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repeating unitの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1330



例文

The ultrarapid hardening cement composition comprises an ultrarapid hardening cement (A) comprising a calcium aluminate as an essential ingredient and a cement dispersant (B), wherein the cement dispersant (B) comprises a copolymer having a repeating unit derived from a monomer represented by following formula (1) and a repeating unit derived from a monomer expressed by formula (2).例文帳に追加

カルシウムアルミネート類を必須成分とする超速硬性セメント(A)とセメント分散剤(B)とを含み、該セメント分散剤(B)は、下記一般式(1);で表される単量体に由来する繰り返し単位と、下記一般式(2);で表される単量体に由来する繰り返し単位とを有する共重合体を含む。 - 特許庁

The resist protective film material for forming the protective film on the photoresist film comprises at least a polymer compound I including a repeating unit (a) represented by a general formula (1), and a polymer compound II including a repeating unit having a sulfonic acid or an amine salt of a sulfonic acid.例文帳に追加

フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で表される繰り返し単位aを含む高分子化合物Iと、スルホン酸又はスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位を含む高分子化合物IIを含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。 - 特許庁

As a result, an area A of the base station A is formed by a slave unit antenna 20 for repeating a signal received by the base station antenna 10 to a dead zone or an interference zone, and an area B of the base station B is formed by a slave unit antenna 21 for repeating a signal received by the base station antenna 11 to a dead zone or an interference zone.例文帳に追加

この結果、対基地局アンテナ10で受信した信号を不感地帯や干渉地帯に中継する対子機アンテナ20により基地局AのエリアAが形成され、対基地局アンテナ11で受信した信号を不感地帯や干渉地帯に中継する対子機アンテナ21により基地局BのエリアBが形成される。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin containing a repeating unit having a dihydroxy- or trihydroxyadamantyl group and a repeating unit having an acid-decomposable alicyclic group at a specified composition molar ratio and capable of increasing the velocity of dissolution in an alkali developer by the action of an acid and a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

ジヒドロキシまたはトリヒドロキシアダマンチル基を有する繰り返し単位、及び酸分解脂環基を有する繰り返し単位を各々特定の組成モル比率において含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

例文

The positive resist composition contains: (A) a resin which has at least each one kind of a repeating unit of a specified structure and a repeating unit having a specified partial structure and the solubility of which increases with an alkali developer by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

(A)特定構造の繰り返し単位と、特定の部分構造を有する繰り返し単位とをそれぞれ少なくとも1種ずつ有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁


例文

In a process for preparing a sulfonate group-containing fluorine polymer, a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonyl fluoride group at its side chain terminal is treated with an amine to obtain a polymer, which is heat molded and subsequently treated with an acid to be converted, via a single step, into a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonate group.例文帳に追加

スルホニルフルオライド基を側鎖末端に持つ繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーを、アミン処理することにより得られるポリマーを熱成形した後に酸で処理することにより1段階で、スルホン酸基を有する繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーに変換することを特徴とする、フッ素系スルホン酸基含有ポリマーの製造方法である。 - 特許庁

The polymer electrolyte material has at least a first repeating unit including Si-C bond forming a main skeleton and a second repeating unit including an aromatic ring and a proton conducting group, and the membrane-electrode assembly for the fuel cell has the polymer electrolyte membrane including the polymer electrolyte material and/or the catalyst layer.例文帳に追加

主骨格を形成するSi−O結合を含む第一の繰り返し単位と、芳香環及びプロトン伝導性基を含む第二の繰り返し単位とを、少なくとも有していることを特徴とする高分子電解質材料、並びに、該高分子電解質材料を含有する高分子電解質膜及び/又は触媒層を備えることを特徴とする、燃料電池用膜・電極接合体。 - 特許庁

Organic thin-film transistor insulation layer material contains a high molecular compound (A) having a repeating unit including a substituted maleimide group and a repeating unit containing a first functional group, in which the first functional group is a functional group generating a second functional group, which reacts an active hydrogen, caused by irradiation with electromagnetic wave or heat.例文帳に追加

