| 意味 | 例文 |
second layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
The semiconductor laser element is constituted by forming a pair of laminated structures each of which is composed of a first-conductivity clad layer and an active layer and has a triangular cross section on a mask layer having selectively formed openings and second-conductivity clad layers on the structures.例文帳に追加
よって、本発明は、特にGaN系半導体を用い、傾斜結晶層を有する半導体素子でレーザー発振を実現する素子構造を提供することを目的とする。 - 特許庁
The band gap of a first single crystalline semiconductor layer a base region is fixed in an area near a junction with a second single crystalline semiconductor layer of an emitter region, and reduces toward a junction with a third single crystalline semiconductor layer of a collector region.例文帳に追加
本願発明の一例は、ベース領域のバンドギャップが、エミッタ、コレクタのバンドギャップより小さく、かつエミッタとの接合部近傍で一定で、コレクタとの接合部に向かって減少する分布を有する。 - 特許庁
The second insulating layer 6 is formed to touch the first wiring layer 5 internally and provided, at the part touching internally, with a plurality of openings 6a of smaller diameter that of the opening 4a in the first insulating layer 4.例文帳に追加
第2の絶縁層6は、第1の配線層5と内接するように形成され、内接部に第1の絶縁層4の開口4aよりも小径の複数の開口6aを有している。 - 特許庁
Afterwards, the first process and the second process are successively performed upward from a layer just above the lowest layer of the face 3, and these processes are successively repeated stepwise up to reaching the uppermost layer.例文帳に追加
この後、切羽面3の最下層の直上の層から上方に向かって順に上述する第1の工程及び第2の工程を実施し、最上層に至るまでこれを段階的に順次繰り返す。 - 特許庁
Resin for structuring the adhesion layer 22 is resolved and removed by ashing using plasma P, and a fixing layer is formed on the electronic device 14, a surface of a protective layer 15, and the surface of the second substrate 21.例文帳に追加
プラズマPを用いたアッシングにより、粘着層22を構成する樹脂を分解して除去し、電子デバイス14および保護層15の表面と第2基板21の表面とに固定層を形成する。 - 特許庁
The second light transparent layer 15 is stuck onto the light emitting element 13 and a top surface of the first light transparent layer 14, and has a refractive index larger than that of the first light transparent layer 14.例文帳に追加
第2の透光性層15は、発光素子13および第1の透光性層14の上面に付着されており、第1の透光性層14より大きい屈折率を有している。 - 特許庁
The dielectric layer is patterned, the first electric conductive layer of the region is exposed where a third fuse element (F3) is arranged, while leaving a dielectric layer (4i) in the region where a second fuse element (F2) is arranged.例文帳に追加
誘電体層をパターニングし、第2ヒューズ素子(F2)が配置される領域に誘電体層(4i)を残すと共に、第3ヒューズ素子(F3)が配置される領域の第1導電層を露出させる。 - 特許庁
After the thin film pattern 14b of the second layer and the thin film pattern 14c of the third layer are joined to each other, when an upper stage 21 is raised, the thin film patter 14c of the third layer causes plastic deformation.例文帳に追加
2枚目の薄膜パターン14bと3枚目の薄膜パターン14cとを接合した後、上部ステージ21を上昇させると、3枚目の薄膜パターン14cが塑性変形を起こす。 - 特許庁
A first electrode layer 3, an optical multilayer film 5 and a second electrode layer 7 are successively laminated on a transparent film 1 and a plurality of air gaps 9 is provided between the layer 3 and the film 5.例文帳に追加
透明フィルム1の上に第1の電極層3、光学多層膜5、第2の電極層7を順に積層し、第1の電極層3と光学多層膜5との間に複数のエアギャップ9を設ける。 - 特許庁
The average molar concentration of the group III element in the first semiconductor layer near the second semiconductor layer is smaller than that in the first semiconductor layer.例文帳に追加
そして、前記第1の半導体層は、該第1の半導体層における前記III族元素の平均モル濃度よりも前記第2の半導体層の近傍における前記III族元素のモル濃度の方が小さい。 - 特許庁
