| 例文 |
substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39497件
First, a first organic semiconductor polymer layer 12 is formed on a substrate 10.例文帳に追加
初めに第一の有機半導体ポリマーの層12を基板10上に形成する。 - 特許庁
The adhesive sheet 2A has an adhesive sheet substrate 21 and an adhesive layer 22.例文帳に追加
粘着シート2Aは粘着シート基材21と粘着剤層22とを有している。 - 特許庁
A protective layer 5 is provided over the entire surfaces of the electrode 2 and the substrate 1.例文帳に追加
保護層5は、電極2上及び基板1の全表面上に設けられる。 - 特許庁
The conductive wire layer is arranged on the substrate, and includes a plurality of conductive wires 220.例文帳に追加
導電ワイヤ層は、基板上に配置され、複数の導電ワイヤ220を含む。 - 特許庁
Subsequently a photoresist layer 3 is formed on the substrate surface of the exposed side.例文帳に追加
次に、基板の露光光が照射される側の面にフォトレジスト層3を形成する。 - 特許庁
To form a high quality nitride semiconductor layer on a silicon substrate.例文帳に追加
シリコン基板の上に高品質な窒化物半導体の層が形成できるようにする。 - 特許庁
These electrodes are insulated from each other by an insulating layer 15 on the substrate 11.例文帳に追加
基板11上で、これらの電極の間は絶縁層15で絶縁されている。 - 特許庁
A first insulating layer of silicon oxide containing an additive is formed on the substrate unit.例文帳に追加
基板部上に、添加物を含む酸化シリコンの第1の絶縁層を形成する。 - 特許庁
There are formed a gate insulating film 3 and a metal layer 4 on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1上に、ゲート絶縁膜3および金属層4を形成する。 - 特許庁
The article has a layer having water repellency and oil repellency on the surface of a substrate.例文帳に追加
基材の表面に撥水性および撥油性を有する層を有する物品。 - 特許庁
The semiconductor element has the nitride semiconductor layer 8 on the Si substrate 1.例文帳に追加
Si基板1の上に窒化物半導体層8を備えた半導体素子である。 - 特許庁
An n-type epitaxial growth layer 2 is formed on an n^+-type silicon substrate 1.例文帳に追加
N^+型シリコン基板1上にN型エピタキシャル成長層2が形成されている。 - 特許庁
The layer 15 may be formed on the substrate 10 by a molecular beam epitaxy.例文帳に追加
この層15は、分子線エピタキシによって基板10上に形成されてもよい。 - 特許庁
The integrated circuit component is composed of a semiconductor chip and a multi-layer substrate provided with a recess portion.例文帳に追加
集積回路部品は半導体チップと、凹部が設けられた多層基板でなる。 - 特許庁
The optical information recording medium has at least a recording layer 2 on a substrate 1.例文帳に追加
光学情報記録媒体は、基板1上に少なくとも記録層2を有する。 - 特許庁
In here, the substrate 1 is chemically polished using the layer 4 as a stopper.例文帳に追加
ここでは、絶縁層4をストッパにして半導体基板1を化学的研磨する。 - 特許庁
This is the manufacturing method of the gas diffusible electrode having a process to form a ground layer 19 on a substrate 20, a process to form a gas diffusible electrode layer (catalyst layer) 10 on the ground layer 19, and a process to peel-off the gas diffusible electrode layer (catalyst layer) 10 from the substrate 20 by dissolving and removing the ground layer 19.例文帳に追加
基板20上に、下地層19を形成する工程と、下地層19上にガス拡散性電極層(触媒層)10を形成する工程と、下地層19を溶解除去することにより、基板20からガス拡散性電極(触媒層)10を剥離する工程とを有するガス拡散性電極体の製造方法。 - 特許庁
This is an electroluminescence element which comprises an electrically insulating substrate 4 made of mainly zirconia, an electrode layer 6 formed on the substrate 4, a dielectric layer 8 composed of ceramic sintered compact formed on the electrode layer 6, a luminous layer 12 formed on the dielectric layer 8, and a transparent electrode layer 16 formed on the luminous layer 12.例文帳に追加
ジルコニアを主成分とする電気絶縁性の基板4と、基板4上に形成された電極層6と、電極層6の上に形成されたセラミック焼結体で構成される誘電体層8と、誘電体層8の上に形成された発光体層12と、発光体層12の上に形成された透明電極層16とを有するエレクトロルミネセンス素子。 - 特許庁
