イオン入射角の英語

また、イオン源から試料イオンおよび試料液滴を含む霧滴試料をイオンミラーへ入射させる角度、およびイオンミラーに掛ける電圧を調整する機能を設ける。例文帳に追加

Further, a function is provided for adjusting angles at which the fog-drip sample including the sample ions and the sample droplet is incident on the ion mirror and a voltage impressed on the ion mirror. - 特許庁

一次イオンの試料表面への照射中に、試料電流値の変化に応じて、一次イオンの入射方向に対する試料ステージの角度を変更することにより、一次イオンの試料表面への入射角度を補正する。例文帳に追加

An incident angle onto a sample face of a primary ion is corrected by changing an angle of a sample stage with respect to an incident direction of the primary ion, in response to a change of a sample current value, during a period of irradiating the sample face with the primary ion. - 特許庁

遮蔽板３の開口３ａは、クラスターイオン源１から照射されるクラスターイオンが３０度以下の入射角でレンズ４に入射する領域にのみ開口する。例文帳に追加

The opening 3a of the shielding plate 3 is opened only at a region on which cluster ions emitted from a cluster ion source 1 are made incident to the lens 4 at an incidence angle of ≤30°. - 特許庁

イオントラップ９の散乱板１１は波板状となっているので、散乱板１１に入射するイオンの一部はその入射角が浅くなり、散乱板１１はスパッタされにくくなる。例文帳に追加

Since the scattering plate 11 in the ion trap 9 has a corrugated plate shape, the incident angle of a part of the ions made incident on the scattering plate 11 is made shallow, and the scattering plate 11 is made hard to be sputtered. - 特許庁

イオンビーム入射角方向に均一な指向性を持たせ、かつイオン注入ビ−ムの指向性を連続的に変化させることが可能なイオン注入装置を得る。例文帳に追加

To obtain an ion implanter having uniform directivity in an ion implantation beam incident angle direction, and capable of continuously varying the directivity of the ion implantation beam. - 特許庁

イオンビームのビーム軸に沿って所定の間隙を設けて配置された対の円筒状部材を用いて，入射角が小さな散乱イオンの通過率を向上させるよう散乱イオンを弁別する。例文帳に追加

The scattered ions are segregated to improve penetration of scattered ions with a small angle of incidence by using a pair of cylindrical members arranged in parallel with the beam axis of the ion beam with a predetermined interval. - 特許庁

また、その製造方法は、イオン蒸着装置において、イオン源からダクトを介して成膜室に引き出されるイオン流の被処理基板への入射角時間制御蒸着、エネルギー時間制御蒸着を特徴とする。例文帳に追加

Its manufacturing method makes an incident angle time-controlled evaporation and an energy time-controlled evaporation to the object to process in an ion evaporation machine by using the ion flow drawn out from the ion source through the duct to a film forming chamber. - 特許庁

又、イオン衝突の緩和を図るため、特にイオンの集中しやすい箇所に対しイオンの入射角度を考慮した天板外周部構造の形状を変更する。例文帳に追加

Also, in order to relax the ion bombardment to the portion of ions concentrating especially easily, there is so altered the shape of the outer-periphery portion structure of the ceiling board as to consider the incident angles of ions. - 特許庁