20-60wt%.例文帳に追加

浸漬工程において、アルミを主成分とした金属からなる反射層7を20〜60wt%の範囲内の燐酸を含むエッチング溶液中に浸漬することにより、微細な凹凸を有する反射層7の表面を溶かして滑らかにすることができる。 - 特許庁

To provide a method for reproducing a substrate with a multilayer reflection film by which the reproducing cost of the substrate can be reduced because a large-scale apparatus is not required, the damage of the substrate due to the peeling and removal of the multilayer reflection film can be reduced and also the process load of re-polishing is low.例文帳に追加

大掛かりな装置を必要とせず、しかも多層反射膜の剥離除去による基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる多層反射膜付き基板の再生方法を提供する。 - 特許庁

For the silicon in the melting process, the silicon melting advances to a depth; whereas, for the silicon in its solidifying process, reflection of the vertical vibration to the surface of the sample 42 can strongly promote (111) crystal orientation.例文帳に追加

溶融過程のシリコンに対しては深部に亘ってシリコンの溶融を進行させ、凝固過程のシリコンに対しては試料42表面に垂直な方向への揺動が反映することにより(111)結晶配向性を強く促進させることができる。 - 特許庁

例文

This allows the light transmittance of the image element having a wiring pattern manufactured in Copper Damascene Process to be improved and the system to prevent the dispersion and irregular reflection of the light incident on the light receiving element, thereby enables the improvement of the light transmittance and the simplification of the manufacturing process.例文帳に追加

これにより、銅ダマシン工程で製造された配線パターンを有するイメージ素子の光透過率を向上でき、受光素子に入射される光の散乱と乱反射とを防止して、光感度を向上でき、製造過程を単純化できる。 - 特許庁


例文

The manufacturing method has a first process to form a clad layer 12 possessing a projected part whose side surface is inclined on a surface on a base plate 10, a second process to form a reflection film 13 on the side surface of the projected part of the clad layer 12 and a third process to form the optical waveguide 14 on the projected part of the clad layer 12.例文帳に追加

この製造方法は、側面が傾斜した凸部を、表面に有するクラッド層12を基板10上に形成する第1の工程と、クラッド層12の凸部の側面上に、反射膜13を形成する第2の工程と、クラッド層12の凸部の上に、光導波路14を形成する第3の工程とを有する。 - 特許庁

An organization information change reflection system 200 equipped with a task process information database 210 in which organization information and a task process are stored in association with each other is configured to specify an organization affected by the change of an organization designated by a user, and to specify a task process associated with the organization as an object to be changed.例文帳に追加

組織情報と業務プロセスとを対応付けて記憶する業務プロセス情報データベース210を備えた組織情報変更反映システム200において、利用者から指定された組織における変更の影響を受ける組織を特定し、この組織に対応付いた業務プロセスを変更の対象として特定する。 - 特許庁

A reflection polarizing film protecting sheet 131 manufactured by a stretching process at a low manufacturing cost using a polyethylene terephthalate based material so that brightness is enhanced, visual angle is improved and a moire phenomenon is prevented is disposed on the upper surface of a reflection polarizing film 132 enhancing light brightness.例文帳に追加

光の輝度を大幅向上させる反射偏光フィルム132の上面に輝度向上、視野角改善、モアレを防止するように延伸工程により製作されたポリエチレンテレフタレート系列物質を使用した低い製作コストの反射偏光フィルム保護シート131を配置した。 - 特許庁

The images made incident on the light incident and exit surfaces of the first and second light guides are expanded in one direction and the direction orthogonal with the one direction in the process of being made incident on the light reflection surface by refraction and being emitted from the light reflection surface through the light incident and exit surface 61A.例文帳に追加