置換マレイミド基を有する繰り返し単位と、第1の官能基を含有する繰り返し単位とを有し、該第1の官能基が、電磁波の照射もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第2の官能基を生成する官能基である高分子化合物(A)を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 - 特許庁

The optical anisotropic film is prepared by irradiating a composition containing a high molecular weight polymer having as structural units, a repeating unit having both of a polymerizable group and a mesogen group and a repeating unit having a photo-reactive group, with light to develop optical anisotropy, and then by crosslinking the polymerizable group.例文帳に追加

重合性基とメソゲン基の両方を有する繰り返し単位と、光反応性基を有する繰り返し単位とを構成単位として含む高分子重合体を含む組成物を、光照射により光学異方性を発現させた後、前記重合性基を架橋してなることを特徴とする光学異方性フィルム。 - 特許庁

例文

A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a repeating unit (A) which decomposes with radiation of an actinic ray or radiation so as to generate acid and the repeating unit (A) includes a resin (P) which has a cation structure including monocyclic or polycyclic nitrogen-containing heterocycle.例文帳に追加

本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)を含み、前記繰り返し単位(A)は、単環式又は多環式の含窒素複素環を含んだカチオン構造を備えている樹脂(P)を含有している。 - 特許庁

例文

The thermally conductive adhesive includes 100 pts.mass of (A) a polyimide silicone resin of a 5,000-150,000 weight average molecular weight having a polyimide repeating unit represented by formula (1) and a polysiloxane repeating unit, 100 to 10,000 pts.mass of (B) an electrically insulating thermally conductive filler, and (C) a thermally conductive adhesive containing an organic solvent.例文帳に追加

(A)下記式(1)で表されるポリイミド繰り返し単位とポリシロキサン繰り返し単位を有する、重量平均分子量5,000〜150,000のポリイミドシリコーン樹脂100質量部、(B)電気的絶縁性の熱伝導性フィラー100〜10,000質量部、及び(C)有機溶剤を含有する熱伝導性接着剤。 - 特許庁

The polyimide film having a tensile elastic modulus of 700 kg/mm^2 or less and a coefficient of moisture-absorption expansion of 20 ppm or less and containing a specific repeating unit as an essential repeating unit is synthesized, and then a substrate for various electric and electronic apparatus such as a laminate for flexible print wiring boards are produced using the polyimide film.例文帳に追加

引張り弾性率が700kg/mm^2以下で、吸湿膨脹係数が20ppm以下であり、特定の繰り返し単位を必須の繰り返し単位として含むポリイミドフィルムを合成し、該ポリイミドフィルムを用いてフレキシブルプリント配線板用積層体をはじめとして各種電気・電子機器用基板を作成する。 - 特許庁

A positive resist composition comprises: (A) a polymer compound that includes a repeating unit (a1) producing an acid with a difluoromethyl sulfonate structure on a side chain in response to a high energy line and an acid-labile repeating unit (a2), and is changed in alkali solubility by an acid; and (B) a sulfonic acid onium salt represented by General Formula (2).例文帳に追加

(A)高エネルギー線に感応した結果、側鎖にスルホン酸ジフロロメチル構造の酸を発生する繰り返し単位(a1)と、酸不安定繰り返し単位(a2)とを有し、酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物、及び(B)下記一般式(2)で示されるスルホン酸オニウム塩を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The lithographic printing original plate has on a support an image forming layer containing a block polymer which comprises (a1) a block comprising a repeating unit having at least one hydrophilic functional group and (a2) a block comprising a repeating unit having at least one hydrophobic functional group.例文帳に追加

支持体上に、(a1)少なくとも一つの親水性官能基有する繰り返し単位からなるブロックと(a2)少なくとも一つの疎水性官能基を有する繰り返し単位からなるブロックからなるブロックポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版原版および該平版印刷版原版を用いる平版印刷方法。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition comprises an aliphatic dibasic acid ester compound represented by formula (1) (such as di-n-butyl adipate or diisobutyl adipate), an acid dissociating group-containing resin having a repeating unit represented by formula (2) and an acid dissociating group-containing repeating unit and a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