After a buffer layer 11, a channel layer 12, a spacer layer 13, an electron supplying layer 14, and a contact layer 15 are sequentially grown on a substrate 10; the substrate 10 is taken out from the vapor growth apparatus, and a non-alloy contact layer 16 is additionally grown on the contact layer 15 with the other vapor growth apparatus to eliminate adverse effect of the memory effect.例文帳に追加
基板10上にバッファ層11、チャネル層12、スペーサ層13、電子供給層14、コンタクト層15を順次成長させた後、その基板10を気相成長装置から取り出し、他の気相成長装置でコンタクト層15上にノンアロイコンタクト層16を別途成長させてメモリー効果の影響を排除するようにしたものでる。 - 特許庁
A liquid-state functional material (a liquid-state character layer material 14B and a liquid-state magnetic layer material 16B) cured by giving an energy is discharged to the predetermined area on the first substrate layer 10 and cured, and then the functional layer (the character layer material 14 and the magnetic layer material 16) is formed on the first substrate layer 10.例文帳に追加
エネルギーを付与すると硬化する液体状の機能性材料(液体状の文字層材料14Bおよび液体状の磁性体層材料16B)を第1の基板層10上の所定の領域に対して吐出して硬化させて、機能層(文字層14および磁性体層16)を第1の基板層10上に形成する。 - 特許庁
This optical disk 400 includes a substrate 405 which has a microminiature relief having flat portions and track guides projecting from the surfaces of the flat portions, a reflection layer 401 which is placed on the substrate 405, a dielectric layer 402 which is placed on the reflection layer 401, a recording layer 403 which is placed on the dielectric layer 402 and a protective layer 404 which is placed on the recording layer 403.例文帳に追加
本発明の光ディスクは平らな部分及び平らな部分の表面から突き出したトラック案内を備えた超小型レリーフを有する基板と、基板上に置かれた反射層と、反射層上に置かれた誘電体層と、誘電体層上に置かれた記録層及び記録層上に置かれた保護層とを含む。 - 特許庁
In the optical recording medium, a recording layer is provided directly or through an undercoating layer onto a first substrate and, when necessary, a reflecting layer and a protective layer or a reflecting layer and a second substrate are provided onto the recording layer under the state that the recording layer includes at leas one kind of a compound among compounds represented by general formula (I) or by general formula (II).例文帳に追加
第1基板上に直接又は下引き層を介し記録層を設け、更にその上に必要に応じ反射層、保護層又は反射層、第2基板を設けてなる光記録媒体において、記録層中に下記一般式(I)又は一般式(II)で示される化合物を少なくとも1種含有してなることを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁
This method for copper metallization of integrated circuit comprises the steps of (A) providing a substrate 1, (B) forming a tantalum layer on the substrate 1, (C) forming a tantalum nitride layer 7 on the tantalum layer 5, (D) forming a titanium nitride layer 9 on the tantalum nitride layer 7, and (E) forming a copper layer 11 on the titanium nitride layer 9.例文帳に追加
本発明の方法は、(A)基板(1)を用意するステップと、(B)前記基板上にタンタル層(7)を形成するステップと、(C)前記タンタル層の上に窒化タンタル層(7)を形成するステップと、(D)前記窒化タンタル層の上に窒化チタン層(9)を形成するステップと、(E)前記窒化チタン層の上に銅層(11)を形成するステップと、からなることを特徴とする。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加
微細な配線層(例えば、信号配線層等)を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法(セミアディテイブ法、ブトラクティブ法)を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁
The optical sensor includes at least a first semiconductor layer 2 provided on a top surface of a semiconductor substrate 1, a third semiconductor layer 4 serving as a light absorbing layer provided on the first semiconductor layer 2, a second semiconductor layer 3 provided on the third semiconductor layer 4, and a protection layer 5 provided on a reverse surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
