「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

In the magnetic recording medium provided with the glass substrate, a seed layer and a magnetic layer, the glass substrate has a textured surface and the seed layer is formed by sequentially layering a CrN first seed layer, a NiTi second seed layer, a CrN third seed layer and a NiTiN fourth seed layer.例文帳に追加

ガラス基板、シード層および磁性層を備えた磁気記録媒体において、ガラス基板はテクスチャ加工が施され、シード層は、ＣｒＮ第１シード層、ＮｉＴｉ第２シード層、ＣｒＮ第３シード層、ＮｉＴｉＮ第４シード層を順次積層したことを特徴とする。 - 特許庁

On the surface of an n-GaAs substrate 2, a clad layer 3, an MQW active layer 4, a first clad layer 5, an etching stop layer 6, a block layer 7, a second clad layer 8, a buffer layer 9, and a p-electrode 11 are formed, and an n-electrode 1 is formed on the back of the n-GaAs substrate 2.例文帳に追加

ｎ−ＧａＡｓ基板２上に、クラッド層３、ＭＱＷ活性層４、第１クラッド層５、エッチングストップ層６、ブロック層７、第２クラッド層８、バッファ層９、ｐ電極１１が積層され、ｎ−ＧａＡｓ基板２の裏側にはｎ電極１が形成されている。 - 特許庁

This field driven type device is provided with a substrate; a light-shielding signal line 14 formed on the substrate; a first electrode 16 formed on an upper layer of the signal line 14 on the substrate; an insulating layer formed on an upper layer of the first electrode 16 on the substrate; and a second electrode 26 formed on the upper layer of the insulating layer on the substrate.例文帳に追加

電界駆動型装置は、基板と、基板上に形成された遮光性の信号線１４と、基板上の、信号線１４より上層に形成された第１電極１６と、基板上の、第１電極１６より上層に形成された絶縁層と、基板上の、絶縁層より上層に形成された第２電極２６とを備える。 - 特許庁

To prevent roughness of a surface of a semiconductor layer (for instance, a single-crystal silicon layer) when manufacturing an SOI substrate by bonding a base substrate (for instance, a glass substrate) to a semiconductor substrate (for instance a single-crystal silicon substrate).例文帳に追加

ベース基板（例えばガラス基板）と半導体基板（例えば単結晶シリコン基板）とを貼り合わせてＳＯＩ基板を作製する際の半導体層（例えば単結晶シリコン層）の表面の荒れを抑制することを目的の一とする。 - 特許庁

In order to fabricate the flexible wire grid polarizer, a non-adhesive layer(231) is formed on an area of a lower substrate and next a polymer layer (232) is formed on the lower substrate, and a flexible polymer substrate (233) is formed on the lower substrate and a thin metal film is deposited on the flexible polymer substrate (234).例文帳に追加

フレキシブルワイヤーグリッド偏光子を製造するため、下部基板の領域に非接着層を形成し（２３１）、次に下部基板上にポリマー層（２３２）、フレキシブルポリマー基板（２３３）を形成し、金属薄膜を蒸着する（２３４）。 - 特許庁

The substrate 10 with an epitaxial layer includes a GaN substrate 1 which is a base substrate (group III nitride substrate) consisting of group III nitride, and the epitaxial growth layer 5 formed on the surface of the GaN substrate 1.例文帳に追加

この発明に従ったエピタキシャル層付き基板１０は、ＩＩＩ族窒化物からなるベース基板（ＩＩＩ族窒化物基板）としてのＧａＮ基板１と、ＧａＮ基板１の表面上に形成されたエピタキシャル成長層５とを備える。 - 特許庁

A cathode 1, an electroluminescent layer 2, a transparent electrode layer 3, a barrier layer 10, a particle-containing low-refractive index layer 4', and a transluscent substrate 5 such as glass substrate, are arranged in layers in this order.例文帳に追加

陰極１、エレクトロルミネッセンス層２、透明電極層３、バリア層１０、粒子含有低屈折率層４’及びガラス基板等の透光性の基板５がこの順に積層配置されている。 - 特許庁

There are provided a support substrate 2 composed of a P^--type silicon, a P^+-type silicon layer 3 on the support substrate 2, and thereon, an N^+-type silicon layer 4 and a P^+-type silicon layer 12 mutually as one layer.例文帳に追加

Ｐ^−型シリコンからなる支持基板２を設け、この支持基板２上にＰ^＋型シリコン層３を設け、その上にＮ^＋型シリコン層４及びＰ^＋型シリコン層１２を相互に同層に設ける。 - 特許庁

A heating resistor 30 comprises a lower layer 31 which contacts the substrate surface of a chip substrate 21, an intermediate layer 32 yielded by the annealing treatment of the lower layer 31, and a heat generating resistor layer 33 sticking to this.例文帳に追加

