「vacuum batch」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a vacuum apparatus which sufficiently ensures gas evacuating capacity in a vacuum chamber by a refrigerating member and is adequately applicable to a short cycle batch type vacuum treating process.例文帳に追加

冷却部材による真空容器内のガス排気能力を充分に確保できると共に、短サイクルのバッチ式の真空処理プロセスに適切に対応可能な真空装置を提供する。 - 特許庁

To stabilize the amount of vapor deposition by improving reproducibility of the amount of the vapor deposition for each batch in a vacuum processing apparatus using a coaxial vacuum arc vapor deposition source.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。 - 特許庁

In addition, drying capacity is enhanced by producing high vacuum in the load lock unit 30 and performing heating in the batch processing unit.例文帳に追加

また、ロードロック装置３０で高真空にし、バッチ処理装置で加熱することで、乾燥能力も高める。 - 特許庁

To uniformly control the vacuum level, gas density, and temperature inside each semiconductor wafer to be treated in batch treatment at a time.例文帳に追加

１回のバッチ処理で処理される半導体ウェーハの各ウェーハ面内の真空度、ガス濃度及び温度をより均一に制御する。 - 特許庁

To provide a load lock and dry vacuum pump assembly for performing low pressure exhaustion of a load lock chamber at low cost without depending on batch processing.例文帳に追加

バッチ処理によらないで、ロードロック室内を低コストで低圧排気するロードロックとドライ真空ポンプの組立体の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing film carrier in which a resist pattern is stably formed using a batch type vacuum laminator for adhesion of dry film and a batch type vacuum ashing device for the ashing process and plating failure and adhesion failure in the mounting process are never generated.例文帳に追加

ドライフィルムの貼り合わせにバッチ式の真空ラミネータ装置、アッシングにバッチ式の真空アッシング装置を用いて、レジストのパターンを安定して形成し、まためっき不良や実装時の密着不良を発生させないフィルムキャリアの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The instrument is equipped with a vacuum station receiving the carrier so as to load fluid samples to be tested in a batch to the test devices.例文帳に追加

器具は、試験装置に試験される流体試料を一括して装填するように担体を受け取る真空ステーションを備えている。 - 特許庁

To provide a batch vacuum conveyor capable of pneumatic transportation without using a device for fluidizing powder poor in fluidity.例文帳に追加

流動性に乏しい粉体を流動化装置を用いることなく空気輸送することの可能なバッチ式バキュームコンベアを提供する。 - 特許庁

In the vacuum deposition method where an alloy film composed of at least two kinds of metals is deposited, a vapor deposition source is provided by an amount larger than that consumed in one batch.例文帳に追加

少なくとも２種類の金属からなる合金膜を成膜する真空蒸着法であって、蒸着源は、１バッチで消費する量より大きな量を備える。 - 特許庁

To provide a small vacuum carburizing furnace capable of dispensing with large-scale disassembling work of a device in maintenance including replacement of a heat insulating material in a heating chamber, and replacement of an O-ring for a vacuum seal of an intermediate door and other mechanical components, with respect to a batch type small vacuum carburizing furnace in which the quantity of carburizing processing is comparatively small.例文帳に追加

比較的浸炭処理量が少量のバッチ型小形真空浸炭炉において、加熱室内の断熱材交換および中間扉の真空シール用Ｏリング、その他機械部品の交換を含むメンテナンス時において、装置の大きな分解作業を不要とした小形真空浸炭炉を提供。 - 特許庁

After vacuum-arranging conductive balls B on the arranging plate 20, the conductive balls B are mounted in batch to the electrode which is a mounting object to which balls B are to be installed.例文帳に追加

導電性ボールＢを配列板２０に吸引配列した後、そのボールＢを搭載すべき搭載対象物の電極に対して導電性ボールＢを一括で搭載する。 - 特許庁

To provide batch type vacuum treatment equipment by which surface treatment for removing a natural oxide film of a wafer or the like can be effectively performed by remote plasma treatment, wafer yield can be improved and the load of equipment can be reduced.例文帳に追加

遠隔プラズマ処理プロセス処理を用い、ウェハの自然酸化膜除去などの表面処理を効率的に行うことができ、ウェハの歩留り悪化や装置負担を軽減し得るバッチ式真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a batch evacuation processing method for a glass panel with a chip tube that prevents breakage of the chip tube and leakage develop ment of vacuum pumping system by eliminating creep of outer air into the furnace or efflux of furnace atmosphere out of the furnace.例文帳に追加

炉内への外気の侵入あるいは炉外への炉気の流出をなくしてチップ管部の破損や真空排気装置のリーク発生を防止するチップ管付ガラスパネルのバッチ式排気処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a batch type vacuum processing apparatus capable of efficiently performing surface processing such as removal of a natural oxide film of a wafer by using remote plasma processing process and capable of reducing deterioration in wafer yield, device loads and so on.例文帳に追加