光センサは、半導体基板1の表面に設けられた少なくとも第1の半導体層2と、この第1の半導体層2上に設けられた光吸収層となる第3の半導体層4と、この第3の半導体層4上に設けられた第2の半導体層3と、半導体基板1の裏面に設けられた保護層5とから構成されている。 - 特許庁
The method comprises a step of forming a first metal layer 3 on a semiconductor substrate 1 having a diffused layer 2 on the surface, a step of heating it to form an alloy layer 4 on the interface of the semiconductor substrate and the first metal layer and a step of forming a second metal layer 5 on the first metal layer, after the alloy layer is formed.例文帳に追加
表面に拡散層2の形成された半導体基板1上に、第1のメタル層3を形成する工程と、これを加熱して前記半導体基板と前記第1のメタル層の界面に合金層4を形成する工程と、前記合金層を形成した後、前記第1のメタル層上に第2のメタル層5を形成する工程とを備える。 - 特許庁
The nitride semiconductor comprises a silicon substrate 20, a buffer layer 21 formed on the silicon substrate 20, an intermediate layer 23 containing voids 22 formed on the buffer layer 21, a planarizing layer 24 formed on the intermediate layer 23, and a nitride semiconductor layer 25 formed on the planarizing layer 24.例文帳に追加
シリコン基板20と、前記シリコン基板20上に形成されたバッファ層21と、前記バッファ層21上に形成され、ボイド(void)22を含有した中間層23と、前記中間層23上に形成された平坦化層24と、前記平坦化層24上に形成された窒化物半導体層25と、を含む窒化物半導体及びその製造方法である。 - 特許庁
This semiconductor light-emitting element (light-emitting diode element) comprises: a support substrate 1; a first junction layer 2a formed on the support substrate 1; a second junction layer 2b formed on the first junction layer 2a; a third junction layer 2c formed on the second junction layer 2b; and a semiconductor element layer 3 formed on the third junction layer 2c.例文帳に追加
この半導体発光素子(発光ダイオード素子)は、支持基板1と、支持基板1上に形成された第1接合層2aと、第1接合層2a上に形成された第2接合層2bと、第2接合層2b上に形成された第3接合層2cと、第3接合層2c上に形成された半導体素子層3とを備えている。 - 特許庁
This microlens substrate 1 has a microlens formation layer 6 formed on a transparent substrate 5, a resin layer 4 formed on the microlens formation layer 6, and a barrier layer 3 formed on the resin layer 4, while the microlens formation layer 6 is formed with a large number of microlenses 7 of a resin composing the microlens formation layer 6.例文帳に追加
マイクロレンズ基板1は、透明基板5上に設けられたマイクロレンズ形成層6と、かかるマイクロレンズ形成層4上に設けられた樹脂層4と、かかる樹脂層4上に形成されたバリア層3とを有しており、また、マイクロレンズ形成層6では、マイクロレンズ形成層6を構成する樹脂により多数のマイクロレンズ7が形成されている。 - 特許庁
The substrate-type hydrogen gas sensor 1 includes: a second electrode layer 4b formed on a substrate 10; a proton conductive layer 2 by a solid polymer electrolyte membrane stacked on the second electrode layer 4b; a catalyst layer 3 stacked on the proton conductive layer 2; and a first electrode layer 4a having permeability stacked on the catalyst layer 3.例文帳に追加
基板10上に形成された第二の電極層4bと、第二の電極層4bに積層された固体高分子電解質膜によるプロトン導電層2と、プロトン導電層2に積層された触媒層3と、触媒層3に積層された通気性を有する第一の電極層4aを備えて、基板型の水素ガスセンサ1を構成する。 - 特許庁
Using a phosphor layer transfer sheet 1 that includes a mold release base material 2, a phosphor layer 3 formed on the mold release base material 2, and an adhesive layer 4 formed on the phosphor layer 3, the phosphor layer 3 adheres to a substrate 10 through the adhesive layer 4 by transferring the phosphor layer 3 onto the substrate 10.例文帳に追加
離型基材2と、離型基材2の上に形成される蛍光体層3と、蛍光体層3の上に形成される接着剤層4とを備える蛍光体層転写シート1を用いて、蛍光体層3を基板10の上に転写することによって、蛍光体層3を接着剤層4を介して基板10の上に接着する。 - 特許庁