発熱抵抗体３０はチップ基板２１の基板面に接する下部層３１と、下部層３１をアニール処理した中間層３２とこれに密着する発熱抵抗層３３とで形成される。 - 特許庁

The multi-layer metal coating 14 comprises a substrate layer 16 plated on the surface 12a of the contact base material 12 and the outermost layer 18 plated on the surface 16a of the substrate layer 16.例文帳に追加

多層金属被膜１４は、接点基材１２の表面１２ａにめっき形成される下地層１６と、下地層１６の表面１６ａにめっき形成される最外層１８とを備える。 - 特許庁

The coating resin layer 3 has a first resin layer 10 which is the nearest to the substrate 2, and at least one second resin layer 11 with the first resin layer 10 disposed in contact with the substrate 2.例文帳に追加

被覆樹脂層３は、基板２に最も近い第１の樹脂層１０と、基板２との間に第１の樹脂層１０を挟んで配置された少なくとも一つの第２の樹脂層１１とを有する。 - 特許庁

A thin film device 1 comprises a substrate, an insulating layer laminated in order on this substrate, a lower conductor layer, a dielectric film, an insulating layer, an upper conductor layer and protection film 8, and terminal electrodes 11-14.例文帳に追加

薄膜デバイス１は、基板と、この基板の上に順に積層された絶縁層、下部導体層、誘電体膜、絶縁層、上部導体層および保護膜８と、端子電極１１〜１４を備えている。 - 特許庁

A three-layer structure wherein a porous silicon layer is used as a high-resistance layer and is made to work as a gettering layer is comprised of a silicon thin-film, porous silicon and a silicon substrate, and it is used as a false SOI substrate.例文帳に追加

多孔質シリコン層を、高抵抗層とみなし、更にはゲッタリング層として機能させたシリコン薄膜／多孔質シリコン／シリコン基板からなる３層構造体を、擬似的なＳＯＩ基板として利用する。 - 特許庁

Between the core substrate 3 and the principal side resin insulating layer 5, a principal side conductor layer 15 is formed and between the core substrate 3 and the principal side resin insulating layer 7, a backside conductor layer 19 is formed.例文帳に追加

コア基板３と主面側樹脂絶縁層５との間には、主面側導体層１５が、コア基板３と裏面側樹脂絶縁層７との間には、裏面側導体層１９が形成されている。 - 特許庁

After an insulating membrane layer is formed on a silicon substrate and a metal membrane layer is formed on top of it, an aperture is provide on the insulating membrane layer and the metal membrane layer by a photolithography and the silicon substrate is exposed.例文帳に追加

シリコン基板上に絶縁膜層、その上に金属膜層を形成した後、フォトリソグラフィにより前記絶縁膜層及び金属膜層に開口部を設けシリコン基板を露出させる。 - 特許庁

The optical waveguide 10 is provided with a substrate 1, a clad layer 3 disposed on the substrate 1, a core layer 4 embedded in the clad layer 3 and an active layer 5 having an electro-optic effect.例文帳に追加

光導波路１０は、基板１と、この基板１上に設けられたクラッド層３と、このクラッド層３に埋め込まれたコア層４および電気光学効果を有する活性層５とを備えている。 - 特許庁

On the reverse side of the Al_yGa_1-yN layer 28, a nucleation layer 24 may be included between the GaN buffer layer 26 and the substrate 22, including a substrate 22 contiguous to the buffer layer 26.例文帳に追加

また、Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＮ層２８の反対側において、バッファ層２６に隣接する基板２２も含み、ＧａＮバッファ層２６と基板２２との間に、核生成層２４を含むことができる。 - 特許庁

The semiconductor layer 14 is formed on the transparent substrate 12 and includes an n-type GaN contact layer 22 laminated on the transparent substrate 12, and an InGaN light-emitting layer 24 and a p-type GaN contact layer 26.例文帳に追加

半導体層１４は、透明基板１２上に形成され、透明基板１２上に積層されるｎ型ＧａＮコンタクト層２２、ＩｎＧａＮ発光層２４およびｐ型ＧａＮコンタクト層２６を含む。 - 特許庁

A nozzle substrate base material 110 is formed by depositing a sacrificial layer 101 on a deposition substrate 100, successively and alternatively laminating a phosphorus-doped polysilicon layer and a stop layer on the sacrificial layer 101.例文帳に追加

成膜基板１００上に犠牲層１０１を成膜し、犠牲層１０１の上に、リンをドープしたドープドポリシリコン層とストップ層とを順次交互に積層しノズル基板基材１１０を形成する。 - 特許庁

