1153万例文収録!

「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > substrate layerに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 39497



例文

The first insulator layer 4a is formed on the semiconductor substrate 6 and the metallic layer 26e is formed on the first insulator layer 4a.例文帳に追加

第1絶縁体層4aは、半導体基板6上に形成されており、金属層26eは、第1絶縁体層4a上に形成されている。 - 特許庁

A semiconductor device 100 has a substrate 110, an n-type semiconductor layer 130, a semiconductor light emitting layer 140 and a p-type semiconductor layer 150 in this order.例文帳に追加

半導体素子100は、基板110、n型半導体層130、半導体発光層140、及びp型半導体層150を、この順に備える。 - 特許庁

A first layer 102 consisting of alumina is formed on the substrate 101, and a second layer 103 consisting of a catalyst metal is formed on this first layer 102.例文帳に追加

基板101上にアルミナからなる第1の層102を形成し、この第1の層102上に触媒金属からなる第2の層103を形成する。 - 特許庁

A single crystal silicon substrate 101 is prepared, an isolation layer 102 is formed on its surface, and a single crystal silicon layer 103a is formed on the layer 102.例文帳に追加

単結晶シリコン基板101を用意し、その表面に分離層102を形成し、その上に単結晶シリコン層103aを形成する。 - 特許庁

例文

A semiconductor device 1 has a semiconductor substrate 6, a first insulator layer 4a, a metallic layer 26e, a second insulator layer 28 and a resistor 34.例文帳に追加

半導体装置1は、半導体基板6と、第1絶縁体層4aと、金属層26eと、第2絶縁体層28と、抵抗体34とを有する。 - 特許庁


例文

After a magnetic layer is formed on a flat substrate, a portion of the magnetic layer is removed by a reactive ion etching method and a dielectric layer is formed thereon.例文帳に追加

平坦な基板上に磁性層形成後、反応性イオンエッチング法で磁性層の一部を除去し、かつその上に誘電体層を形成する。 - 特許庁

Further, it may be constituted that the electronic component is embedded in the resin layer of the core substrate of the structure that the resin layer is formed on the prepreg insulating layer.例文帳に追加

また、プリプレグ絶縁層上に樹脂層が形成された構造のコア基板の樹脂層に電子部品が埋設されている構成としてもよい。 - 特許庁

This pack S is obtained by providing a highly hydrous gel layer 2 on a substrate sheet 1 and further forming a water absorbing layer 3 on the gel layer 2.例文帳に追加

基材シート1の上に高含水性のジェル層2が設けられており、さらにジェル層2の上に吸水層3が設けられているパックSを得る。 - 特許庁

An ultraviolet curable resin layer 2 is formed on an original die 1 and a glass substrate 3 is pressed to the ultraviolet curable resin layer 2 to form the ultraviolet curable resin layer 2.例文帳に追加

元型1の上に紫外線硬化樹脂層2を形成し、その上からガラス基板3を押し付けて、紫外線硬化樹脂層2を成型する。 - 特許庁

例文

An N type epitaxial layer 2 is formed on a surface of a P type semiconductor substrate 1, and a P type well layer 4 is formed on a surface of the epitaxial layer 2.例文帳に追加

P型の半導体基板1の表面にN型のエピタキシャル層2が形成され、エピタキシャル層2の表面にはP型のウェル層4が形成されている。 - 特許庁

例文

An Si layer and an SiGe layer are formed on the same substrate, and the SiGe layer is selectively removed by etching using fluoro-nitric acid processing within three minutes.例文帳に追加

Si層とSiGe層とを同一基板上に形成し、3分以内の時間内でSiGe層をフッ硝酸処理にて選択的にエッチング除去する。 - 特許庁

Irradiation with high-intensity laser light can be performed, by properly inserting a metal layer and an inorganic heat-resistant layer between the substrate 11 and function layer 14.例文帳に追加

金属層や無機耐熱層を、基板11と機能層14との間に適宜挿入すれば、より高強度のレーザを照射することができる。 - 特許庁

The laminated body comprises a thermoplastic polyimide layer formed on at least one side of the polymer substrate and a metallic layer formed on the surface of the thermoplastic polyimide layer.例文帳に追加