A semiconductor device includes a first wiring layer including the signal wiring line, and a second wiring layer stacked on the first wiring layer and including the power-supply plane or the ground plane formed.例文帳に追加
半導体装置は、信号配線が設けられた第1の配線層と、この第1の配線層に絶縁層を介して積層され、電源プレーン又はグランドプレーンが設けられた第2の配線層とを備える。 - 特許庁
Thereby grooves 13a having widths smaller than the laser spot diameter on a surface of the second resist layer 14 is formed on the mask layer 13 and the laser beams L passed through the grooves 13a expose the first resist layer 12.例文帳に追加
これにより、マスク層13に第二レジスト層14表面におけるレーザスポット径よりも小さい幅の溝13aが形成され、その溝13aを通ったレーザ光Lが第一レジスト層12を露光する。 - 特許庁
The sampling filter 7 is formed into a two-layered structure consisting of a first porous layer 71 containing extremely fine fibers and the second porous layer 72 covering the outside of the first porous layer 71 containing a carbon material.例文帳に追加
採取用フイルター7は、極細繊維を含む多孔質の第1層71と、その外側に積層された、炭素材を含む多孔質の第2層72とを備えた2層構造に形成されている。 - 特許庁
The energization heating wire (TaBN wire 20) has a first layer 21 made from a tantalum nitride wire and a second layer 22 which coats a surface of the first layer 21 and is made from boride, for instance.例文帳に追加
本発明に係る通電加熱線(TaBN線20)は、窒化タンタル線からなる第1の層21と、第1の層21の表面を被覆し、例えばホウ化物からなる第2の層22を有する。 - 特許庁
The method of manufacturing the light emitting element includes a step of forming the nano-structure on a surface of the substrate; and a step of forming thereon a first conductive semiconductor layer, active layer, and a second conductive semiconductor layer.例文帳に追加
発光素子の製造方法は、基板表面にナノ構造体を形成し、その上に第1導電性半導体層、活性層、及び第2導電性半導体層を形成する段階を含む。 - 特許庁
A p-AlGaAs first upper cladding layer 108 having a doping concentration of 1×10^18 cm^-3 is formed between the p-AlGaAs second upper cladding layer 109 and a multiple strained quantum well active layer 106.例文帳に追加
p-AlGaAs第2上クラッド層109と多重歪量子井戸活性層106との間に、ドーピング濃度が1×10^18cm^-3のp-AlGaAs第1上クラッド層108を形成する。 - 特許庁
The first source/drain region includes a first n-type impurity layer and a second n-type impurity layer having an impurity concentration higher and a depth shallower than those of the first n-type impurity layer.例文帳に追加
そして、第1のソース・ドレイン領域が、第1のn型不純物層と、第1のn型不純物層よりも不純物濃度が高く深さの浅い第2のn型不純物層を備えている。 - 特許庁
The electrodes 31, 32, 33 comprise a first metal layer 1 formed on the piezoelectric substrate 11 and a second metal layer 2 mainly containing aluminum, formed on the first metal layer 1.例文帳に追加
上記すだれ電極部31、32、33は、圧電基板11上に成膜された第一金属層1と、第一金属層1上に成膜された、アルミニウムを主とする第二金属層2とを備える。 - 特許庁
The first III-V compound semiconductor layer 33 is GaAs, the second III-V compound semiconductor layer 35 is GaInNAs, and the third III-V compound semiconductor layer 37 is GaAs.例文帳に追加
第1のIII−V化合物半導体層33はGaAsであり、第2のIII−V化合物半導体層35はGaInNAsであり、第3のIII−V化合物半導体層37はGaAsである。 - 特許庁
A second polysilicon layer 109 which serves as a floating gate electrode with first polysilicon layer 103 is formed on the element isolation region 108 of the first polysilicon layer 103 and the STI structure.例文帳に追加
第1ポリシリコン層103及びSTI構造の素子分離領域108上には、第1ポリシリコン層103と共に浮遊ゲート電極となる第2ポリシリコン層109が形成されている。 - 特許庁
The diode 4 is an oxide semiconductor of two layer structure film having a first layer mainly containing a zinc oxide formed by the low temperature oxidation of the copper-zinc alloy, and a second layer which is mainly a copper oxide.例文帳に追加
ダイオード4は、銅−亜鉛合金を低温酸化して、形成された亜鉛酸化物を主とする第一層と銅酸化物を主とする第二層とを備えた二層構造膜の酸化物半導体である。 - 特許庁
An acid denaturation polyolefin-based resin layer and a heat-fusing polyolefin-based resin layer are formed on a first surface of stainless steel foil, and a urethane resin layer containing polyethylene-fluoroplastic resin particles is formed on a second surface.例文帳に追加
ステンレス鋼箔の第1の面に酸変性ポリオレフィン系樹脂層および熱融着性ポリオレフィン系樹脂層を形成し、第2の面にポリエチレン−フッ素樹脂粒子を含むウレタン樹脂層を形成する。 - 特許庁
A portion formed on an auxiliary electrode 14 of the first organic layer 16A and a second organic layer 16B is removed selectively by irradiating a laser beam LB on a first organic layer 16A.例文帳に追加
第1の有機層16Aにレーザ光LBを照射することにより、第1の有機層16Aと第2の有機層16Bとの補助電極14上に形成された部分を選択的に除去する。 - 特許庁
The semiconductor laser element has a lamination structure constituted by laminating a first cladding layer 103, an active layer 104 and a second cladding layer 105 on a semiconductor substrate 101, in this order from the side nearest the semiconductor substrate 101.例文帳に追加
半導体レーザ素子は、半導体基板(101)上に、半導体基板(101)に近い側から順に、第1のクラッド層(103)、活性層(104)、及び第2のクラッド層(105)が積層されてなる積層構造を有する。 - 特許庁
The second nickel layer 30 is formed on the surface of the first nickel layer 20 activated by acid cleaning so as to have a layer thickness of 1.0 μm to 8.0 μm according to an electroless plating.例文帳に追加
第2のニッケル層30は、酸洗によって活性化された第1のニッケル層20の表面上に、無電解メッキ法によって1.0μmから8.0μmの層厚を有するように形成されている。 - 特許庁
Or, a second dielectric layer is applied on a first dielectric layer containing a pigment to form a space between the dielectric layer and a multistylus, and the pigment used consists of alumina- containing fine particles.例文帳に追加
或いは誘電層と多針電極との間に空隙を形成するための顔料を含む第1の誘電層の上に第2の誘電層を設け、その顔料としてアルミナ含有微粒子を用いる。 - 特許庁
A second electron supply layer 7 is formed by selectively growing a semiconductor on a portion of the first electron supply layer 4 which is not covered with the semiconductor growth stopping mask layer 6.例文帳に追加
第1の電子供給層4の半導体成長阻止マスク層6で覆われていない部分の上に半導体を選択成長させることによって第2の電子供給層7を形成する。 - 特許庁
A seal layer 121 of the film 12 of the second layer adjoins the polypropylene spun bonded nonwoven fabric 11 of the first layer and contains an ethylene-α-olefin copolymer having a density of 0.870 to 0.915.例文帳に追加
第二層のフィルム12のシール層121は、第一層のポリプロピレンスパンボンド不織布11に隣接しており、密度0.870以上、0.915以下のエチレン−α−オレフィン共重合体を含有する。 - 特許庁
The second laminate of present invention comprises another 4-methyl-1-pentene copolymer layer, the 4-methyl-1-pentene copolymer layer the before and the substrate paper layer laminated in this order.例文帳に追加
本発明の第2の積層体は、4−メチル−1−ペンテン系重合体層と前記4−メチル−1−ペンテン系共重合体層と基材紙層とがこの順に積層してなることを特徴とする。 - 特許庁
The backing material has a first outer layer containing a specific thermoplastic polymer, a specific inner layer containing a specific elastic polymer, and a second outer layer containing a specific thermoplastic polymer.例文帳に追加
上記の支持材料は一定の熱可塑性ポリマーを含む第1の外側層、一定の弾性ポリマーを含む一定の内側層、および一定の熱可塑性ポリマーを含む第2の外側層を有している。 - 特許庁
The source electrode 16A and the drain electrode 16B are formed so that a first metal layer 161, a second metal layer 162 and a third metal layer 163 are stacked from the side of the oxide semiconductor film 14.例文帳に追加
ソース電極16Aおよびドレイン電極16Bは、酸化物半導体膜14の側から第1金属層161、第2金属層162および第3金属層163が順に積層してなる。 - 特許庁
The organic photoelectric conversion device which includes an organic layer having a light emitting layer, and an inorganic layer comprising alkali metal oxide or alkaline-earth metal oxide, is provided between a first electrode and a second electrode.例文帳に追加
第1電極と前記第2電極との間に、発光層を含む有機層と、アルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物からなる無機層とを含む有機光電変換素子を採用する。 - 特許庁
The fuel cell gas diffusion layer comprises a hydrophilic surface layer having a thickness of 1 micron or less, and, thereunder, a hydrophobic second layer comprising a fluoropolymer having a thickness of at least 5 microns.例文帳に追加
1ミクロン以下の厚さを有する親水性表面層、および、その下に、少なくとも5ミクロンの厚さを有するフルオロポリマーを含んでなる疎水性の第2の層を含んでなる燃料電池ガス拡散層。 - 特許庁
The second adhesive layer 6 is formed of a material having a storage modulus larger than that of the third adhesive layer 7, and the elliptically polarizing plate is stuck, in the third adhesive layer side, to at least one surface of a liquid crystal cell.例文帳に追加
この際、第二の粘着層6は、第三の粘着層7よりも貯蔵弾性率が大きいもので構成し、第三の粘着層側で液晶セルの少なくとも片面に貼着される。 - 特許庁
After the hard mask layer is removed, a ferromagnetic body is deposited in the first and second grooves by a plating method to form the main magnetic pole and main magnetic pole auxiliary layer together at a time, and then the main magnetic pole layer is flattened by CMP.例文帳に追加
ハードマスク層を除去した後、めっき法にて第1と第2の溝に強磁性体を堆積させて主磁極と主磁極補助層を一括して形成した後、CMPにて、主磁極層を平坦化する。 - 特許庁
In the printed wiring board, the conductor circuit is composed of two or more kinds of metal layer parts, and at least the width of a second metal part on an inner layer side is larger than the width of a first metal part on an outer layer side.例文帳に追加
導体回路が2種類以上の金属層部からなり、かつ少なくとも外層側の第1金属部の幅より内層側の第2金属部の幅の方が大きくなっているプリント配線板。 - 特許庁
Moreover, the thickness of the second metal layer 5 is 20% of that of the first metal layer 3 or larger, and they are provided with a resin sealant that encloses at least the heating element and the first metal layer 3.例文帳に追加
さらに、第2金属層5の厚みが第1金属層3の厚みの20%以上であり、少なくとも前記発熱素子及び第1金属層を取り囲む樹脂封止体を備えている。 - 特許庁
The thickness T3 of a first insulating layer which is formed on a side end face 22a of a laminate 22 is formed thinner than a film thickness T4 of a second insulating layer 26 formed on a lower shield layer 20.例文帳に追加
積層体22の側端面22a上に形成される第1の絶縁層の厚みT3を、下部シールド層20上に形成される第2の絶縁層26の膜厚T4より薄く形成する。 - 特許庁
This medium has a first protection layer 13A formed by using an inorganic material as a raw material and a second protection layer 13B formed by using an organic material as a raw material in order on a magnetic layer 12.例文帳に追加
磁性層12の上に、原料に無機材料を用いて形成された第1の保護層13Aと、原料に有機材料を用いて形成された第2の保護層13Bとを順に有する。 - 特許庁
An upper magnetic layer 13 constituting a magnetic core is formed by being divided into a first magnetic layer 20 positioned in the vicinity of a magnetic gap G and a second magnetic layer 21 position directly above a coil 14.例文帳に追加
磁気コアを構成する上層磁性層13を、磁気ギャップG近傍に位置する第1の磁性層20と、コイル14の直上に位置する第2の磁性層21とに分割して形成する。 - 特許庁
The process for producing the electrode of an electrochemical capacitor comprises a first step (S11) for forming an undercoat layer on a collector having a roughened surface, and a second step (S13) for forming a polarizable electrode layer on the undercoat layer.例文帳に追加
表面が粗面化された集電体上にアンダーコート層を形成する第1の工程(S11)と、アンダーコート層上に分極性電極層を形成する第2の工程(S13)とを備える。 - 特許庁
A first insulation layer 21 is provided on the first substrate 13 of the first laminate substrate 11, and a second insulation layer 22 is provided on the first composite layer 12 of the first laminate substrate.例文帳に追加
第1積層基材11の第1基材13上には第1絶縁層21が設け、第1積層基材の第1複合層12の第1複合層12上には第2絶縁層22が設ける。 - 特許庁
The second rolled polarizing plate 71' is a long-sized polarizing plate obtained by laminating a stretched antiglare film 34 having an acrylic resin as a base material, a second polarizing film 31, a second cellulose resin film 33, a second adhesive layer 37, and a second release film 90 in this order.例文帳に追加
第2のロール状偏光板71´は、延伸されたアクリル系樹脂を基材とした防眩性フィルム34と、第2の偏光フィルム31と、第2のセルロース系樹脂フィルム33と、第2の粘着剤層37と、第2の離型フィルム90と、をこの順に積層してなる長尺の偏光板である。 - 特許庁
In an element 101 having first and second conductivity type layers 1 and 2 sandwiching an emission layer 3, a light emitting structure sandwiched by electrodes provided on the first and second conductivity type layers has first and second light emitting structures wherein the second light emitting structure has a region partially sandwiched by first and second electrodes.例文帳に追加
第1,2導電型層1,2とその間に発光層3を有する素子101において、該第1、2導電型層に設けられた電極ではさまれた発光構造部が、第1と2を有し、第二発光構造部は、一部だけ第1、2電極ではさまれた領域を有する。 - 特許庁
The second rolled polarizing plate 71' is a long-sized polarizing plate obtained by laminating an antiglare film 34, a second polarizing film 31, a second transparent protective film 33 made of a cellulose resin composition, a second adhesive layer 37, and a second release film 90 in this order.例文帳に追加
第2のロール状偏光板71´は、防眩性フィルム34と、第2の偏光フィルム31と、セルロース系樹脂組成物からなる第2の透明保護フィルム33と、第2の粘着剤層37と、第2の離型フィルム90と、をこの順に積層してなる長尺の偏光板である。 - 特許庁
The second rolled polarizing plate 71' is a long-sized polarizing plate obtained by laminating an antiglare film 34, a second polarizing film 31, a second inner protective film 33 made of the acrylic resin composition, a second adhesive layer 37, and a second release film 90 in this order.例文帳に追加
第2のロール状偏光板71´は、防眩性フィルム34と、第2の偏光フィルム31と、上記アクリル系樹脂組成物からなる第2の内側保護フィルム33と、第2の粘着剤層37と、第2の離型フィルム90と、をこの順に積層してなる長尺の偏光板である。 - 特許庁
The p-type MIS transistor has a second gate electrode 14B formed on a second active region 11B, a second side wall 15B formed on a side of the second gate electrode 14B and a distortion generation layer 21 formed on the second active region 11B.例文帳に追加
p型MISトランジスタは、第2の活性領域11Bの上に形成された第2のゲート電極14Bと、第2のゲート電極14Bの側面上に形成された第2のサイドウォール15Bと、第2の活性領域11Bに形成された歪み生成層21とを有している。 - 特許庁
The second rolled polarizing plate 71' is a long-sized polarizing plate obtained by laminating a stretched antiglare film 34 having an acrylic resin as a base material, a second polarizing film 31, a second non-oriented film 33, a second adhesive layer 37, and a second release film 90 in this order.例文帳に追加
第2のロール状偏光板71´は、延伸されたアクリル系樹脂を基材とした防眩性フィルム34と、第2の偏光フィルム31と、第2の無配向性フィルム33と、第2の粘着剤層37と、第2の離型フィルム90と、をこの順に積層してなる長尺の偏光板である。 - 特許庁
The second rolled polarizing plate 71' is a long-sized polarizing plate having an antiglare film 34, a second polarizing film 31, a second biaxial retardation film 33 made of a cellulose resin composition, a second adhesive layer 37, and a second release film 90 laminated in this order.例文帳に追加
第2のロール状偏光板71´は、防眩性フィルム34と、第2の偏光フィルム31と、セルロース系樹脂組成物からなる第2の二軸性位相差フィルム33と、第2の粘着剤層37と、第2の離型フィルム90と、がこの順に積層された長尺の偏光板である。 - 特許庁
Each of the display elements 220b includes a light transmission layer 223b having a second main surface on at least a part of which a second relief structure is provided, and an arrangement of the second relief structure displays a second image as an image of a structural color when observed from a second direction under the above illumination condition.例文帳に追加
表示要素220bは、第2レリーフ構造が少なくとも一部に設けられた第2主面を有している光透過層223bを含み、第2レリーフ構造の配列は、上記照明条件のもとで第2方向から観察した場合に第2画像を構造色の像として表示する。 - 特許庁
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