The jig includes a support substrate 211, an adhesive layer 212 disposed on the support substrate and an adhesive agent layer 213 which is disposed on the adhesive layer and whose peripheral part is surrounded by the adhesive layer.例文帳に追加

支持基板２１１と、支持基板上に形成された接着剤層２１２と、接着剤層上に形成され周辺部が接着剤層により取り囲んでいる粘着剤層２１３と、を含む。 - 特許庁

The preparation is affixation preparation for the external use having a substrate layer and a medicine layer formed on the substrate layer and contacting with the skin, and containing a fat-degrading component and/or a component for inhibiting the fat generation in the medicine layer.例文帳に追加

基材と基材上に形成され皮膚に接触する薬剤層とを備え、該薬剤層に脂肪分解成分および／又は脂肪生成抑制成分を含む貼付外用剤とできる。 - 特許庁

The spectrally dividing part comprising the optical layer apart from the substrate can be formed by, for example, successively depositing a sacrificial layer and an optical layer on the substrate, patterning the layers and then removing a part of the sacrificial layer.例文帳に追加

例えば、基板上に、犠牲層、光学層を順に形成してパターニングを行った後、犠牲層の一部を除去することで、基板から離間した光学層からなる分光部を形成できる。 - 特許庁

An indium arsenide (InAs)layer is placed on a gallium arsenide (GaAs) substrate, and an semiconductor layer is placed on the indium arsenide layer, which is larger than the gallium arsenide substrate and has a lattice constant smaller than the indium arsenide layer.例文帳に追加

ガリウム砒素（ＧａＡｓ）基板上にインジウム砒素（ＩｎＡｓ）層を設け、インジウム砒素層上にガリウム砒素基板より大きくインジウム砒素層より小さい格子定数を有する半導体層設ける。 - 特許庁

This semiconductor device is equipped with a semiconductor substrate, the buffer layer of a nitride semiconductor that is formed on the semiconductor substrate, and the channel layer of the nitride semiconductor that is formed in an upper layer as compared with the buffer layer.例文帳に追加

半導体基板と、この半導体基板上に形成された窒化物半導体のバッファ層と、このバッファ層よりも上層に形成された窒化物半導体のチャネル層とを備える。 - 特許庁

The photocatalytic resin substrate is obtained by laminating an adhesive layer, a primer layer and a photocatalyst layer in this order a resin substrate comprising an olefin resin, and the adhesive layer contains a urethane resin.例文帳に追加

オレフィン系樹脂を含む樹脂基材上に接着層、プライマー層、光触媒層がこの順に積層されるとともに、接着層にウレタン系樹脂が含まれる光触媒樹脂基材とする。 - 特許庁

The display device includes a substrate material, an organic layer formed on the substrate material, a common electrode formed on the organic layer, and a bead layer containing a number of beads through which light at the organic layer passes.例文帳に追加

ディスプレイ装置は、基板素材と、基板素材上に形成されている有機層と、有機層上に形成されている共通電極と、有機層での光が通過する多数のビードを含むビード層とを含む。 - 特許庁

The recording medium has at least a reflective layer 1, a recording layer 7, a light-incident-side protective layer 9, a first resin layer 10, and a light-incident-side substrate 11 in this order on a substrate 1 having a guide groove.例文帳に追加

案内溝を有する基板１の上に、少なくとも反射層３、記録層７、光入射側保護層９、第１の樹脂層１０、光入射側基板１１をこの順に備える。 - 特許庁

In the optical recording medium, a recording layer 2 is provided on the surface of a substrate 1 and the reflection layer 3, an adhesive layer 4 and a sticking substrate 5 are successively provided on the recording layer 2.例文帳に追加

この光記録媒体においては、基板１の表面に記録層２が設けられ、この記録層２の上に、順に、反射層３と、接着層４と、張り合わせ基板５とが設けられている。 - 特許庁

To prevent the peeling or the crack of a surface layer without forming a buffer layer between a substrate and the surface layer, in a plasma resistance member which has a substrate and a surface layer excellent in plasma resistance.例文帳に追加

基材と耐プラズマ性に優れた表面層とを有する耐プラズマ性部材において、基材と表面層との間に緩衝層を設けることなく表面層の剥離やクラックを防止すること。 - 特許庁

The upper substrate and the lower substrate are bonded each other and a liquid drop discharging nozzle is defined by the upper substrate, the insulation layer on the lower substrate, and the heating element in the lower substrate.例文帳に追加

上部基板及び下部基板は互いに接合されて、上部基板、下部基板上の絶縁層、及び下部基板中の加熱素子で画定された液滴放出ノズルを形成する。 - 特許庁

The point control NT box includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

本発明は、第一基板と、前記第一基板と対向する第二基板と、前記第一基板と第二基板との間にシールされている液晶層と、を含む点制御式ＴＮ箱を提供する。 - 特許庁

The pixel structure mainly includes a first substrate, a second substrate being parallel with the first substrate, a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate, a reflecting structure, and a light angle control mechanism.例文帳に追加

画素構造は、主に第１基板、第１基板に平行して設ける第２基板、第１基板と第２基板に挟んで設ける液晶層、反射構造と、光角制御機構を含める。 - 特許庁

An organic light-emitting device includes a substrate; an encapsulation substrate; an organic light-emitting unit interposed between the substrate and the encapsulation substrate; and a layer having a UV shielding capability interposed between the encapsulation substrate and the organic light-emitting unit.例文帳に追加

基板と、封止基板と、基板と封止基板との間に位置する有機発光部と、封止基板と有機発光部との間にＵＶ遮断能を持つ層と、を備える有機発光素子。 - 特許庁

This liquid crystal display device has a first substrate 1, a second substrate 2 which is arranged so as to face the first substrate 1, and a liquid crystal layer 3 which is provided between the first substrate 1 and the second substrate 2.例文帳に追加

第１基板１と、第１基板１に対向するように配置された第２基板２と、第１基板１と第２基板２との間に設けられた液晶層３とを有する。 - 特許庁

The image display device has a structure provided with an array substrate 1, a counter substrate 2 disposed opposite to the array substrate 1 and a liquid crystal layer 3 filled between the array substrate 1 and the counter substrate 2.例文帳に追加

アレイ基板１と、アレイ基板１と対向配置された対向基板２と、アレイ基板１と対向基板２との間に封入された液晶層３を備えた構造を有する。 - 特許庁

To manufacture an SOI substrate by dividing a semiconductor substrate and joining a semiconductor layer separated from the semiconductor substrate to a glass substrate with a low heat resistant temperature, and to reproduce the semiconductor substrate after separation.例文帳に追加

半導体基板を分割し、かつ当該半導体基板から分離した半導体層をガラス基板など耐熱温度が低い基板に接合させることで、ＳＯＩ基板を作製する。 - 特許庁

A standing substrate 15 composed of the gallium nitride single crystal is obtained by removing the substrate 5 or the substrate 5 and the sapphire single crystal substrate 3 from the multi-layer substrate having the gallium nitride single crystal.例文帳に追加

窒化ガリウム単結晶を有する多層基板から基体５又は基体５と単結晶サファイア基板３を除去することにより、窒化ガリウム単結晶の自立基板15を得る。 - 特許庁

A phosphor layer is formed on an inner surface of the first substrate, and the metal back layer 17 is superimposed on the phosphor layer.例文帳に追加

第１基板の内面には蛍光体層が形成され、この蛍光体層に重ねてメタルバック層１７が形成されている。 - 特許庁

The light-sensitive layers are obtained by stacking the second light-sensitive layer, the barrier layer and the first light-sensitive layer in this order on a substrate.例文帳に追加

感光性積層体は、基体上に、上記第二感光層、上記バリアー層、上記第一感光層の順序で積層する。 - 特許庁

A first conductivity type layer 102, an active layer 104 and a p-type clad layer 107 are formed in order on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１上に第１導電型層１０２、活性層１０４及びｐ型クラッド層１０７が順次形成されている。 - 特許庁

A thin film transistor layer 34 provided with thin film transistors 33 is formed on the liquid crystal layer 17 side of a color filter layer 30 on an array substrate 15.例文帳に追加

アレイ基板15上のカラーフィルタ層30の液晶層17側に薄膜トランジスタ33を備えた薄膜トランジスタ層34を形成する。 - 特許庁

This optical recording medium 10 has the recording layer 2 containing an organic dyestuff, a light reflecting layer 3 and a protection layer 4 on a substrate 1.例文帳に追加

光記録媒体１０は、基板１上に、有機色素を含む記録層２、光反射層３及び保護層４を備える。 - 特許庁

The force-detecting element 100 has a multilayer substrate 7 composed of a base layer 2, an insulating layer 4 and a semiconductor layer 6 so as to be layered.例文帳に追加

力検知素子１００は、基部層２と絶縁層４と半導体層６が積層された積層基板７を有している。 - 特許庁

A metal thin film layer 12, a white luminescence coating film layer 13 and a shell forming layer 17 are successively laminated on a substrate 11.例文帳に追加

基板１１の上面に、金属薄膜層１２、白色蛍光塗膜層１３、貝形成層１７を順次積層する。 - 特許庁

A stripping layer 102 is formed on a substrate 101, and a layer 103 to serve as a movable electrode is formed on the stripping layer 102.例文帳に追加

基板１０１上に剥離層１０２を形成し、剥離層１０２上に可動電極となる層１０３を形成する。 - 特許庁