ポリマー基材の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミド層を有し、概熱可塑性ポリイミド層の表面に金属層を有することを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element comprises a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, a light-emitting layer, first electrodes, second electrodes, and a supporting substrate.例文帳に追加

実施形態に係る半導体発光素子は、第1半導体層、第2半導体層、発光層、第1電極、第2電極及び支持基板、を備える。 - 特許庁

A gallium nitride semiconductor layer of a first conductivity type, an active layer, and a gallium nitride semiconductor layer of a second conductivity type are sequentially disposed on a support substrate 13.例文帳に追加

第1導電型窒化ガリウム系半導体層、活性層及び第2導電型窒化ガリウム系半導体層が支持基体13上に順に配置されている。 - 特許庁

The color conversion filter substrate further contains a color conversion layer and a part of the edge part of the color conversion layer instead of the color filter layer is extended so as to be superimposed.例文帳に追加

色変換フィルタ基板は、色変換層をさらに含み、カラーフィルタ層に代えて色変換層の端部の一部が重なるように延在している。 - 特許庁

This antibacterial body has a metallic coating layer 2 such as a plated layer or a metallic thin-film layer formed of an antibacterial metal on the surface of a three-dimensional substrate 1.例文帳に追加

立体形の基体1の表面に抗菌性金属よりなるメッキ層または金属薄膜層などの金属被膜層2を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The medium has a lamination structure in which a light selective reflection pattern layer 3 composed of a cholesteric liquid crystal layer and an authentication pattern layer 4 are stacked on a transparent substrate 2.例文帳に追加

透明基材2にコレステリック液晶層からなる光選択反射パターン層3および認証用パターン層4を積層した積層構造とする。 - 特許庁

To increase the number of layers of a recording/reproducing layer while suppressing warpage and deformation of a substrate in an optical recording medium having a servo layer and a recording/reproducing layer.例文帳に追加

サーボ層と記録再生層を備える光記録媒体において、基板の反りや変形を抑制しながらも、記録再生層の層数を増やす。 - 特許庁

First, a diaphragm region is defined on an SOI substrate comprising three layers of an active layer 1, a support layer 2 and an insulation layer 3 sandwiched by these layers 1 and 2.例文帳に追加

まず、活性層1と支持層2とそれらの間に挟まれた絶縁層3との3層からなるSOI基板に、ダイアフラム領域を画定する。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element comprises a supporting substrate, a first electrode, a first-conductivity-type layer, a light-emitting layer, a second-conductivity-type layer, and a second electrode.例文帳に追加

半導体発光素子は、支持基板と、第1電極と、第1導電形層と、発光層と、第2導電形層と、第2電極と、を有する。 - 特許庁

The color filter 12 consists of a red filter layer 1, a green filter layer 2 and a blue filter layer 3 flatways arranged on a substrate 4.例文帳に追加

カラーフィルタ12は、基板4上に平面的に配置される赤色のフィルタ層1、緑色のフィルタ層2および青色のフィルタ層3から構成される。 - 特許庁

A liquid crystal display panel 1 has a TFT substrate 2, a CF substrate 3 arranged so as to face the TFT substrate 2, a liquid crystal layer 4 provided between the TFT substrate 2 and the CF substrate 3, and a plurality of photo spacers 25, which are provided between the TFT substrate 2 and the CF substrate 3 and which regulate the thickness of the liquid crystal layer 4.例文帳に追加

液晶表示パネル1は、TFT基板2とTFT基板2に対向して配置されたCF基板3と、TFT基板2及びCF基板3の間に設けられた液晶層4と、TFT基板2及びCF基板3との間に設けられるとともに、液晶層4の厚みを規制するための複数のフォトスペーサ25とを備えている。 - 特許庁

A printed wiring board 1 of the present invention comprises a metal substrate 2, an insulation layer 3 provided on the surface of the metal substrate 2, and a conductive layer 4 provided on the surface of the insulation layer 3 and electrically connected with the metal substrate 2.例文帳に追加

本発明のプリント配線板1は、金属基板2と、金属基板2の表面上に設けられた絶縁層3と、絶縁層3の表面上に設けられ、金属基板2と電気的に接続される導電層4とを備えている。 - 特許庁

The semiconductor device is applied to an SRAM to be manufactured by using an SOI substrate comprising a silicon supporting substrate 130, an insulating layer 132 formed on the support substrate 130, and an SOI layer 134 formed on the insulating layer 132.例文帳に追加

