「second step」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The head slide further includes a second groove, formed in the air inlet end of a first step surface, leaving both side parts of the first step surface.例文帳に追加

ヘッドスライダはさらに、第１ステップ面の両側部を残して該第１ステップ面の空気流入端部に形成された第２の溝を含んでいる。 - 特許庁

In the third step, the connected body 10 fabricated in the second step is cut at one portion to form a magnetic gap 11a.例文帳に追加

第３工程では、第２工程で製造されたコア片連結体１０の一部を切断することにより磁気ギャップ１１ａが形成される。 - 特許庁

The duration of optical radiation in the first step is 0.1-10 ms while the second step is 5 ms or longer.例文帳に追加

第１段階の光照射時間は０．１ミリセカンド以上１０ミリセカンド以下であり、第２段階の光照射時間は５ミリセカンド以上である。 - 特許庁

A semifinished product having a hollow hole and a diameter enlargement part is manufactured (first step) and the drawing is carried out centered on the trunk part of the semifinished product (second step).例文帳に追加

中空孔と拡径部を有する半完成品を製造しておき（第１ステップ）、該半完成品の胴部を中心に絞り上げる（第２ステップ）。 - 特許庁

A third etching step employs an etching method in which an etching rate to the first to third films is higher than that in the second etching step.例文帳に追加

第３のエッチング工程には、第１乃至第３の膜に対するエッチングレートが第２のエッチング工程よりも高いエッチング方法を採用する。 - 特許庁

A first decompression step is provided by an oil system oil discharge pump 36, and a second decompression step is provided by a decompression pump 38.例文帳に追加

１段目の減圧段はオイル系統排油ポンプ３６によって提供され、２段目の減圧段は減圧ポンプ３８によって提供される。 - 特許庁

Thereafter, the formation of an upper electrode layer and a second RTA treatment are effected (step S9-S11) and the ferroelectric capacitor is formed (step S12).例文帳に追加

その後、上部電極層の形成や第２のＲＴＡ処理を行い（ステップＳ９〜Ｓ１１）、強誘電体キャパシタを形成する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

The process for forming metal films comprises: an electroless plating step (step S52) including reduction reaction using a first plating tank; an electroless plating step (step S54) only by substitution reaction using a second plating tank; and an electroless plating step (step S56) only by substitution reaction using a third plating tank.例文帳に追加

金属膜を形成する工程は、第１めっき槽を用いた還元反応を含む無電解めっき工程（ステップＳ５２）と、第２めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５４）と、第３めっき槽を用いた置換反応のみによる無電解めっき工程（ステップＳ５６）を含む。 - 特許庁

In the second molding step a third die 2 is enclosed in the second die 7, and the other material is formed on the molding held on the second die 7.例文帳に追加

第２の成形工程において、第２の金型７に第３の金型２を型閉じして第２の金型７に保持された前記成形体上に別の材料を成形する。 - 特許庁

Until a drawdown amount A is <20 mm, make-up feed (step S10) and a first sequence (step S4) are repeated, and when the drawdown amount A is <20 mm (NO in step S8), a second sequence is started (step S9).例文帳に追加

水位低下量Ａが２０ｍｍ未満となるまで、補給水（ステップＳ１０）および第１シーケンス（ステップＳ４）を繰り返し、水位低下量Ａが２０ｍｍ未満となった時点で（ステップＳ８でＮＯ）、第２シーケンスを開始する（ステップＳ９）。 - 特許庁

This method includes: a manufacturing step (S101) of a first set of wafer group; a cleaning step (S102); a manufacturing step (S103) of a second set of wafer group; and a chip forming step (S104).例文帳に追加

そして、本実施形態の発光素子の製造方法は、第１組目のウェハ群の製造工程（Ｓ１０１）、清掃工程（Ｓ１０２）、第２組目のウェハ群の製造工程（Ｓ１０３）、及びチップ化工程（Ｓ１０４）を含んで構成されている。 - 特許庁

When evaluating nondestructive burnup after irradiating reactor fuel containing plutonium in a reactor, a measurement step (S12), an evaluation first step (S13), an evaluation second step (S14), and an evaluation third step (S15) are performed.例文帳に追加

プルトニウムを含有する原子炉燃料が原子炉で照射された後の燃焼度を非破壊で評価するときに、測定工程（Ｓ１２）と評価第１工程（Ｓ１３）と評価第２工程（Ｓ１４）と評価第３工程（Ｓ１５）とを行う。 - 特許庁

At etching a material using a two step etching method, a first etching step is terminated before a ground layer is exposed and a system moves to a second etching step, with the condition that etching speed be slower than the first etching step.例文帳に追加

二段階エッチング法を用いて被エッチング材のエッチングを行う際に、第１エッチング段階を下地層が露出する前に終了し、エッチング速度が前記第１エッチング段階より遅い条件で第２エッチング段階に移行する。 - 特許庁

The tape winding step comprises a first winding step of winding a fabric tape 8 around the outer peripheral surface of the intermediate formed body 6 and a second winding step of winding a rubber tape 10 therearound after the first winding step.例文帳に追加

上記テープ巻き付け工程は、上記中間成形体６の外周面に織物テープ８を巻き付ける第一巻き付け工程及びこの第一巻き付け工程の後にゴムテープ１０を巻き付ける第二巻き付け工程を含む。 - 特許庁

A method for cleaning a mattress at a job site comprises a suction removing step by a suction unit 1, vapor cleaning step by a vapor generator 3, the second suction removing step, and a drying and sterilizing step by an infrared emitting unit 4.例文帳に追加

吸引機１によって吸引除去工程を行い、蒸気発生装置３によって蒸気洗浄工程を行い、再度吸引除去工程を行い、赤外線照射装置４によって乾燥・殺菌工程を行うようにした。 - 特許庁

A first step 6_1, a second step 6_2, a third step 6_3, and a fourth step 6_4 are formed by changing the height of a quartz chip 5 stepwise by irradiating a laser beam 4 absorbed by a quartz to the right upper end 5a of the quartz chip 5.例文帳に追加

水晶チップ５の右上端部５ａに水晶に吸収されるレーザビーム４を照射して段階的に水晶チップ５の高さを変化させ、第１段部６_1、第２段部６_2、第３段部６_3、第４段部６_4をそれぞれ形成する。 - 特許庁

A second semiconductor stacked layer etching step S7-3 in the ridge waveguide part forming step S7 and a first semiconductor part etching step S9-3 in the semiconductor diffracting grating element forming step S9 are performed together at a time.例文帳に追加

リッジ導波路部形成工程Ｓ７における第２半導体積層エッチング工程Ｓ７−３と、半導体回折格子要素形成工程Ｓ９における第１半導体部エッチング工程Ｓ９−３とは、一括して行われる。 - 特許庁

This process comprises an adsorption step, a first pressure equalization step having at least two stages where the pressure decreases, a purge step, and a second pressure equalization step having at least two stages where the pressure increases.例文帳に追加

このプロセスは、吸着ステップと、圧力が減少する少なくとも２つの段階を有する第１の等化ステップと、パージステップと、および圧力が増加する少なくとも２つの段階を有する第２の圧力等化ステップとを含んでいる。 - 特許庁

An optical receiver 12 receives the second wavelength, separates a step value from the overhead part of the received signal, compares the step value with the step value transmitted by the training processing part 16 and determines a transmission/reception available range from comparison result of all the step values.例文帳に追加

光受信器１２は第二波長を受信し、その受信信号のオーバヘッド部分からステップ値を分離し、トレーニング処理部１６で送信したステップ値と比較し、全ステップ値の比較結果から送受信可能範囲を決定する。 - 特許庁

The Ag alloy film is produced by a method comprising the step of forming first and second films by sputtering and the step of simultaneously etching the first and second films under conditions which allow the second film to have a higher reflectivity and a lower resistance than the first film.例文帳に追加

スパッタ成膜による第一及び第二薄膜形成工程と、第一及び第二薄膜の同時エッチング工程とを有し、第二薄膜が第一薄膜に比べて反射率が高く、低抵抗になる条件で製造する。 - 特許庁

Further, in cases where forecast information is transmitted from the second vehicle, the forecast information from the second vehicle is obtained (step S120) to forecast a change in the moving state of the second vehicle based on the obtained forecast information (step S130).例文帳に追加

さらに、他車両から予測情報が送信された場合は、その他車両の予測情報を取得し（ステップＳ１２０）、取得した予測情報に基づいて、他車両の運動状態の変化を予測する（ステップＳ１３０）。 - 特許庁

When the second processor is in the standby state, at least one instruction is transferred to an execution stage of a pipeline of the second processor (a step 612) and at least one initial stage of the pipeline of the second processor is bypassed (a step 614).例文帳に追加

第２プロセッサが待ち状態にあるとき、第２プロセッサのパイプラインの実行ステージに少なくとも１つの命令を転送し（ステップ６１２）、第２プロセッサのパイプラインの少なくとも１つの初期ステージをバイパスする（ステップ６１４）。 - 特許庁

At the time of handover from a first base station to a second base station, the mobile terminal executes processings from the first step up to the third step between the mobile terminal and the second base station, and then switches a communication medium from the first base station to the second base station.例文帳に追加

また、移動端末は、第１の基地局から第２の基地局へのハンドオーバ時に、第２の基地局との間で第１から第３のステップを実行した後、第１の基地局から第２の基地局へ通信メディアを切り替える。 - 特許庁

The step of forming the first and the second microlenses is a step of forming the first microlens and the second microlens with a height lower than that of the first microlens by performing heat treatment on the first resin pattern and the second resin pattern.例文帳に追加

第１、第２のマイクロレンズを形成する工程は、第１の樹脂パターンおよび第２の樹脂パターンを熱処理することにより、第１のマイクロレンズおよびこのレンズよりも低い第２のマイクロレンズを形成する工程である。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed wiring board further includes a second substrate projection part forming step of forming a second substrate projection part 66a corresponding to a second plate projection part 67a on a second substrate sheet 66.例文帳に追加

多層プリント配線板の製造方法は、さらに、第二基板シート６６に第二平板凸部６７ａに対応する第二基板凸部６６ａを形成する第二基板凸部形成工程と、を備えている。 - 特許庁

The step 5 is for molding a third molded body P3 by groove rolling the second molded body P2.例文帳に追加

ステップＳ５は、第２成形体Ｐ２を溝転造加工し第３成形体Ｐ３を成形する。 - 特許庁

Then, a second shutter speed faster than the first one by 2N fold is set (a step 106).例文帳に追加

そして第１のシャッタスピードよりも２^N 倍だけ速い第２のシャッタスピードを設定する（ステップ１０６）。 - 特許庁

A second transformation processing is executed further and pixel arrangement inside the basic matrix is decided (step S103).例文帳に追加

さらに第２変換処理を施して基本マトリクス内の画素配置を決定する（ステップＳ１０３）。 - 特許庁

In a second step, each client receives arrangement information wherein the server arranges the transmitted information.例文帳に追加

第２ステップで、各クライアントは、サーバが送信情報を集約した集約情報を受信する。 - 特許庁

In the second step, an axial hole 26 is pierced from an edge surface 1 to the other edge surface 2.例文帳に追加

第２工程に於て、被加工材Ｗの一端面１から他端面２まで軸孔26を貫設する。 - 特許庁

The first layer and the second layer are bonded with each other by solid-phase diffusion (step S4).例文帳に追加

前記第１の層及び前記第２の層を互いに固相拡散接合する（ステップＳ４）。 - 特許庁

In the second step, half-wave plates 47, 48 are inserted into two arm waveguides of each MZI.例文帳に追加

この後、各MZIの２つのアーム導波路に1/2波長板４７，４８を挿入する第２のステップ。 - 特許庁

A step part 32a is formed on a second vehicle 32 subsequent to the leading vehicle 31.例文帳に追加

先頭車両先頭車両３１に続く２番目の車両３２に段部３２ａを形成する。 - 特許庁

The method can further include a step of forming a first underlayer of titanium and a second underlayer of gold.例文帳に追加

チタンからなる第１下地層と金からなる第２下地層をさらに備えることが好ましい。 - 特許庁

The photosensitive material is exposed to light through the second supporting material side in the step of recording interference fringes.例文帳に追加

感光材料は、干渉縞を記録する工程において、第２支持材の側から露光される。 - 特許庁

A step is formed between the first face 38 and the third face 42 by the second face 40.例文帳に追加

第二面４０により、第一面３８と第三面４２との間に段差が形成されている。 - 特許庁

The method for setting the waiting hydraulic pressure value of a clutch piston by a step-shaped hydraulic pressure waveform includes first and second methods.例文帳に追加

階段状の油圧波形によるクラッチピストンの待機油圧値の設定方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, it is decided whether or not the first image data and the second image data are approximate (step 208).例文帳に追加

その後、第１画像データと第２画像データが近似しているか否かを判断する（ステップ２０８）。 - 特許庁

Then, in a step 4, the start address of the second session is generated from (an end address + the amount of gap).例文帳に追加

そして、ステップＳ４において、（エンドアドレス＋ギャップ量）から第２セッションのスタートアドレスを生成する。 - 特許庁

At the time t 14, the second flag F 2 indicates a 0 and represents the end of writing (step S 15).例文帳に追加

時刻ｔ１４のとき、第２フラグＦ２は０を示し、書き込み終了を表す（ステップＳ１５）。 - 特許庁

When the marked cells are exchanged in the second step of the check cycle, they are immediately counted.例文帳に追加

マークされたセルがそのチェックサイクルの第２の段階において交換されると直ちにカウントされる。 - 特許庁

In a third step, the two images are combined by using the processing results of the first and second steps.例文帳に追加

第三段階で、第１段階、第２段階の処理結果を用いて、２つの画像を結合する。 - 特許庁

Subsequently, the main CPU 201 executes a second lot drawing process based on computation (Step S33).例文帳に追加

次に、メインＣＰＵ２０１は、演算処理による第２抽選処理を実行する（ステップＳ３３）。 - 特許庁

In the second step, the arithmetic part detects the position of glasses worn by the subject from the image.例文帳に追加

第２ステップでは、被写体が着用する眼鏡の位置を画像のうちから演算部が検出する。 - 特許庁

In the step 3, the presence or absence of the weft yarn-detecting signal from the second weft yarn-detecting device is detected.例文帳に追加

ステップ３は、第２緯糸検出装置の緯糸検出信号の有無を検出する。 - 特許庁