本発明の感放射線性樹脂組成物は、(A)下記一般式(1)で表される脂肪族二塩基酸エステル化合物(アジピン酸ジn−ブチル、アジピン酸ジイソブチル等)、(B)下記一般式(2)で表される繰り返し単位と、酸解離性基を含有する繰り返し単位と、を有する酸解離性基含有樹脂、及び(C)感放射線性酸発生剤を含有する。 - 特許庁

A fluorine-containing copolymer comprising 1-99 mol% of repeating unit shown by formula I and 99-1 mol% of repeating unit shown by the general formula -Q- (Q is a bifunctional organic group) and having 1,000-1,000,000 of molecular weight (styrene-converted number-average molecular weight measured by gel permeation chromatography).例文帳に追加

で表される繰り返し単位1〜99モル%と一般式−Q−(式中、Qは二価の有機基を表す)で表される繰り返し単位99〜1モル%とからなる分子量1,000〜1,000,000(ゲルパーミュエーションクロマトグラフィで測定したスチレン換算数平均分子量)の含フッ素共重合体。 - 特許庁

An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific monoalicyclic structure and whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid and (B) a compound having a specific structure which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

(A)特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定の単環脂環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(C)溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resin composition (Y) contains 100-900 parts by weight of a thermoplastic resin (P5) comprising a repeating unit different from that of an olefinic resin (P4) per 100 parts by weight of an olefinic resin (P4) having a solubility parameter (SP value) of 8.45-8.70 and containing no repeating unit derived from an aromatic vinyl compound.例文帳に追加

樹脂組成物(Y):溶解性パラメータ(SP値)が8.45〜8.70であり、かつポリマー中に芳香族ビニル化合物から誘導される繰り返し単位を含まないオレフィン系樹脂(P4)100重量部に対し、(P4)の繰り返し単位と異なる繰り返し単位からなる熱可塑性樹脂(P5)を100〜900重量部含む樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and a specified repeating unit derived from a vinyl ether and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

(A)α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位及びビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure which generates an acid by the irradiation with active light or radiation and a polymer having a repeating structural unit of a specific structure, a repeating structural unit of a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物、特定の構造の繰り返し構造単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The sulfonated copolymer comprising (a) at least one aromatic ether repeating unit and (b) an aromatic ether repeating unit comprising a sulfonic acid group or a sulfonate group and having a polymerizable unsaturated functional group at one end or both ends thereof, and can remarkably reduce methanol crossover, maintaining superior dimensional stability and ionic conductivity by reducing swelling.例文帳に追加

本発明は、(a)1種以上の芳香族エーテル反復単位と、(b)スルホン酸基またはスルホン酸塩基含有芳香族エーテル反復単位とを含み、一末端または両末端が重合性不飽和官能基を含むことにより、スウェリングを減らし、メタノールクロスオーバーを顕著に減少させ、寸法安定性に優れ、かつイオン伝導度を高く維持させうる架橋官能基を含むスルホン化共重合体である。 - 特許庁

The polymer has a specific repeating structural unit represented by general formula (1) and having in the side chain at least one selected from a sulfonic acid, a sulfonic acid ester and a sulfonic acid salt, and a specific repeating structural unit represented by general formula (2) and having in the side chain at least one selected from a carboxylic acid, a carboxylic acid ester and a carboxylic acid salt as a copolymerized composition.例文帳に追加

一般式(1)で表される側鎖にスルホン酸、スルホン酸エステルおよびスルホン酸塩から選ばれる少なくとも1種を有する繰り返し単位構造と、一般式(2)で表される側鎖にカルボン酸、カルボン酸エステル及びカルボン酸塩から選ばれる少なくとも1種を有する繰り返し単位構造とを、共重合組成物として含有することを特徴とする高分子化合物。 - 特許庁