半導体装置は、シリコン支持基板130と、支持基板130上に形成される絶縁層132と、絶縁層132上に形成されるSOI層134とからなるSOI基板を用いて製造されるSRAMに適用される。 - 特許庁

A retardation substrate 20 includes: a substrate 210; a solidification liquid crystal layer 230 as a continuous film including regions 230a to 230c; and a birefringence layer 240 which faces the substrate 210 by holding the solidification liquid crystal layer 230 in between.例文帳に追加

リターデイション基板20は、基板210と、領域230a乃至230cを含んだ連続膜としての固体化液晶層230と、固体化液晶層230を間に挟んで基板210と向き合った複屈折性層240とを具備している。 - 特許庁

The printed wiring board 1 is provided with: a metal substrate 2; an insulating layer 3 arranged on the surface of the metal substrate 2; and a conductive layer 4 which is arranged on the surface of the insulating layer 3 and electrically connected to the metal substrate 2.例文帳に追加

本発明のプリント配線板1は、金属基板2と、金属基板2の表面上に設けられた絶縁層3と、絶縁層3の表面上に設けられ、金属基板2と電気的に接続される導電層4とを備えている。 - 特許庁

A region A where an acceptor impurity exists is then formed so as to be extended from a boundary face 9 between the base layer 2 and the base layer 3 to the base layer 3 to form an epitaxial substrate 5, and the substrate 5 is used as a substrate when the electronic device is manufactured.例文帳に追加

そして、下地層2及び下地層3の界面9から下地層3へ延在するアクセプタ不純物が存在する領域Aを形成してエピタキシャル基板5を作製し、この基板5を電子デバイス作製時の基板として用いる。 - 特許庁

The microlens substrate includes: a substrate 11 for lens formation, on which a microlens is formed; a resin layer 12 laminated on the side at which the microlens is formed in the substrate 11 for lens formation; and a barrier layer formed on the surface of the resin layer 12.例文帳に追加

マイクロレンズ基板は、マイクロレンズを形成するレンズ形成用基板11と、このレンズ形成用基板11のマイクロレンズが形成された側の面に積層された樹脂層12と、この樹脂層12の表面に形成されたバリア層と、を有する。 - 特許庁

For attaining the above-mentioned purpose, this invention provides the substrate for cell transfer having a polymer substrate, an intermediate layer formed on the polymer substrate and a cell transfer layer formed on the intermediate layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、高分子基材と、前記高分子基材上に形成された中間層と、前記中間層上に形成された細胞転写層とを有することを特徴とする細胞転写用基板を提供する。 - 特許庁

The mirror includes: a substrate 111; a heat diffusion layer 112 formed on the main surface of the substrate and having higher heat-conductivity than the substrate; and a high reflection film 113 formed on the heat diffusion layer and having lower heat-conductivity than the heat diffusion layer.例文帳に追加

ミラーは、基板111と、基板の主面上に形成され基板よりも高い熱伝導率を有する熱拡散層112と、熱拡散層上に形成され、熱拡散層よりも低い熱伝導率を有する高反射膜113と、を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate includes: a stage of preparing the substrate with a copper layer 10, an insulating layer 20 and a copper layer 30 laminated thereon in order; and a stage of working the through hole on the substrate by using a laser with a wavelength of 400 nm to 9 μm.例文帳に追加

基板の製造方法は、銅層10と、絶縁層20と、銅層10とが順に積層された基板を準備する工程と、基板に波長が400nm以上9μm未満のレーザを用いて貫通孔を加工する工程とを備える。 - 特許庁

The color filter 50 comprises a substrate 52, a color filter layer 54 having a plurality of colored portions 56, an electrode portion 60 disposed between the color filter layer and the substrate, and a shield layer 75 disposed in the opposite side of the electrode portion to the substrate.例文帳に追加

カラーフィルタ50は、基材52と、複数の着色部56を有するカラーフィルタ層54と、カラーフィルタ層と基材との間に配置された電極部60と、電極部の前記基材とは反対の側に設けられたシールド層75と、を備える。 - 特許庁