A color filter includes a substrate 10, a red colored layer, a green colored layer 41G and a blue colored layer provided on the substrate 10, a PS61 formed on the red colored layer and the green colored layer 41G, and a sub PS71 formed on the red colored layer and the green colored layer 41G.例文帳に追加
カラーフィルタは、基板10と、基板10上に設けられる赤色の着色層、緑色の着色層41G及び青色の着色層と、赤色の着色層及び緑色の着色層41G上に形成されるPS61と、赤色の着色層及び緑色の着色層41G上に形成されるサブPS71とを備える。 - 特許庁
The wavelength conversion element 1 comprises a support substrate, a ferroelectric layer 7 made of a ferroelectric material in which a wavelength conversion section is formed, a buffer layer 6 formed in the backside 7d of the ferroelectric layer 7, a spacer layer 5 layered on the buffer layer 6, and a resin adhesive layer 3 adhering the spacer layer 5 and the support substrate 2.例文帳に追加
波長変換素子1は、支持基体、強誘電性材料からなり、波長変換部が形成されている強誘電体層7、強誘電体層7の背面7d側に形成されているバッファ層6、ハッファ層6と積層されているスペーサ層5、スペーサ層5と支持基体2とを接着する樹脂接着剤層3を備えている。 - 特許庁
In the optical recording medium, a supplying layer is provided directly or through an undercoating layer onto a first substrate and, when necessary, a reflecting layer and a protective layer or a reflecting layer and a second substrate are provided onto the supplying layer under the state that the recording layer includes at least one kind of a compound among azo metal chelate compounds represented by general formula (1).例文帳に追加
第1基板上に直接又は下引き層を介し供給層を設け、さらにその上に必要に応じて反射層、保護又は反射層、第2基板を設けてなる光記録媒体であって、記録層中に一般式(1)で示されるアゾ金属キレート化合物を少なくとも1種含有してなることを特徴とする光記録媒体。 - 特許庁
This method of manufacturing a nitride semiconductor device includes the steps of forming a stripping layer including In on a substrate, forming a nitride semiconductor layer on the stripping layer, causing the decomposition of the stripping layer by increasing a temperature of the stripping layer, irradiating the stripping layer with a laser beam, and separating the nitride semiconductor layer from the substrate.例文帳に追加
窒化物系半導体素子の製造方法は、Inを含む剥離層を基板上に形成する工程と、剥離層上に窒化物系半導体層を形成する工程と、剥離層の温度上昇によって剥離層の分解を生じる工程と、レーザ光を剥離層に照射する工程と、基板から窒化物系半導体層を分離する工程とを含む。 - 特許庁
The potassium niobate deposit 100B includes: a substrate 16; an electrode layer 15 formed above the substrate 16; a potassium niobate layer 14 or a potassium niobate solid solution layer formed above the electrode layer 15; and a lead zirconate, titanate, niobate layer 13 formed above the potassium niobate layer 14 or the potassium niobate solid solution layer.例文帳に追加
本発明に係るニオブ酸カリウム堆積体100Bは、基板16と、基板16の上方に形成された電極層15と、電極層15の上方に形成された、ニオブ酸カリウム層14またはニオブ酸カリウム固溶体層と、ニオブ酸カリウム層14またはニオブ酸カリウム固溶体層の上方に形成された、ニオブ酸チタン酸ジルコン酸鉛層13と、を含む。 - 特許庁
The light enhancement element is composed of a substrate, a high reflection layer formed on the substrate, a dielectric layer formed on the high reflection layer, and an enhanced electromagnetic field formation layer including multiple metallic fine particles formed on the dielectric layer, in which the thickness of the dielectric layer is 50 nm and more.例文帳に追加
この光増強素子は、基板と、この基板上に形成された高反射層と、この高反射層上に形成された誘電体層と、この誘電体層上に形成された、多数の金属微粒子による増強電磁場形成層とよりなり、誘電体層の厚みが50nm以上とされている。 - 特許庁
The optical member is configured by forming a protective layer such as a magnesium fluoride layer or an aluminum oxide layer by vapor deposition or another method on a light transmissive substrate of a cubic structure such as a magnesium oxide substrate, disposing an adhesive layer on the protective layer, and fixing an element layer of a polarizing element or a viewing angle compensating element.例文帳に追加
光学部材の構成を、酸化マグネシウムなどの立方晶構造の光透過性の基板上に、フッ化マグネシウム層や酸化アルミニウム層などの保護層を蒸着などにより形成し、該保護層上に粘着層を設けて偏光素子や視野角補償素子の素子層を固定する構成とする。 - 特許庁
For the material of each of the substrate layer 102, the middle layer 103 and the magnetic layer 104, a material which has the relation of a substrate layer (110) surface interval d1>d2 of a middle layer (002) surface interval > d3 of a magnetic layer (002) surface interval among the surface intervals of the main crystal lattice surfaces of crystals is used.例文帳に追加
下地層102、中間層103および磁性層104の材料には、それぞれの結晶の主要な結晶格子面の面間隔の間に、下地層(110)面間隔d1>中間層(002)面間隔d2>磁性層(002)面間隔d3という関係を有する材料が用いられる。 - 特許庁
The laminated layer body is prepared by spin coating the substrate with the low-molecular weight PMMA thin layer, curing the layer, wetting the low-molecular weight PMMA layer with an MMA monomer, applying the PMMA preformed sheet for the wetted layer, bonding the preformed sheet on the wetted layer, and bonding the preformed sheet on the substrate.例文帳に追加
積層体は、基板上に低分子量PMMAの薄層をスピン塗布し、該層を硬化し、該低分子量PMMA層をMMAモノマーで湿潤させ、該湿潤した層にPMMAの予備成形シートを適用して、該予備成形シートを該湿潤した層に接着し、かつ該基板に接着することによって調製される。 - 特許庁
The liquid crystal display element includes a second layer laminated on the first layer, and having two substrates and a liquid crystal layer formed between the two substrates, wherein a part of a substrate facing to the first layer between the two substrates is stuck to a substrate of the first layer, to be thereby laminated on the first layer.例文帳に追加
また、液晶表示素子は、第一の層に積層された層であって、二つの基板と、二つの基板間に形成された液晶層とを有し、二つの基板のうち第一の層に対向する基板の一部が第一の層の基板と接着されることで、第一の層に積層された第二の層を有する。 - 特許庁
In a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer which exhibits a blue phase is sandwiched between a first substrate and a second substrate, a pixel electrode layer is electrically connected to a drain electrode layer of a transistor and a common electrode layer is electrically connected to a conductive layer formed by the same step as the drain electrode layer via an interlayer film.例文帳に追加
第1の基板と第2の基板とでブルー相を示す液晶層を挟持する液晶表示装置において、層間膜を介して画素電極層はトランジスタのドレイン電極層と、共通電極層はドレイン電極層と同工程で形成される導電層と電気的に接続する。 - 特許庁
In the laminated piezoelectric element in which the piezoelectric substrate layer and a conductive layer are alternately laminated for mutual bonding, the clearance between the piezoelectric substrate layer and the conductive layer is formed, and the region of the clearance should be 10% or smaller of the entire area of the conductive layer, when the surface of the conductive layer is seen in a plan view.例文帳に追加
圧電体層と導体層とを交互に積層し、相互に接着された積層型圧電素子であって、前記圧電体層と導体層との間に隙間が形成されてなり、前記導体層面を平面視したときに、その隙間の領域は、前記導体層の全面積の10%以下であることを特徴とする。 - 特許庁
The dispersion-type electroluminescence element comprises the transparent conductive layer, the light-emitting layer, a dielectric layer, and a backplane substrate, which are sequentially layered on a transparent substrate, wherein the transparent dielectric layer containing the electrically-conductive fine particles in the resin component is disposed between the transparent conductive layer and the light-emitting layer.例文帳に追加
透明基材の上に透明導電層、発光層、誘電体層及び背面電極を順次積層してなる分散型EL素子において、透明導電層と発光層の間に、樹脂成分中に導電性微粒子を含有する透明誘電体層を設けることを特徴とする分散型EL素子。 - 特許庁
In an oxide semiconductor light emitting element which is formed by laminating at least an n-type clad layer constituted of a ZnO semiconductor, an active layer, a p-type clad layer and a p-type contact layer one by one on a substrate, an In-doped n-type ZnO semiconductor layer is formed between the substrate and the n-type clad layer.例文帳に追加
基板上に少なくとも、ZnO系半導体で構成されたn型クラッド層、活性層、p型クラッド層、p型コンタクト層が順次積層されて成る酸化物半導体発光素子において、前記基板と前記n型クラッド層の間にInをドープしたn型ZnO系半導体層を形成する。 - 特許庁
To provide a laminate excellent in the adhesiveness of a substrate layer and the printing layer printed on the substrate layer and the adhesiveness of the printing layer and the resin compsn. layer applied to the printing layer by extrusion lamination without using an adhesive for dry lamination or an AC agent for extrusion lamination.例文帳に追加
ドライラミネート用接着剤や押出ラミネート用AC剤を用いることなしに、(I)基材層と、(I)基材層上に印刷された(II)印刷層との接着性、および(II)印刷層と、(II)印刷層上に押出ラミネートされた(III)樹脂組成物層との接着性に優れた積層体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The piezoelectric element of the present invention includes a substrate having a pair of opposed main surfaces, a lower electrode layer disposed on one main surface of the substrate, a piezoelectric layer disposed on the lower electrode layer, and an upper electrode layer disposed on the piezoelectric layer, the lower electrode layer being made of nickel acid lanthanum-based ceramics.例文帳に追加
本発明の圧電体素子は、一対の対向する主面を有する基板と、その基板の一方の主面上に配置した下部電極層と、その下部電極層上に配置した圧電体層と、その圧電体層上に配置した上部電極層とを有しており、下部電極層はニッケル酸ランタン系セラミックスからなる。 - 特許庁
The coating layer comprises an intermediate layer formed on the surface of the substrate and containing at least one layer comprising a material which absorbs components coming from the component to be fired and passing the surface layer, and adversely affecting the substrate and the surface layer formed on the surface of the intermediate layer and made of a material less reactive with the component to be fired.例文帳に追加
コーティング層は、基材の表面に形成され、被焼成体から表層を通過し、基材に悪影響を与える成分を吸収する材質を含む層を少なくとも1層以上含む中間層と、表層が中間層の表面に被焼成体との反応性の低い材質から形成される。 - 特許庁
In the laminate 10, the ink layer 14, and the transparent or translucent synthetic resin film layer 13 are adhered to the white substrate 11 via the transparent adhesive layer 12 in this order and the ink layer 14 is a layer formed by reverse printing on the surface of the white substrate 11 side of the synthetic resin film layer 13.例文帳に追加
積層体10は、インク層14と透明又は半透明の合成樹脂フィルム層13がこの順で透明接着剤層12を介して白色基体11に接着され、インク層14が合成樹脂フィルム層13の白色基体11側の面に反転印刷によって形成された層である。 - 特許庁
The transparent conductive antireflection film has a hard coating layer (2), transparent conductive layer (3) having particles comprising at least one kind of metal, and a transparent coating layer (4) formed as the outer layer of the transparent conductive layer on one face of a transparent substrate (1), and has an adhesive layer showing elastic recovery on another face of the substrate.例文帳に追加
透明基材(1)上の片面に、ハードコート層(2)と、少なくとも1種以上の金属からなる粒子を有する透明導電層(3)と、該透明導電層の外層に形成された透明被膜層(4)とを有し、他面に弾性回復性の粘着剤層を有する透明導電・反射防止フイルム。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|