The laminated porous film is produced by laminating heat resistant resin layer on a porous film formed from a polyolefin resin containing an ethylene-α-olefin copolymer composed of a constitutional repeating unit derived from ethylene and a constitutional repeating unit derived from at least one monomer selected from 4-10C α-olefins and has a shutdown temperature of 125°C or below and a thermal breaking temperature of at least 155°C.例文帳に追加

エチレンから誘導される構成単位と、炭素原子数4〜10のα−オレフィンから選択される1種以上のモノマーから誘導される構成単位とからなるエチレン・α−オレフィン共重合体を含むポリオレフィン系樹脂から形成される多孔性フィルムに耐熱樹脂層が積層されてなり、シャットダウン温度が125℃以下であり、熱破膜温度が155℃以上である積層多孔性フィルム。 - 特許庁

The method for producing the polycarbonatediol copolymer including a repeating unit represented by formula (1) and a repeating unit represented by formula (2), in which both ends of a main chain are hydroxy groups, comprises bringing a dialkyl carbonate and glycols into an ester exchange reaction at 90-170°C, wherein at least part of the ester exchange reaction is performed under reduced pressure.例文帳に追加

炭酸ジアルキルとグリコール類とを、90〜170℃でエステル交換反応させ、該エステル交換反応の少なくとも一部を減圧下で行う、下記式(1)で表される繰り返し単位と下記式(2)で表される繰り返し単位を有し、主鎖の両末端が水酸基であるポリカーボネートジオール共重合体の製造方法である。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.例文帳に追加

特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a doped electrically conductive polymeric film comprises coating a solution containing an electrically conductive polymer composed of a repeating unit having a ≥4C substituent and a dopant selected from salts capable of oxidizing the polymer at a molar ratio of the dopant to the repeating unit of 2:1 to 1:3 on a substrate, and then, removing the solvent.例文帳に追加

炭素数4以上の置換基を有する繰返し単位からなる導電性高分子と、これを酸化し得る塩から選ばれたドーパントを含み、かつ該繰返し単位に対する該ドーパントのモル比が2:1〜1:3である溶液を、基体に塗布したのち溶媒を除去することを特徴とする、ドープされた導電性高分子薄膜の製造方法。 - 特許庁

This polymer solid electrolyte is characterized by containing a copolymer having an ion conductive part and a repeating unit derived from conjugated diene, and an electrolyte salt, and is characterized by that the copolymer having the ion conductive part and the repeating unit derived from conjugated diene is a conjugated diene-based copolymer having the ion conductivity in a graft chain.例文帳に追加

イオン導電性部位及び共役ジエンより誘導される繰り返し単位を有する共重合体及び電解質塩を含むことを特徴とする高分子固体電解質であり、さらにイオン導電性部位及び共役ジエンより誘導される繰り返し単位を有する共重合体が、イオン導電性部位をグラフト鎖に有する共役ジエン系共重合体であることを特徴とする。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has a charge transporting layer as a surface layer having a matrix-domain structure, which is composed of a matrix containing a component β (a polyester resin D having a specified repeating structural unit) and a charge transporting substance, and a domain containing a component α (a polycarbonate resin A having a repeating structural unit containing a specified siloxane moiety).例文帳に追加

電子写真感光体の表面層である電荷輸送層が、成分β(特定の繰り返し構造単位を有するポリエステル樹脂D)、および電荷輸送物質を含むマトリックスと、成分α(特定のシロキサン部位を含む繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂A)を含むドメインとで構成されているマトリックス−ドメイン構造を有する。 - 特許庁

The method for producing a copolymer for a photoresist is a method for producing a copolymer for a photoresist including a repeating unit having a lactone structure and a repeating unit having an acidic group, which method includes a storage step wherein the copolymer is kept in a solution state by means of a solvent containing no hydroxy group.例文帳に追加

本発明によるフォトレジスト用共重合体の製造方法は、ラクトン構造を有する繰り返し単位および酸性基を有する繰り返し単位を含むフォトレジスト用共重合体の製造方法であって、前記共重合体をヒドロキシ基非含有溶媒によって溶液状態に保つことを含む保存工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁

This high heat-resistance polycarbonate film or sheet for the flexible printed circuit boards contains at least one repeating unit [1] having an adamantine skeleton of formula [1] and at least one repeating unit [2] of formula [2].例文帳に追加

2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン化合物もしくはその誘導体に由来する繰り返し単位[1]と各種二価フェノール類に由来する繰り返し単位[2]を含有し、繰り返し単位[1]の含有割合が全繰り返し単位に対してモル比で0.5〜0.95の範囲にあるポリカーボネート共重合体を用いてフレキシブルプリント基板用のフィルムもしくはシートにする。 - 特許庁

The block polymer compound has at least two or more block segments wherein at least one block segment contains a repeating unit having a polycyclic aromatic carboxylic acid or carboxylic acid derivative on a side chain, and a repeating unit having a monocyclic aromatic or aliphatic carboxylic acid or carboxylic acid derivative.例文帳に追加

少なくとも2つ以上のブロックセグメントを有するブロックポリマーであって、該ブロックポリマーの少なくとも1つのブロックセグメントが、側鎖に多環芳香族からなるカルボン酸またはカルボン酸誘導体を有する繰り返し単位と、単環芳香族または脂肪族からなるカルボン酸またはカルボン酸誘導体を有する繰り返し単位とを含有するブロックポリマー化合物。 - 特許庁

The photoresist composition contains a resin (A) which contains a repeating unit having a specific partial structural and a repeating unit expressed by a specific structure and the solubility of which in an alkali developer increases by the action of an acid and a compound (B) generating the acid by active ray or radioactive ray irradiation.例文帳に追加

(A)特定の部分構造を有する繰り返し単位と、特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The composition forming an antireflective light absorbing film comprises a polymer having a (meth)acrylate repeating unit, a diazoquinone type light absorbing group bonded chemically to the repeating unit, a photoacid generator, a crosslinking agent which crosslinks the polymer under heat and is decrosslinked from the crosslinked polymer by an acid and a catalyst for promoting the crosslinking reaction of the polymer.例文帳に追加

(メタ)アクリレート反復単位を有するポリマーと、前記反復単位に化学的に結合されているジアゾキノン系の光吸収基と、光酸発生剤と、熱によって前記ポリマーを架橋させ、酸により架橋されたポリマーから脱架橋される架橋剤と、前記ポリマーの架橋反応を促進させるための触媒とを含む反射防止用光吸収膜形成組成物。 - 特許庁

In this manufacturing method of a hygroscopic resin, a water-soluble high molecular weight compound in which not lower than 50 mol% of its repeating unit in the polymer molecular chain comprises a repeating unit containing ammonium carboxylic acid is used, and its 1-70 wt% solution is gelled by irradiation, then dried and granulated.例文帳に追加

ポリマー分子鎖中における繰り返し単位の50mol%以上がカンルボン酸アンモニウム塩含有繰り返し単位からなる水溶性高分子量化合物を用い、その水溶性高分子量化合物の1〜70重量%溶液に放射線照射によりゲル化させた後に、乾燥し、造粒することを特徴とする吸水性樹脂の製造方法。 - 特許庁

The invention relates to the OH modified polybenzimidazole resin comprising a polybenzimidazole resin composed of benzimidazole as a repeating unit and modified by OH, wherein at least a part of nitrogen atoms in the imidazole ring of the repeating unit is bonded with a non-halogen hydroxy group-containing modification group through an amide bonding, and the modified resin contains ≥1.0 mgKOH/g of hydroxyl value.例文帳に追加

ベンゾイミダゾール繰り返し単位からなるポリベンゾイミダゾール樹脂をOH変性してなるOH変性ポリベンゾイミダゾール樹脂であって、該繰り返し単位におけるイミダゾール環中の窒素原子の少なくとも一部には、アミド結合を介して非ハロゲン系の水酸基含有変性基が結合しており、且つ1.0mgKOH/g以上の水酸基価を有している。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(B)下記の一般式(X)で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Wherein (a) is a methacrylate, (b) is a repeating unit derived from a monomer having at least two (meth)acryloyl groups, (c) is a repeating unit derived from a monomer containing at least one polar functional group selected from a group consisting of carboxy, hydroxy, amide, epoxy, oxetanyl, amino, aldehyde and isocyanate, and containing olefinic double bond.例文帳に追加

(a):(メタ)アクリル酸エステル(b):分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2個含有するモノマー(c):カルボキシル基、水酸基、アミド基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、アルデヒド基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも一つの極性官能基と、一つのオレフィン性二重結合とを分子内に含有するモノマー - 特許庁

The vertical alignment type liquid crystal aligning agent contains a polymer comprising at least one of an amic acid repeating unit and an imide repeating unit, and at least one epoxy-containing compound selected from the group consisting of compounds containing at least two epoxy groups within a molecule in the proportion of 1-50 pts.wt. of the epoxy-containing compound to 100 pts.wt. of the polymer.例文帳に追加

アミック酸繰返し単位およびイミド繰返し単位の少なくとも一方の繰返し単位からなる重合体と、分子内に少なくとも2つのエポキシ基を含有する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種のエポキシ含有化合物を、上記重合体100重量部に対して上記エポキシ含有化合物を1〜50重量部の割合で、含有する垂直配向型液晶配向剤。 - 特許庁

The aromatic polycarbonate resin is an aromatic polycarbonate copolymer composed of (A) a repeating unit derived from a specific fluorene-based bisphenol and (B) a repeating unit expressed by general formula [2] at an A/B molar ratio of 5:95 to 95:5 and containing sulfur compounds in an amount of10 ppm in terms of sulfur atom.例文帳に追加

特定のフルオレン系ビスフェノールから誘導される繰り返し単位(A)及び下記一般式〔2〕で表される繰り返し単位(B)よりなり、(A):(B)=5:95〜95:5(モル比)の範囲である芳香族ポリカーボネート共重合体であって、硫黄化合物の含有量が硫黄原子として10ppm以下である芳香族ポリカーボネート樹脂。 - 特許庁

The positive resist material contains (as a base resin) a high polymer with the weight-average molecular weight 1,000-500,000 which at least contains a repeating unit a having a group represented by the following general formula (1), and a repeating unit b which is a carboxyl group with the hydrogen atom substituted by an acid labile group.例文帳に追加

少なくとも、下記一般式(1)で示される基を有する繰り返し単位aと、カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位bとを含む、重量平均分子量が1,000〜500,000の高分子化合物をベース樹脂として含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has a charge transporting layer as a surface layer having a matrix-domain structure, which is composed of a matrix containing a component β (a polycarbonate resin D having a specified repeating structural unit) and a charge transporting substance, and a domain containing a component α (a polycarbonate resin A having a repeating structural unit containing a specified siloxane moiety).例文帳に追加

電子写真感光体の表面層である電荷輸送層が、成分β(特定の繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂D)、および電荷輸送物質を含むマトリックスと、成分α(特定のシロキサン部位を含む繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂A)を含むドメインとで構成されているマトリックス−ドメイン構造を有する。 - 特許庁

The intermediate layer contains a copolymer comprising a repeating unit based on at least one kind of monomer selected from a group of styrene and a styrene derivative and a repeating unit based on at least one kind of monomer selected from a group of acrylic acid, an acrylic ester, an acrylic derivative, methacrylic acid, a methacrylic ester and a methacrylic acid derivative.例文帳に追加

中間層は、スチレン及びスチレン誘導体からなる群から選択される少なくとも1種のモノマーに基づく繰り返し単位と、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸誘導体、メタクリル酸、メタクリル酸エステル及びメタクリル酸誘導体からなる群から選択される少なくとも1種のモノマーに基づく繰り返し単位とを含む共重合体を含有している。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains at least a fluorine-containing compound, an initiator and an ethylenically unsaturated compound, wherein the fluorine-containing compound comprises a compound (1) containing (a) a repeating unit having at least one trifluoromethyl group and seven or more fluorine atoms in total and (b) a repeating unit having an alkoxysilyl group.例文帳に追加