第1および第2導光体の光入出射面に入射した画像は、屈折して光反射面に入射し、光反射面から光入出射面61Aを介して射出される過程で、一方向および当該方向の直交方向に拡大される。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing the color filter having a permission region 8 and a reflection region 7 on a pixel part with a colored layer 1 of plural colors is provided with a process of irradiating one part of the reflection region 7 with laser and removing at least one part of the colored layer 1.例文帳に追加

複数色の着色層を有する画素部に透過領域と反射領域を有するカラーフィルターの製造方法において、該反射領域の一部にレーザーを照射して、該着色層の少なくとも一部を除去することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 特許庁

例文

An anti-reflection film is provided to at least one surface of optical surfaces of the first lens group G1 and the second lens group G2, and the anti-reflection film is configured to include a layer formed by using a wet process.例文帳に追加

また、所定の条件を満足し、第1レンズ群G1および第2レンズ群G2における光学面のうち少なくとも1面に反射防止膜が設けられ、当該反射防止膜はウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも1層含むように構成することを特徴とする。 - 特許庁

A specified diffraction grating is formed on the surface of a substrate 2 such as silicon by photolithography or the like to form a second reflection face 6, on which a transparent film 3 is formed flat and formed into a specified diffraction grating by using again a photolithographic process or the like to form a first reflection face 5.例文帳に追加

シリコンなどの基板2の表面にフォトリソグラフィー等により所定の回折格子を形成し第2の反射面6とした後、透明膜3を平坦に形成し再度フォトリソグラフィー等の技術を用いて所定の回折格子を形成することにより第1の反射面5とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which strength characteristics of a supporting substrate is excellent, reflection light from the supporting substrate is little, and light take-out efficiency is enhanced, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

支持基板の強度特性に優れるとともに、該支持基板からの反射光が少なく、光取り出し効率を向上させた半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To perform stable exposure by preventing light from entering silicon carbide in exposure, and hence avoiding variations in the quantity of light caused by reflection light in the pattern exposure of an exposure process.例文帳に追加

露光時における炭化珪素への光の入射が防止され、露光工程のパターン露光時における反射光による光量変動を回避して安定した露光を可能とする。 - 特許庁

The reflection surface is molded so that the surface has irregular asperity in a molding process of the reflecting plate 4, and formed by evaporating metal such as aluminum.例文帳に追加

この反射表面は、反射板(4)の成形過程において表面を不規則的な凹凸を有するように成形し、アルミ等の金属を蒸着させることにより形成される。 - 特許庁

To provide a moth-eye anti-reflection film which can be produced in high efficiency by a simple process, prevents curling and has excellent adhesion.例文帳に追加

本発明は、簡易な工程で高効率で製造することが可能であり、カールが抑制され、かつ密着力に優れたモスアイ型反射防止フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display by which a reflective electrode having a rugged structure can be effectively constituted in a simple process and the reflection efficiency is maximized.例文帳に追加

本発明は、単純な工程を介して凹凸構造を有する反射電極を効果的に構成し、反射効率を極大化させた液晶表示装置の製造方法を提供する - 特許庁

When the receiving beam former 8A, etc., receives reflection waves based on the respective transmission beams, the receiving beam former, etc., generates a plurality of receiving beams for each transmission beam by means of the parallel simultaneous receiving process.例文帳に追加

受信ビームフォーマ8A等は、各送信ビームに基づく反射波を受信すると、並列同時受信処理を行うことで、送信ビームごとに複数の受信ビームを生成する。 - 特許庁

There is no need of installing a reflection protective film on the end face of the optical fiber 33, nor need of obliquely polishing its end face or one end face of the rod lens, which simplifies the manufacturing process.例文帳に追加

光ファイバ33の端面に反射防止膜を設ける必要がなく、同端面及びロッドレンズの一端面を斜め研磨する必要もなく、製造工程が簡略化される。 - 特許庁

To reduce adhering of dust by static electricity generated at the time of the cleaning process of a panel surface executed at the time of forming a low reflection coat on the panel surface of a display device.例文帳に追加