The coating film 3 is provided with a substrate layer 1 obtained by dispersing the ultraviolet ray absorbing agent in a light translucent resin used as a binder and a coated layer 2 formed by the light translucent resin and laminated on the outside of the substrate layer 1 on a surface of a substrate 4.例文帳に追加

基材4の表面に、バインダーとなる透光性樹脂に紫外線吸収剤を分散して得られた基層1と、透光性樹脂から形成され基層1の外側に積層されるコート層2とを備える塗膜3を設ける。 - 特許庁

A first single crystal semiconductor layer is formed on a supporting substrate by isolating the single crystal semiconductor substrate from an isolating surface of the fragile layer or of the area near the relevant fragile layer after the first electrode and the supporting substrate are stacked and laminated.例文帳に追加

第1電極と支持基板とを重ね合わせて貼り合わせた後、脆化層又は当該脆化層の近傍を分離面として単結晶半導体基板を分離させることにより、支持基板上に第1単結晶半導体層を形成する。 - 特許庁

The light emitting device contains an n-type β-Ga_2O_3 substrate or n-type (AlGa)_2O_3 substrate, an interface control layer formed on the substrate, and a light emitter arranged with an AlGaN semiconductor layer formed on the interface control layer.例文帳に追加

n型β−Ga_2O_3基板あるいはn型(AlGa)_2O_3基板と、前記基板上に形成された界面制御層と、前記界面制御層上に形成されたAlGaN半導体層によって構成された発光部とを含む発光素子。 - 特許庁

The first constitution consits of forming a petaloid alumina layer as a hydrophilic layer on a supporting body using a glass substrate, ceramic substrate or metal substrate as the base body, and applying a negative or positive photosensitive layer thereon.例文帳に追加

第一の構成は、基体としてガラス基板、セラミック基板または金属製基板を用いた支持体上に、花弁状アルミナ層を親水性層とし、その上にネガ型又はポジ型の感光性層を塗設して成ることを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁

In the structure containing carbon nanotube layer where the carbon nanotube layer is coated on a glass substrate, having at least one or more polymer layers formed on the surface of the glass substrate and the polymer layer is fixed to the glass substrate by chemical bonding.例文帳に追加

ガラス上にカーボンナノチューブ層が塗設されたカーボンナノチューブ層含有構造体であって、該ガラスの表面に少なくとも1つ以上のポリマー層が存在し、かつ、該ポリマー層がガラスと化学結合にて固定されている、カーボンナノチューブ層含有構造体。 - 特許庁

The display element 100 includes: a display medium layer 1; a first substrate 2 disposed on the observer's side of the display medium layer 1; and a second substrate 3 disposed so as to be opposite to the first substrate 2 via the display medium layer 1.例文帳に追加

本発明の表示素子100は、表示媒体層1と、表示媒体層1の観察者側に配置された第1基板2と、表示媒体層1を介して第1基板2に対向するように配置された第2基板3とを含んでいる。 - 特許庁

The optical thin sheet comprises: a substrate; and a light diffusion layer formed on at least one surface of the substrate, wherein the light diffusion layer has a rugged structure formed so as to operate as the light diffusion layer on a light incident surface, a light emission surface or both of the substrate.例文帳に追加

光学薄膜シートは、支持と、該支持体の少なくとも一面に形成された光拡散層とを含み、該光拡散層は、支持体の光入射面、発行面又は両面に、光拡散層として働くように凹凸構造を形成する。 - 特許庁

The coating agent is sufficiently penetrated into the inside of the penetrating layer substrate 12 by sucking from the back face side and excessively oozing out with the coating agent to the back face side of the penetrating layer substrate 12 when the coating agent is applied on the penetrating layer substrate 12.例文帳に追加

浸透層基材12に対し、塗工剤の塗工時に、裏面側から吸引し、塗工剤を浸透層基材12の裏面側まで過剰に滲み出させることにより浸透層基材12の内部に十分な塗工剤を浸透させる。 - 特許庁

On a GaN layer 12 formed on the main surface of a sapphire substrate 11, light is irradiated from the back of the substrate, and thereby part of an area on the GaN layer 12 contacting the substrate is thermally decomposed to form a thermally decomposed layer 14.例文帳に追加

サファイア基板11の主面上に形成されたGaN層12に対して該基板の裏面側から光を照射し、それによってGaN層12における該基板との接触領域を部分的に熱分解させて熱分解層14を形成する。 - 特許庁