含フッ素化合物と、開始剤と、エチレン性不飽和化合物とを少なくとも含む感光性樹脂組成物において、前記含フッ素化合物を(1)(a)少なくとも1つのトリフルオロメチル基を有し、フッ素原子の総数が7つ以上である繰り返し単位と、(b)アルコキシシリル基を有する繰り返し単位とを含む含フッ素化合物とする。 - 特許庁

This block copolymer has at least one of block into which acid radicals are introduced and at least one of another block into which the acid radicals are not substantially introduced, wherein one of terminal radicals of a repeating unit in at least one block of all the blocks comprises oxygen and/or sulfur, and at least one of the repeating unit of the block into which the acid radicals are not substantially introduced contains halogen atoms.例文帳に追加

(1)酸基が導入されたブロックおよび酸基が実質的に導入されていないブロックをそれぞれ一つ以上有し、全てのブロックのうちの少なくとも一つのブロックにおける繰返し単位の一方の末端基が、酸素及び/又は硫黄であって、かつ酸基が実質的に導入されていないブロックの繰り返し単位の少なくとも一つが、ハロゲン原子を含むことを特徴とするブロック共重合体。 - 特許庁

The graft copolymer preferably comprises a unit derived from a polymerizable oligomer having an ethylenic unsaturated double bond at the terminal and a unit derived from a monomer having a repeating unit containing the urea group and/or urethane group as units of the copolymer.例文帳に追加

グラフト共重合体が、末端にエチレン性不飽和二重結合を有する重合性オリゴマー由来の単位と、ウレア基及び/又はウレタン基を含有する繰り返し単位を有するモノマー由来の単位とを共重合体単位として含む様態が好ましい。 - 特許庁

The desirable copolymer contains three distinctly distinguishable repeating units, namely, a unit containing an acid active group, a unit having no reactive part nor hydroxyl part and a unit contributing to the aqueous development of the photoresist which contains the copolymer as a resin binder.例文帳に追加

本発明の好ましい共重合体は、三つの明確に区別しうる繰り返し単位:即ち、(1)酸活性基を含有する単位、(2)反応性部分及びヒドロキシ部分を含有しない単位、及び(3)樹脂バインダとして該共重合体を含有するフォトレジストの水性現像に寄与する単位を含むものである。 - 特許庁

LEN data defining a unit pulse pattern length, loop data defining the number of repetitions of a unit pulse, RETURN data for repeating the unit pulse pattern and driving pulse data representing a level of a driving pulse are stored in a memory 2.例文帳に追加

メモリ2中に単位パルスパターン長を規定するLENデータと、単位パルスの繰り返し数を規定するループデータと、単位パルスパターンを繰り返させるRETURNデータと駆動パルスのレベルを表す駆動パルスデータを格納する。 - 特許庁

The CPU6a equalizes the voltage across unit cells B_1-B_4... by controlling switches 2 and 4, when it is decided that the voltage in an equilibrium state and by repeating the shift of charge from the maximum unit cell B_max to the minimum unit cell B_min for a certain time.例文帳に追加

CPU6aは、平衡状態であると判断したとき、スイッチ郡2及び4を制御して、一定時間、最大単位セルB_maxから最小単位セルB_minへの電荷の移動を繰り返すことにより、単位セルB_1〜B_4…の両端電圧を均等化する。 - 特許庁

例文

In a compression unit 121 in a secondary compression/expansion unit 120, a block repeating information generator 122 generates information of the repeated number of times of primary compressed data of the same value in a section where the primary compressed data (GTBC codes) of the same value continue, and a coding unit 123 codes the information.例文帳に追加

2次圧縮/伸長部120内の圧縮部121において、ブロック繰り返し情報生成部122は、同一値の1次圧縮データ(GTBCコード)が連続する区間で、同一値の1次圧縮データの繰り返し回数の情報を生成し、これを符号化部123で符号化する。 - 特許庁

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