ディスプレイデバイスのパネル表面に低反射コートを形成する際に行われるパネル表面の清浄工程時に生ずる静電気による、塵の吸着を減少させる。 - 特許庁

The notifying system 204 sends a notification e-mail at a set notification timing, prepares WEB data at the set notification timing, and subjects an individual portal WEB page to reflection process.例文帳に追加

通知システム204は、設定された通知タイミングで通知電子メールを送信し、設定された通知タイミングでWEBデータを作成し、個人ポータルWEBページに反映処理を行う - 特許庁

Then an interlayer insulating film 3b is formed, and a contact hole 4 to connect the aforementioned signal wiring 2 and the reflection electrode to be formed in the succeeding process is formed by patterning.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜3bが形成され、上記信号配線2と後の工程で形成される反射電極との接続のためのコンタクトホール4が、パターニングにより形成される。 - 特許庁

To provide a plasma display panel capable of improving the contrast of a display image by reducing reflection light at the upper face of a barrier rib without adding a new manufacturing process.例文帳に追加

新たな製造工程を追加することなく、隔壁の上部面における反射光を低減して表示画像のコントラストを改善することができるプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

The process release paper is suitable for manufacturing synthetic leather and a melamine decorative board having the surface glossiness of 60 or higher in 60° reflection because the paper is excellent in the heat resistance and the releasing property.例文帳に追加

耐熱性、剥離性に優れるため、表面光沢度が60°反射で60以上の高光沢表面を有する合成皮革やメラミン化粧板の製造に好適である。 - 特許庁

To provide a photorework process with which a decrease in manufacturing yield due to film peeling can be suppressed when a transparent electrode and a reflection electrode are formed on an organic insulating film.例文帳に追加

有機絶縁膜上に透明電極及び反射電極を形成する際に、膜剥がれによる製造歩留まりの低下を抑止することができるフォトリワークのプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide an easily adhesive polyester film for optics having excellent transparency, slidability, adhesiveness to layers having various optical functions and lightfastness after the reflection-preventing process.例文帳に追加

透明性、易滑性に優れ、種々の光学用機能層との接着力に優れながら、さらに反射防止加工後の耐光性に優れる、光学用易接着性ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal panel substrate which enables a translucent reflection display of uniform brightness, without the appearance of patterns regardless of the display and a process for producing the same.例文帳に追加

表示とは無関係な模様が現れたりすることがなく、均一な明るさの半透過反射表示を可能とする、液晶パネル基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To perform a highly accurate inspection and a high accurate adjustment by receiving efficiently a reflected light by a liquid crystal layer in the manufacturing process of an optoelectronic device such as a reflection type liquid crystal device.例文帳に追加

反射型の液晶装置などの電気光学装置の製造工程において、液晶層による反射光を効率的に受光して高精度の検査及び調整を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a transreflective color filter substrate capable of improving the efficiency of a production process and securing both of the brightness of a reflection type and the saturation of transmission type display.例文帳に追加

生産工程が効率的であり、反射型の明るさと透過型表示の彩度を共に確保することを可能とした半透過反射型カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress coloring of a retardation plate and to provide a simple manufacturing process in a transflective IPS mode liquid crystal display device having the retardation plate incorporated into a reflection display section.例文帳に追加

反射表示部に位相差板を内蔵した半透過型IPS方式の液晶表示装置において、位相差板の着色を抑制でき、かつ簡易な製造プロセスを提供する。 - 特許庁

The jig 2 is made of an aluminum material or the like which transmits or reflects light so that it can be detected by a transmission type or reflection type substrate detecting sensor in a device in a semiconductor production process.例文帳に追加

また、治具2は、光を透過又は反射するアルミニウム等の材料を使用して半導体製造プロセス装置内の透過式や反射式の基板検知センサに検知可能とする。 - 特許庁

In the process of suspending the atomized water W thus processed, the vibration energy E reflected by the reflection plate 3 is made to irradiate the object F while being passed through the atomized water W.例文帳に追加

処理した噴霧状の水Wを漂わせる過程で反射プレート3で反射された振動エネルギーEを噴霧状の水Wに通過させつつ対象物Fに照射させる。 - 特許庁

To provide a polyester film for an antireflection film which reduces unevenness in interference due to outside light reflection, can prevent adhesion of dust in a process, and is suitable for various optics applications.例文帳に追加

外光反射による干渉ムラを軽減し、工程内での塵埃の付着を防止することのできる、各種光学用途に好適な反射防止フィルム用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device using a diffuse reflection structure which can form a reflecting film which an uneven surface formed through a simple process, and its manufacturing method.例文帳に追加

簡単な工程で凹凸形状の表面を有する反射膜を形成することのできる拡散反射構造体を用いた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition, a polymer reflector 26 and a combined lens surface reflector 34 having microscopic voids are easily changed in a pre-manufacture process and a post-manufacture process, and the desired variable diffuse reflection for a liquid crystal device and other requirements of illuminations are achieved.例文帳に追加

あわせて、微小空隙を有するポリマー反射体26および複合レンズ面反射体34は、プレ製造プロセスおよびポスト製造プロセスで容易に変更され、液晶装置および他の照明要件のための所望の可変拡散反射を達成できるようにした。 - 特許庁

To guarantee stability and reproducibility of a process, as well as, safety and protection of a high-frequency power supply, by reducing the fluctuations of plasma impedance and reflection on the high-frequency power supply, as much as possible, in a method of periodically modulating the high-frequency power used for a plasma process.例文帳に追加

プラズマ処理に用いる高周波のパワーを周期的に変調する方式において、プラズマインピーダンスの変動や高周波電源への反射を可及的に少なくして、プロセスの安定性・再現性および高周波電源の安全保護を保証する。 - 特許庁

To provide a film-forming process which securely forms a coating film only on one side of a substrate in its thickness direction to form different coating films respectively on both sides of the substrate, and a process for manufacturing a reflection mirror which securely forms a hydrophilic coating film only on one side of the substrate in its thickness direction at a low cost.例文帳に追加

基板の厚さ方向一方の面にのみ被膜を基板の両面に確実に形成できる被膜形成方法及び安価なコストで基板の厚さ方向一方の面にのみ親水性被膜を確実に形成できる反射鏡製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode pattern required for obtaining a device having good characteristics and quality through a simple process while forming an antireflection film for preventing diffuse reflection of UV-rays on a transparent substrate in a process for forming an electrode pattern thereon.例文帳に追加

透明基板に電極パターンを形成する工程において、透明基板の紫外光の乱反射を防ぐ反射防止膜を形成しつつ、簡易な工程で、良好な特性および品質の部品を得る電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Also, the method for manufacturing the reflection type electrode substrate includes a process of etching the metal oxide layer by using an etchant composed of oxalic acid and a process of etching the inorganic compound layer by using an etchant composed of phosphoric acid, nitric acid and acetic acid.例文帳に追加

また、シュウ酸からなるエッチング液を用いて前記金属酸化物層をエッチングする工程と、燐酸、硝酸及び酢酸からなるエッチング液を用いて前記無機化合物層をエッチングする工程とを含む反射型電極基板の製造方法である。 - 特許庁

This method is provided with a process for manufacturing the scintillator 40 provided with predetermined-length segment columns 42 and reflection layers 60 shorter than the segment columns 42 arranged alternately with each other and a process for inserting projection parts 52 arranged in the collimator between the scintillator segment columns 42.例文帳に追加

所定の長さを有するセグメント列42と前記セグメント列42より短い反射層60とが交互に配置されたシンチレータ40を製造する工程と、コリメータに設けられた突起部52を前記シンチレータセグメント列42間に差し込む工程とを備えた。 - 特許庁