At least a bottom substrate among a top substrate, each of intermediate substrates and the bottom substrate is provided with a rigidity enforcement layer at almost the entire face of its upper face, and this rigidity enforcement layer is a conductive layer and its part configures a prescribed connection path.例文帳に追加

頂部基板、各中間基板及び底部基板のうち少なくとも底部基板が、その上面のほぼ全面に剛性補強層を備え、この剛性補強層が導電性層であり、その一部が所定の接続通路を構成している。 - 特許庁

Then, a region A where an acceptor impurity exists is formed so as to be extended from a boundary 9 between the base layer 2 and the base layer 3 to the base layer 3 to manufacture an epitaxial substrate 5, and the substrate 5 is used as a substrate when manufacturing an electronic device.例文帳に追加

そして、下地層2及び下地層3の界面9から下地層3へ延在するアクセプタ不純物が存在する領域Aを形成してエピタキシャル基板5を作製し、この基板5を電子デバイス作製時の基板として用いる。 - 特許庁

The method for producing the carbon thin film includes: forming a polymer layer on a substrate by using a coating process; forming a protective layer on the polymer layer; and heat-treating the substrate to form a carbon thin film on the substrate.例文帳に追加

基板上にコーティング工程を利用し、高分子膜を形成する段階と、高分子膜上に保護膜を形成する段階と、基板を熱処理し、基板上に炭素薄膜を形成する段階と、を含む炭素薄膜の製造方法である。 - 特許庁

The mask layer 30b and the substrate 10 are simultaneously removed, e.g. by dry etching under conditions which make selection ratios to the substrate 10 and the mask layer 30b nearly equal to each other to transfer the shape of the mask layer 30b to the substrate 10 and to obtain the shape of the optical lens.例文帳に追加

基板10とマスク層30bに対する選択比が略同等となる条件のドライエッチング処理などによりマスク層と基板を同時に除去することで、マスク層30bの形状を基板10に転写し、光学レンズの形状とする。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate facing each other; a liquid crystal layer positioned between the first substrate and the second substrate; and a seal pattern positioned between the first substrate and the second substrate, surrounding the liquid crystal layer, and formed of frit glass or glass paste.例文帳に追加

本発明は、相互に向かい合う第1基板及び第2基板と;前記第1基板及び第2基板間に位置する液晶層と;前記第1基板及び第2基板間に位置して、前記液晶層を取り囲み、フリットガラス(frit glass)または、ガラスペースト(glass paste)で形成されたシールパターンを含む液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A liquid crystal layer 15 is held between an array substrate 14 and a counter substrate 16, an LED 18 is arranged on the lateral part of the array substrate 14, the array substrate 14 is formed of a translucent insulation substrate, and a modulation region which diffuses light from the LED 18 onto the surface and refracts the light to the liquid crystal layer 15 side is formed in the array substrate 14.例文帳に追加

アレイ基板14と対向基板16によって液晶層15を挟持し、アレイ基板14の側部にLED18が配され、アレイ基板14より形成され、アレイ基板14内部にLED18からの光を面上に拡散させ、且つ、液晶層15側に屈折する変性領域を形成したものである。 - 特許庁

The touch panel includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other, and a first transparent conductive layer is formed on the surface of the first substrate opposed to the second substrate, and a second transparent conductive layer is formed on the surface of the second substrate opposed to the first substrate.例文帳に追加

本発明に係るタッチパネルは、対向設置される第一基板及び第二基板を備え、前記第二基板に対向する前記第一基板の表面には第一透明導電層が設置され、前記第一基板に対向する前記第二基板の表面には第二透明導電層が設置されている。 - 特許庁

例文

Further, the optical waveguide substrate is characterized by the fact that the optical waveguide substrate is composed of a silicone substrate and a quartz layer formed on the silicone substrate, and the front and back surfaces of the silicone substrate are mirror ground and the quartz layer is formed on the front and back surfaces of the mirror ground silicone substrate.例文帳に追加

またシリコン基板と該シリコン基板上に形成された石英膜からなる光導波路基板であって、前記シリコン基板の表面及び裏面が鏡面研磨されており、該鏡面研磨されているシリコン基板の表面及び裏面上に石英膜が形成されているものであることを特徴とする光導波路基板。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS