「surface 2」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

By this method, the hexagonal ferrite magnetic powder having a specific surface area of ≤120 m^2/g is manufactured.例文帳に追加

比表面積が１２０ｍ^2／ｇ以下の六方晶フェライト磁性粉末を製造する。 - 特許庁

A mirror 10 is mounted to a cooling surface 2-1 of a thermoelectric cooling element (Peltier element) 2.例文帳に追加

熱電冷却素子（ペルチェ素子）２の冷却面２−１に鏡１０を取り付ける。 - 特許庁

The inorganic particulates have 80-300 m2/g BET specific surface area.例文帳に追加

該無機微粒子はＢＥＴ比表面積が８０ｍ^^2 ／ｇ〜３００ｍ^2 ／ｇの範囲にある。 - 特許庁

Moreover, in the steel sheet, the r-value in each direction of sheet surface satisfies the relation in inequality (r_60+r_120)/2+(r_30+r_330)/2≥(r_30+r_60).例文帳に追加

（ｒ_６０＋ｒ_１２０）／２＋（ｒ_３０＋ｒ_３３０）／２≧（ｒ_３０＋ｒ_６０） ・・・（１） - 特許庁

The panel includes a base body 2 and a decorating layer 3 laid on a surface of the base body 2.例文帳に追加

基体２と、基体２の表面に積層される化粧層３とで構成される。 - 特許庁

The amount of the cellulose nanofibers coated on the surface of the base paper is preferably 0.01 to 10 g/m^2.例文帳に追加

セルロースナノファイバーの原紙表面への塗布量は、０．０１〜１０ｇ／ｍ^2が好ましい。 - 特許庁

The positive electrode mixtures 2 are pressurized by a pressure from a surface of the positive electrode mixtures 2 as a whole.例文帳に追加

正極合剤２の表面から圧力をかけ、正極合剤２全体を加圧する。 - 特許庁

The microwave-absorbing substance has preferably ≤50 m^2/g surface ratio.例文帳に追加

マイクロ波吸収物質は、表面積比率が５０ｍ^2／ｇ以下であることが好ましい。 - 特許庁

An ultrathin wire 3 is bonded to the surface 2a on one side of the surfaces of a solder-plated film 2 formed on the whole electrode 1 and the film 2 is fused by irradiating the film 2 with a laser beam 4 from the side of the other surface of the film 2 to connect the wire 3 with the electrode 1.例文帳に追加

電極1に形成された半田メッキ膜2の一面2aに極細線3を接合させ、半田メッキ膜2の他面側からレーザ光4を照射することにより半田メッキ膜2を溶融して極細線3を電極1に対して接続する。 - 特許庁

A recessed part 4 extended from an end surface of a commutator segment 2 in an axial direction is formed on the outer circumferential surface of each commutator segment 2 and a cooled surface 4a is formed in the recessed part 4.例文帳に追加

整流子片２の外周面に整流子片２端面より軸方向に延びた凹部４を設け、凹部４に冷却表面４ａを設けた。 - 特許庁

For the blind sheet 4, a mirror finished surface is formed on one surface of a light transmissive film 2 to be a supporting body and an adhesive layer is formed on the other surface of the light transmissive film 2.例文帳に追加

ブラインドシート４は、支持体となる透光性フィルム２の一面に鏡面を形成し、透光性フィルム２の他面に粘着層を形成している。 - 特許庁

An L-shaped connecting body 6 forming a semicircular engaging recessed part 19 on an inside surface 23, is connected to the other surface 5 of a tool plate 4 connecting a tool 2 to one surface.例文帳に追加

ツール2を一面に接続するツールプレート4の他面5に、半円形の係合凹部19を内側面23に形成したＬ字型の連結体6を連結する。 - 特許庁

Further, the transparent layer 2 flattens the surface of the transparent laminated plate 1 by filling up the irregularity of the surface with the transparent layer 2 to enhance the surface flatness.例文帳に追加

また透明積層板１の表面の凹凸をこの透明層２で埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができる。 - 特許庁

A recess 2 is formed in one surface of a member 1 formed from a metal plate, and a projection is formed on the bottom surface or back surface of the recess 2.例文帳に追加

金属板をもって形成された素材１の片面に凹部２を形成すると共に、当該凹部２の底面又は裏面にプロジェクションを形成する。 - 特許庁

The rear surface 2a of resin layer 2 has a retreat surface 21 formed thereon which gradually retreats toward the front surface 2b and changes the thickness of resin layer 2.例文帳に追加

樹脂層２の裏面２ａには、表面２ｂに向かって徐々に後退し、樹脂層２の厚さを変化させる後退面２１が形成されている。 - 特許庁

This precipitated silicic acid has a BET surface area ≥135 m^2/g, a CTAB surface area ≥75 m^2/g, and a BET/CTAB surface area ratio ≥1.7.例文帳に追加

ＢＥＴ表面積≧１３５ｍ^２／ｇ、ＣＴＡＢ表面積≧７５ｍ^２／ｇであり、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ−表面積比が≧１．７である沈降ケイ酸。 - 特許庁

The optical medium 2 is additionally provided with an irradiation surface 3 for irradiating light, and a light-transmitting portion 4 for connecting the incident surface 2 with the irradiation surface 3.例文帳に追加

光学媒体２は、更に、光を出射する出射面３と、入射面２と出射面３とを接続する光伝送部４とを有する。 - 特許庁

The metal tubular body 3 has an inner circumferential surface separately opposed to the outer circumferential surface of the metal bulk body 2 and covers the outer circumferential surface of the metal bulk body 2.例文帳に追加

金属筒状体３は、金属バルク体２の外周面から離間して対向する内周面を有し、金属バルク体２の外周面を覆う。 - 特許庁

A doped polysilicon film 2 is stacked on the surface of a wafer 1, and the polysilicon film 2 stacked on the rear surface of the wafer 1 is removed and the surface thereof is washed.例文帳に追加

ウェハ１表面にドープドポリシリコン膜２を堆積し、ウェハ１の裏面に堆積されたポリシリコン膜２を除去し、ウェハ１表面を洗浄する。 - 特許庁

A semiconductor wafer 2 is arranged on a heater 1 by bringing the rear surface (an opposite surface of an element formation surface) of the semiconductor wafer 2 into contact with the heater 1.例文帳に追加

ヒータ１に半導体ウェハ２の裏面（素子形成面とは反対側の面）を接触させるようにして、半導体ウェハ２をヒータ１上に配置する。 - 特許庁

A polishing pad 1 is equipped with a polyurethane sheet 2 having a polished surface P and a polyurethane sheet 5 joined to an opposite surface side of the polished surface P of the polyurethane sheet 2.例文帳に追加

研磨パッド１は、研磨面Ｐを有するポリウレタンシート２と、ポリウレタンシート２の研磨面Ｐの反対面側に接合されたポリウレタンシート５とを備えている。 - 特許庁

When the step board 11 retreats, the step surface 12 is fixed near the wall surface 2 of the hoistway in such a manner as to face the wall surface 2 of the hoistway.例文帳に追加

踏板１１が退避しているときは、踏面１２が昇降路壁面２の近傍で昇降路壁面２に対向した状態で固定されている。 - 特許庁

A protruding piece 55 is provided in contact with the outer surface of the cartridge 60 to prevent the rapid ejection of the cartridge 60 from the holder 2 in the holder 2.例文帳に追加

ホルダ2内には、カートリッジ60の外面に接して、カートリッジ60のホルダ2からの急激な排出を防ぐ突片55が設けられている。 - 特許庁

The resistance value of the back surface of the transfer body 10 is set to at least ≥10^10 Ω/cm^2, desirably, ≥10^11 Ω/cm^2.例文帳に追加

中間転写体１０の裏面抵抗値は少なくとも１０^10Ω／ｃｍ^2以上、望ましくは１０^11Ω／ｃｍ^2以上とする。 - 特許庁

The specific surface area of the catalyst is preferably not less than 100 m^2/g, more preferably not less than 200 m^2/g.例文帳に追加

触媒の比表面積は１００ｍ^2／ｇ以上であることが好ましく、２００ｍ^2／ｇ以上であることが更に好ましい。 - 特許庁

This circuit pattern 21 can be extended inside the ceramic substrate 2 and the part of the pattern can be exposed to the other surface of the ceramic substrate 2.例文帳に追加

配線パターン21はセラミック基板2の内部に延設され且つ一部がセラミック基板2の他面側に露出されたものとすることができる。 - 特許庁

Shot peening for increasing surface hardness higher than that of part of the screw shaft 2 other than an end 14 is applied on the end 14 of the screw shaft 2.例文帳に追加

ねじ軸2のエンド部14に、エンド部14以外のねじ軸2の部分よりも表面硬さを上げるショットピーニング加工が施されている。 - 特許庁

A first bearing 9 having a rotary shaft 8 rotating round a shaft perpendicular to the surface of a base plate 2 is installed on the base plate 2.例文帳に追加

ベースプレート2の面に対して垂直な軸の周りに回転する回転軸8を有する第1の軸受9をベースプレート2上に設ける。 - 特許庁

Part of the body fluid is temporarily accumulated between the surface sheet 2 and the intermediate sheet 4, moves back and forth through the holes of the surface sheet 2 and accumulated between the wound part and the surface sheet 2.例文帳に追加

体液の一部が表面シート２と中間シート４との間に一時的に溜まり表面シート２の孔７を行き来して創傷部と表面シート２との間に溜まる。 - 特許庁

This ultraviolet absorbing film is constituted of a base film 2, a sticking layer 4 laminated on the second surface side of the base film 2 and a protecting layer 3 laminated so that a surface layer is formed on the first surface side of the base film 2.例文帳に追加

ベースフィルム２と、ベースフィルム２の裏面側に積層される粘着層４と、ベースフィルム２の表面側に表層を形成するよう積層される保護層３とを備える。 - 特許庁

The side 6 is formed so that the angle of the leading-end flat surface 2 to the side 6 touching the leading-end flat surface 2 is smaller than the angle of the side 3 to the leading-end flat surface 2.例文帳に追加

先端平面２と先端平面２に接する側面６とのなす角が先端平面２と側面３とのなす角に比べて小さくなるように、側面６は形成される。 - 特許庁

A second coupling member 20 comprises a receiving port for receiving the front end portion 21 of the first coupling member 18, an inner surface having a second locking surface 55, and an outer surface 52 including a second connection indicator 65.例文帳に追加

第2カップリング部材20は、第1カップリング部材18の前端部21を受入れる受口と、第2ロック表面55を有する内側表面と、第2結合インジケータ65を含む外側表面52とを備える。 - 特許庁

Therefore, the surface of the holder 5 and the surface of the blade main body 2 are formed on one surface, and the polyamide film 3 having the frictional electrification function is laminated on the surface of the blade main body 2 on one surface with the surface of the polyamide film 3 exposed.例文帳に追加

このため、ホルダー５の表面とブレード本体２の表面は面一に形成され、またブレード本体２の表面に摩擦帯電機能を有するポリアミドフィルム３の表面が露呈した状態で面一に積層されている。 - 特許庁

The 1st surface and the 2nd surface can be discriminated at a glance, even when the radius R of the 1st surface is approximated to the 2nd surface, by providing a mark (identification means) 3 on the concentric circle surrounding the perimeter of the 1st surface (1) or the 2nd surface (2) of the optical lens.例文帳に追加

光学レンズの第１面 （1）または第２面（2）にレンズ外径に沿った同心円上の印（識別手段）3を設けることにより、第１面のRが近似の場合でも、一目で第１面と第２面が判別できる。 - 特許庁

The surface of a substrate 2 is provided with a mask 2, and a liquid w containing fine particle polishing material is injected from a nozzle 5 to the surface of the substrate 2 to work a pattern.例文帳に追加

基板２の表面にマスク２を設け、該基板２の表面に微粒の研磨材を含む液体ｗをノズル５から噴射してパターンを加工する。 - 特許庁

The foreign matter peeling device 7 peels the foreign matter sticking on the inner wall surface of the snout 2 when cleaning the inside of the snout 2, to clean the inner wall surface of the snout 2.例文帳に追加

異物剥離装置７は、スナウト２内の清掃時に、スナウト２の内壁面に付着する異物を剥離し、スナウト２の内壁面を清浄にさせる。 - 特許庁

Non-reflected components enter the area 2 through the surface 2, but, the reflectance can be enhanced by increasing the incident angle on the surface 2.例文帳に追加

反射されない成分は面２を透過して領域２に入るが、面２に対する入射角を大きくすれば反射率を高くすることができる。 - 特許庁

One crosspiece 9-[2, L] among the many crosspieces has the first reflection surface 11-[2, L] and the second reflection surface 12-[2, L] formed obliquely thereto.例文帳に追加

多数の桟うちの１つの桟は（９−［２，Ｌ］）は、第１反射面（１１−［２，Ｌ］）と、それに対して斜めに形成される第２反射面（１２−［２，Ｌ］）とを有している。 - 特許庁

A semiconductor substrate consists of the bare chip 2, a surface-mount board 1 for mounting the bare chip 2, and the sealing material 3 for covering the bare chip 2 mounted on the surface-mount board 1.例文帳に追加

ベアチップ２と、該ベアチップ２が表面実装される実装基板１と、実装基板１上に実装されたベアチップ２を被覆する封止材３とからなる。 - 特許庁

When a downward load is applied to the outer surface of the lid 2, the inner surface of the lid 2 bears against the one end of the projection 1a, so that the lid 2 is prevented from being deformed by more than the prescribed amount.例文帳に追加

蓋の外面に下向きの荷重が加わると、蓋の内面が突起の一端面に当接するので、蓋の所定以上の変形が防止される。 - 特許庁

Thereafter, the thickness of the wafer 2 is reduced to a prescribed finished thickness by polishing the rear surface 30 of the wafer 2 while the surface 3 of the wafer 2 is supported by the supporting member 10.例文帳に追加

支持部材１０によってウェハ表面３を支持した状態でウェハ裏面３０を研磨して、ウェハ２の厚みを所定の仕上げ厚まで薄くする。 - 特許庁

Since polishing can be performed by making the angle of the polishing head 5 to the surface of the pad 2 same as that of the pad conditioner 4 to the surface of the pad 2, the working surface of the object 3 to be polished is in uniform pressure contact with the surface of the pad 2.例文帳に追加

研磨ヘッド５のパッド２表面に対する角度を、パッドコンディショナ４のパッド２表面に対する角度と同一して研磨することができるため、被研磨物の加工面がパッド表面に均一に圧接する。 - 特許庁

The shutter plates 23 of the cups 3 on both sides of the surface body 2 are connected to a cross bar 31 extended in the width direction of the surface body 2 crossing the center line of the surface body 2 on the outer side of the surface body 2 through a slide bar 24 provided on the shutter plate 23.例文帳に追加

面体２の両側におけるカップ３のシャッタープレート２３どうしは、シャッタープレート２３に設けられたスライドバー２４を介して、面体２の外側で面体２の中心線を横切って面体２の幅方向へ延びるクロスバー３１につながる。 - 特許庁

The outer circumferential surface of the top board part 3 of the plug 1 is formed into an incline surface 5 so that when the plug 1 is mounted on the opening 7 of the container 2, an annular step 8 is formed between the outer circumferential surface of the part 3 and the outer circumferential surface of the top surface of the flange 6 of the opening 7 of the container 2.例文帳に追加

そのゴム栓1を容器2の開口部7に取り付けたとき、天板部3の外周面と容器2の開口部7の開口フランジ6の上面外周部との間に円環状の段部8が形成されるように、ゴム栓1の天板部3の外周面を傾斜外周面5とする。 - 特許庁

The film forming apparatus is equipped with a cover member 100 which has a planar surface part 100a opposed to the surface of a substrate 2 and covers the surface of the substrate 2 while holding a definite interval (d) between the planar surface part 100a and the surface of the substrate 2 when a liquid material is discharged.例文帳に追加

基板２の表面に対向する平面部１００ａを有し、液体材料の吐出時に、平面部１００ａと基板２の表面との間に一定の間隔ｄを維持しつつ、基板２の表面を覆う覆設部材１００を備える。 - 特許庁