遠隔プラズマ処理プロセス処理を用い、ウェハの自然酸化膜除去などの表面処理を効率的に行うことができ、ウェハの歩留り悪化や装置負担を軽減し得るバッチ式真空処理装置を提供する。 - 特許庁

An aramid-epoxy sheet 1 is put and heated in a batch dryer (a vacuum-dryer is also acceptable) at 70°C for 30 minutes with its moisture removed and internal stress relaxed before PET sheets 2a and 2b are bonded on its both side.例文帳に追加

アラミド−エポキシシート１の両面にＰＥＴシート２ａ，２ｂを貼り付ける前に、バッチ式乾燥機（真空乾燥機でもよい）で７０℃３０分間投入して加熱して水分除去と内部応力緩和を行う。 - 特許庁

In the substrate processing system where a load lock unit 30 and a process unit 50 are coupled around a vacuum conveyor 40, a batch processing unit 60 for processing a plurality of substrates simultaneously is attached to or built in the load lock unit 30.例文帳に追加

真空搬送装置４０を中心にロードロック装置３０とプロセス装置５０とが連結された基板処理装置において、複数枚同時に基板処理を行うバッチ処理装置６０をロードロック装置３０に付設するか組み込む。 - 特許庁

Out of a pair of chambers of the batch type vacuum processing apparatus 11 provided with the pair of chambers vertically constituted so as to be connected in the vertical direction, the upper chamber is used as a heat chamber 13 and the lower chamber is used as a process chamber 12.例文帳に追加

上下方向に連通可能となるように縦型に構成される一対のチャンバを備えるバッチ式真空処理装置１１の一対のチャンバのうち、上側チャンバを加熱チャンバ１３として用い、下側チャンバをプロセスチャンバ１２として用いる。 - 特許庁

In a pair of chambers of the batch type vacuum treatment equipment 11, which comprises a pair of chambers that are vertically constituted so as to communicate with each other in an up and down direction, an upper chamber is used as a heating chamber 13 and a lower chamber is used as a treatment chamber 12.例文帳に追加

上下方向に連通可能となるように縦型に構成される一対のチャンバを備えるバッチ式真空処理装置１１の一対のチャンバのうち、上側チャンバを加熱チャンバ１３として用い、下側チャンバをプロセスチャンバ１２として用いる。 - 特許庁

To provide a technique for preventing gas from flowing backward to a reaction vessel when the inside of the reaction vessel is released to the atmosphere, while gas for dilution for preventing the adhesion of a reaction product is flowing to an exhaust path at the downstream side of a vacuum pump in a batch type film-forming device.例文帳に追加

バッチ式の成膜装置において、真空ポンプの下流側における排気路に反応生成物の付着防止用の希釈用のガスを流している状態で反応容器内を大気開放したときに、そのガスが反応容器に逆流することを防止できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a MOS type semiconductor integrated circuit device which integrates a MISFET element, a flash memory element, a capacitance element such as a polysilicon capacitor which use silicon nitride films formed in a hot wall type batch vacuum CVD furnace which prevents the generation of a foreign substance caused by the deformation and minute movement of a wafer.例文帳に追加

ウエハが変形し微妙な移動によって異物が発生を防止したホット・ウォール型のバッチ式減圧ＣＶＤ炉で成膜される窒化シリコン膜を使用したＭＩＳＦＥＴ素子、フラッシュ・メモリ素子、およびポリシリコン・キャパシタ等の容量素子等を集積したＭＯＳ型半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a master disk for transfer, easy to manufacture and capable of recording servo information etc. through a batch transfer at low cost, by facilitating a peeling process between both disks even after the magnetic transfer is performed with pressure adhesion or vacuum adhesion between the master disk and a slave disk to be transferred to enhance transferability.例文帳に追加

作製が容易な転写用マスターディスクの製造方法と、このマスターディスクと被転写用スレーブディスクとを転写性を高めるために押圧ないし減圧密着させて磁気転写をした後でも、両ディスクの剥離工程を容易にし、低コストでサーボ情報等を一括転写により記録することのできるマスターディスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The molding for a photographic sensitive material is characterized by degassing at a vacuum of ≤2,660 Pa (20 mmHg), preferably ≤1,330 Pa (10 mmHg) from a venthole in the screw part of an extruder at the time of melt kneading and extrusion for regenerating a compound, a master batch or a resin with respect to a thermoplastic resin such as a high impact polystyrene resin.例文帳に追加

ハイインパクトポリスチレン樹脂等の熱可塑性樹脂において、コンパウンドやマスターバッチ、樹脂再生のための溶融混練押出し処理をする時、押出し機のスクリュー部に設けられたベント口から、真空度が２６６０Ｐａ（２０ｍｍＨｇ）以下、好ましくは１３３０Ｐａ（１０ｍｍＨｇ）以下の真空度で脱気することを特徴とする写真感光材料用成形体。 - 特許庁