To provide a plasma processing method which can control a reflection electric power generated when an etching primary process and a deposition primary process are switched or when on and off of a high frequency electric power which is supplied to a plasma generation device or an electrode are switched.例文帳に追加

エッチング主体の工程とデポジション主体の工程を切り換えたときや、プラズマ発生装置または電極に供給する高周波電力のON/OFFを切り換えたときに発生する反射電力を抑制できるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The forming method of a laminate comprises a first process for forming an intermediate layer on a substrate and a second process for forming a metal layer, having an adhesive force between the substrate, which is smaller than that between the intermediate layer, and a reflection factor, larger than that of the intermediate layer, while the forming speed of the metal layer is increased halfway of the second process.例文帳に追加

基体上に中間層を形成する第1の工程と、前記中間層上に前記基体との密着力が前記中間層よりも小さく、反射率が前記中間層よりも大きい金属層を形成する第2の工程を有し、前記第2の工程の途中で前記金属層の形成速度を増加させることを特徴とする。 - 特許庁

Thereafter, when the process speed is changed, the LED of the sensor 224 is switched to be continuously lighted, and after the sensor 224 detects the reflection mark twice, the LED is switched again to be partially lighted.例文帳に追加

その後、プロセス速度が切り替えられたときは、センサ224のLEDを連続点灯に切り替え、センサ224が反射マークを2回検出した後は、再びLEDを部分点灯に切り替える。 - 特許庁

A groove (85) is partially etched and the groove (85) is formed almost inside the secondary dielectric layer (40) after BARC (back side anti-reflection coating) is completely or partially removed from the via (62), which completes a groove etching process.例文帳に追加

溝(85)を部分的にエッチングし、BARCをビア(62)から完全にまたは部分的に除去して溝(85)をほとんど第2の誘電層(40)内に形成し、溝エッチング・プロセスを完了する。 - 特許庁

A document editing device performs an indexed process 21 and adjusts time intervals (reflection interval 23) where rewriting to a document file group 2 is reflected intermittently on an index 12 according to a specific condition.例文帳に追加

文書編集装置は、インデックス化プロセス21を実行して文書ファイル群2への書換えをインデックス12に間欠的に反映する時間間隔(反映間隔23)を、所定の条件に応じて加減する。 - 特許庁

To prepare a high-adhesive-strength phosphor layer provided in a light-emitting device of a reflection type structure, a phosphor paste which can give a phosphor layer of enhanced adhesive strength, and to provide a process for producing the paste.例文帳に追加

反射型構造の発光装置に設けられる接着強度の高い蛍光体層、その接着強度を高めることができる蛍光体ペースト、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this way, uniform dealing not dependent on the shape of the free-form surface 20 is made possible, a design process can be simplified and the shape of reflection plane is made appropriate.例文帳に追加

これによって、自由曲面20の形状に依存しない統一的な取り扱いが可能になるので、設計工程が簡単化されるとともに、得られる反射面形状を好適化することができる。 - 特許庁

To provide a high luminance liquid crystal display device in which loss of light produced in a process of light transmission through a liquid crystal panel is minimized by further forming a reflection layer on the rear face of a TFT array substrate.例文帳に追加

TFTアレイ基板の背面に反射層をさらに形成することにより、光が液晶パネルを通過する過程で発生する損失を最小化する高輝度液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, a reflection-type screen in which a blue color reflective layer 31B is arranged on the light incident side is produced through a process of transferring the produced particulate arrangement structure 20A to a second base body 22.例文帳に追加

その後、作製した微粒子配列構造体20Aを第2の基体22へ転写する工程を経て、青色反射層31Bが光入射側に配置された反射型スクリーンが作製される。 - 特許庁

例文

To provide a surface treatment process of a silicon substrate in which a low reflection surface suitable for solar cell can be achieved while preventing a porous layer from occurring due to etching in a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板内部のエッチングにより生じる多孔質層の発生を防ぎつつ、太陽電池セルに適した低反射の表面を実現できるシリコン基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁




  
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