その後、ｐＭＩＳ領域Ｒｐの第１応力膜Ｎ１ａにイオン注入３００を施すことで応力を緩和させる。例文帳に追加

Further, ion implantation in the first stress film N1a in the pMIS region Rp is carried out to reduce stress. - 特許庁

また熱応力緩和用スリット１６の深さは徐々に変化しているので頂部１６ｂでの応力集中も抑制される。例文帳に追加

Further, since the depth of thermal stress relaxation slit 16 is gradually changed, the stress concentration at the top 16b is also suppressed. - 特許庁

膜応力と摺面形成による応力とは、相互に逆の方向に湾曲させるため、相互に応力をキャンセルし合い、反射多層膜１２を平面化させる。例文帳に追加

Since the film stress and stress due to rubbing surface formation are curved in respective reverse directions, both the stresses are canceled and the reflective multilayer film 12 is flattened. - 特許庁

応力緩和スリットを有する機械的溶接構造物及びこの構造物を具備した液化ガス運搬船例文帳に追加

MECHANICALLY WELDED STRUCTURE HAVING STRESS RELAXATION SLIT AND LIQUEFIED GAS CARRYING VESSEL HAVING THE STRUCTURE - 特許庁

応力集中の影響を低減する前方スリーブ保持方法及び装置の提供例文帳に追加

To provide a forward sleeve retaining method and device reducing influence of stress concentration. - 特許庁

溶接された際、溶接残留応力により鋼製板を変形させるように形成されたスリットを設けた鋼製板を前記溶接残留応力によるプレストレスが前記被補強部材の引張応力を軽減させるように前記被補強部材に固定した後、前記スリットを溶接する。例文帳に追加

When welded, a steel plate provided with a slit formed to deform the steel plate due to welding residual stress is fixed to a member to be reinforced so that the prestress by the welding residual stress reduces the tensile stress of the member to be reinforced, and then the slit is welded. - 特許庁

スリット２を形成した時点で円周方向の残留応力が開放されると共に、サンプルを採取しようとして応力が付加されても、スリット２を挟む両側の切断面が自由界面となってその変形により応力を開放する。例文帳に追加

The residual stress in the circumferential direction is released when the slit 2 is formed, and even when a stress is added by sampling, the stress is released by deformation of the cut faces, because the cut faces at both sides, putting the slit 2 between them, becomes free interfaces. - 特許庁

接着後にはステンシルマスク１２に内部応力が発生するが、この内部応力はスリット２８、２８に集中するため、マスクパターン形成領域２３のメンブレン２６、２６…における内部応力は概ね４ＭＰａ以下、最大でも１０ＭＰａ以下に維持される。例文帳に追加

After adhesion, inner stress is generated in the stencil mask 12, however, the inner stress concentrates on the slits 28, which results in about ≤4 MPa inner stress, at most ≤10 MPa, in the membranes 26 in the mask pattern formation region. - 特許庁

そして、熱応力緩和プレート４の各弧状スリット５と熱応力緩和プレート４の外周縁との間がガス抜き用スリット16を介して開口される。例文帳に追加

an opening is formed between each arc-shaped slit 5 of the thermal stress relaxation plate 4 and a peripheral edge of the thermal stress relaxation plate 4 via a degassing slit 16. - 特許庁

応力絶縁膜(22、22a)におけるＮＭＩＳ領域上に位置する部分(22a)は、ＰＭＩＳ領域(4)上に位置する部分(22)に比べて、引張の内部応力を有している。例文帳に追加

A part (22a) positioned on the NMIS region in the stressed insulating films (22, 22a) includes the tensile internal stress compared with the other part (22) positioned on the PMIS region (4). - 特許庁

保護筒１０に発生する熱応力σと、Ａ＝（スリット長さＬ）／（スリット間隔Ｂ）との関係から、熱応力の発生を極力抑制できる前記Ａの値を選定する。例文帳に追加

From relation between thermal stress σ generated on the protective tube 10 and A = (slit length L)/(slit spacing B), the value of the A can suppressing generation of thermal stress as much as possible is selected. - 特許庁

また、前記スリットは、排気ガス流れと略平行な舌部横断方向全面に渡って形成され、その最深部で発生する熱応力が、舌部表面で発生する熱応力の１／２〜１／３の範囲となる深さとする。例文帳に追加

The slit is formed over the entire surface in a transverse direction of the tongue portion almost parallel to the exhaust gas flow and has a depth in which thermal stress occurring in the deepest portion ranges from 1/2 to 1/3 of thermal stress occurring in the surface of the tongue portion. - 特許庁

外部から加わった応力をフレーム４のスリット部48での変形により分散し、端子部25への応力の集中を防止して端子部25近傍での液晶セルの破損を防止できる。例文帳に追加

The breakage of the liquid crystal cell in the vicinity of the terminal part 25 can be prevented by dispersing a stress applied from the outer part through the deformation on a slit part 48 of the frame 4 and avoiding the concentration of the stress to the terminal part 25. - 特許庁

応力緩和層１３により摺動時の応力を緩和し、永久歪みを低減して透明導電薄膜１４の剥離を有効に防止することができる。例文帳に追加

In the film, the stress in sliding is mitigated and a permanent distortion is reduced by the stress mitigation layer 13, thereby preventing separation of the transparent conductive film 14 can be effectively. - 特許庁

求められた解から各要素の応力が計算され（S114）、要素中心点について、その変形履歴を示す履歴情報に基づいて応力修正量が計算される（S116）。例文帳に追加

Stress of each element is calculated from the acquired solution (S114), and amounts of corrected stress for the center point of the elements are calculated based on history information that indicates the transformation history (S116). - 特許庁

ミクロの傷のために端から進行する亀裂の形成８は、遅くともこのスリット６ａで止まり、ピーク応力が低減し、局所的に高まった応力がフォイル材料７の負荷のより少ないエレメントにそらす。例文帳に追加

Tearing 8 which progresses from the edge because of microscopic damage comes to a standstill at the slit 6a at the latest, peak stress is reduced, and the locally increased stresses are dissipated into elements of the foil material 7 which are under less stress. - 特許庁

基板半径中心部には、周方向に連続的または断続的に応力付与層が形成され、応力付与層の外周側にはスリットが設けられる。例文帳に追加

A stress applying layer is formed at the radial center part of the base continuously or intermittently in a circumferential direction, and slits are provided on the outer peripheral side of the stress applying layer. - 特許庁

応力分散形状部には、応力の伝達を遮断あるいは低減させるため、例えば、スリット形状や面取りが施された面取り形状、穴抜きがされた穴抜き形状などがある。例文帳に追加

The stress dispersion shape part includes, for example, a slit shape, a chamfered shape, a bored shape, etc., to cut off or reduce transmission of stress. - 特許庁

スリット９は、積層体２の変位時に積層体２に発生する応力を緩和させる応力緩和部であり、圧電不活性層３Ｑに形成されている。例文帳に追加

The slits 9 are stress relaxation portions for relaxing the stress occurring in the laminate 2 upon the displacement of the laminate 2 and are formed in the piezo-electric inactive layers 3Q. - 特許庁

また、より好ましいのは、当該材軸応力伝達部１に少なくとも一以上の弾性部材６を備え、材軸応力伝達部１の摺動を阻害するように構成されている。例文帳に追加

Preferably, the member axial stress transmitting portion 1 is provided with at least one or more elastic members 6 so as to inhibit the member axial stress transmitting portion 1 from sliding. - 特許庁

ＳＲＡＭアクセス領域ＳＡにおけるＮ型のＭＩＳトランジスタの上に、圧縮応力含有絶縁膜５０および引っ張り応力含有絶縁膜５１を形成する。例文帳に追加

A compressive stress-containing insulating film 50 and a tensile stress-containing insulating film 51 are formed on an n-type MIS transistor in an SRAM access region SA. - 特許庁

これにより、繊維状体３がスリーブ２から抜け出ることを抑止しつつ、張力を付与した際に生じる応力を繊維状体３の全体に分散させて、各抜止部４ａ，４ｂの応力集中を緩和する。例文帳に追加

Thus, while preventing the coming out of the fibrous material 3 from the sleeve 2, the stress formed by imparting the tension is dispersed to the whole of the fibrous material 3 so as to moderate stress concentration at each of the coming out-preventing parts 4a, 4b. - 特許庁

また、前記スリット部３２に、該スリット部３２の延びる方向を変更する屈曲部３８を形成して、反りや応力の発生を抑制する。例文帳に追加

A bent section 38, which changes the extending direction of the slit 32, is formed at the slit 32 to suppress the occurrence of deflection and stress. - 特許庁

応力を掛けずに刷版を版胴に取り付けることができるように、版胴に刷版を供給する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for supplying a printing plate to a plate cylinder so that the printing plate can be installed in the plate cylinder without applying stress. - 特許庁

スリット７４１の溝幅Ｗが拡大すると、スリット７４１の溝底に大きな応力が作用する。例文帳に追加

When the groove width W of the slit 741 is expanded, a large stress is applied to the groove bottom of the slit 741. - 特許庁

これにより、ＮＭＯＳ領域におけるシリコン窒化膜３０には紫外線が照射されて、当該シリコン窒化膜３０の引張応力が増加する。例文帳に追加

Thus, the silicon nitride film 30 in the NMOS region is irradiated with ultraviolet rays, and the tensile stress of the silicon nitride film 30 is increased. - 特許庁

その応力緩和プレート４は、その平面に中心部から同心円上に多数の弧状スリット５を形成する。例文帳に追加

The stress relaxation plate 4 includes many arc-shaped slits 5 concentrically from the center on its flat plane. - 特許庁

すると、各溝に沿って移動するポリ袋内の試料は、プレート２１とローラ２３，２５とが接する部分で剪断応力を受けて擦り潰される。例文帳に追加

The specimen in the bag moving along each groove receives shear stress at a part where the plate 21 comes in contact with the rollers 23, 25 to be ground down. - 特許庁

接続電極２の周囲には、接続電極２を挟み込むように所定の間隔を置いて熱応力緩和のためスリット６が設けられている。例文帳に追加

Around the connection electrode 2, a slit 6 is formed for thermal stress relaxation with a predetermined interval so as to sandwich the connection electrode 2. - 特許庁

更に熱応力緩和用スリット１６はヘッドボルト孔１８，２０や冷却水通路２２，２４等とは連通することがない。例文帳に追加

Besides, the thermal stress relaxation slit 16 is not connected to head bolt holes 18, 20, cooling water paths 22, 24, etc. - 特許庁

ベーンとロータとの摺動部分に応力が集中することを防止できるベーンロータリーコンプレッサを提供する。例文帳に追加

To provide a vane rotary compressor, in which the concentration of stress on sliding parts of a vane and a rotor is prevented. - 特許庁

アンカ部６ｃに、応力遮断用の２本のスリット１２を単結晶シリコン層４全体が除去される深さで形成する。例文帳に追加

In the anchor portion 6c, two slits 12 for stress cutting having depth enough for removing the whole single-crystal silicon layer 4 are formed. - 特許庁

球面継手を構成するボールのスリットの溝底に生じる応力集中を低減することが可能な電動式ステアリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electric steering device that can reduce stress concentration generated at a groove bottom of a slit of a ball constituting a spherical joint. - 特許庁

スリットの奥端部外表面部分への応力集中を緩和して耐久性向上を図ることができる自在継手用ヨークを提供すること。例文帳に追加

To provide a yoke for a universal joint, relaxing stress concentration in an outer surface portion at the back end of a slit thereby having improved durability. - 特許庁

端面への応力集中を回避しつつ、大きな曲率で曲げることを可能とするガラスリボンを提供する。例文帳に追加

To provide a glass ribbon which enables it to be bent with a large curvature while avoiding stress concentration to the edge thereof. - 特許庁

この場合、基板（２５）と膜との間の熱膨張率差に起因する応力が基板（２５）の摺動によって分散される。例文帳に追加

In this case, stress caused by the difference between thermal expansion coefficients of the substrate (25) and the film is dispersed by sliding of the substrate (25). - 特許庁

スリーブ５５は、ころがり軸受の軸方向に応力を受ける環とアノード又は支持体の円筒形支承面との間に装着される。例文帳に追加

A sleeve 55 is installed between a ring receiving a stress in the axial direction of the rolling bearing and the cylindrical bearing face of the anode or support body. - 特許庁

さらに，応力緩和層４５は，２つのスリット４６１，４６２によって複数の個片部４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ，４５Ｄに分割される。例文帳に追加

Furthermore, the stress relaxing layer 45 is separated into a plurality of separated sections 45A, 45B, 45C, 45D by two slits 461 and 462. - 特許庁

また、接着層Ａが硬化する際も、接着層ＡはスリットＢで分断されているので、収縮量が少なく、残留応力を軽減できる。例文帳に追加

Furthermore, when the adhesive layer A is cured, the adhesive layer A is separated by the slit B, so that the quantity of shrinkage can be suppressed and residual stress be also reduced. - 特許庁

応力制御領域（５０）は、ガラスリボン（１５）において１５０ｍｍ以下の延伸横断方向空間温度分解能を有する。例文帳に追加

The stress control region (50) has ≤150 mm space temperature resolution capacity in the across-the-draw direction of the glass ribbon (15). - 特許庁

スリーブの圧入による取り付けにおいて、圧入による応力の影響によって光学機能（光学特性）が損われないようにする。例文帳に追加

To prevent an optical function (optical characteristics) from being impaired caused by the effect of a stress due to the force-fitting of a sleeve when mounting the sleeve. - 特許庁

リニアガイド１４に無理な応力が作用せず、可動子３の摺動抵抗を低減できるので、位置決め精度および耐久性を改善できる。例文帳に追加

Since excessive stress does not act on the linear guide 14, and the sliding resistance of the moving member 3 is reduced, and alignment precision and durability are improved. - 特許庁

ダウン・ドロー・ガラス製造法で形成されたガラスリボンにおける応力および形状を調節するための方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for controlling the stress in, and the shape of, a glass ribbon formed in a downdraw glass manufacturing process. - 特許庁

摺動部１２の上面１２ｂに、その４箇所に「応力均一化形状部」としての凹形状部１を形成する。例文帳に追加

Two concave shape parts 1, 1 are paired on both sides of an axis L2. - 特許庁