配線パターン１１上を含む下地絶縁膜５上に平坦化された絶縁膜１９を形成する。例文帳に追加

A flattened insulating film 19 is formed on the underlayer insulating film 5 including the wiring pattern 11. - 特許庁

この結果、コンクリート表面の鏝押さえ下地と高精度平坦化の作業が同時に可能となる。例文帳に追加

Consequently, the trowel bedding and precise smoothening works can be simultaneously performed. - 特許庁

表面不完全性、並びに磨きおよび平坦化の間の下地となる構造へのダメージおよびトポグラフィー等の欠陥性を最小化する一方で、磨きおよび貴金属を含む基材の平坦化の間の望ましい平坦化効率、均一性、および除去速度を示す磨き系および磨き方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding system and a grinding method for minimizing surface imperfection, damages to a structure forming a base during grinding and flattening, and topography failures, and showing desirable flattening efficiency, uniformity, and removing speed during grinding and flattening the base including precious metal. - 特許庁

このようにグループ化された平坦な地表部分群が所定の条件を具備する場合、その地点が着陸候補地点として抽出される。例文帳に追加

This divided flat ground surface part group is provided with a prescribed condition, the point is extracted as a landing candidate point. - 特許庁

地盤のモデル化処理５は、建物や道路の近辺や平坦なオープンスペースに着目して地盤のモデル化を行う。例文帳に追加

In the ground modeling process 5, the ground is modeled by aiming at the vicinity of the building or the road and a flat open space. - 特許庁

強誘電体膜１０３形成後、絶縁膜１０４を成膜し、平坦化することにより、強誘電体膜１０３と絶縁膜１０４は同一平面を形成することができ、第二電極１０５の下地は、平坦な形状となる。例文帳に追加

The ferroelectric 103 and an insulation film 104 can form the same plane by forming and planarizing the insulation film 104 after forming the ferroelectric film 103, and the a base of the second electrode 105 becomes flat. - 特許庁

アモルファスや多結晶体などの下地の構造や凹凸にとらわれることなく高配向で平坦な界面を持つ平坦化トンネル磁気抵抗素子を提供する。例文帳に追加

To provide a flattened tunnel magnetoresistance element having high alignment and a flat interface without being influenced by the structure and irregularities of a ground such as an amorphous substance and a polycrystalline substance. - 特許庁

流動性接着剤２６を硬化させたら、素地ウエーハ１９の露呈した面を研削し、平坦化を行う。例文帳に追加

After the liquidity adhesive 26 is cured, the exposed face of the raw material wafer 19 is ground to be made flat. - 特許庁

接続配線１０上の平坦化膜１２を除去し、そこに端子下地層２０およびＣＯＧ端子層２２を形成する。例文帳に追加

A planarization membrane 12 on connection wiring 10 is removed, where a terminal ground layer 20 and a COG terminal layer 22 are formed. - 特許庁

コンクリートブロックマットの水中施工装置及びその方法並びにコンクリートブロックマットを用いた水中地面平坦化装置及びその方法例文帳に追加

UNDERWATER CONSTRUCTION DEVICE FOR CONCRETE BLOCK MAT, ITS METHOD, AND UNDERWATER GROUND FLATTENING DEVICE USING CONCRETE BLOCK MAT AND ITS METHOD - 特許庁

有機層の下地となる下部電極表面の平坦化を図りながら、下部電極に対して所望の厚さを得る膜厚制御を可能にする。例文帳に追加

To enable film thickness control for providing a desired thickness for a lower electrode while flattening a surface of the lower electrode used as a base of an organic layer. - 特許庁

基板上に積層された下地分離層の表面の平坦化精度の向上と、完成された半導体装置の歩留まりの向上とを図る。例文帳に追加

To improve flatness precision on the surface of a base separation layer laminated on a substrate, and to improve the yield of a completed semiconductor device. - 特許庁

半導体基板上の所定層に平坦化された下地のバリア用の絶縁膜１１が設けられている。例文帳に追加

An insulating film 11 for a barrier of a flattened substrate is provided on a predetermined layer on a semiconductor substrate. - 特許庁

平坦化トンネル磁気抵抗素子であって、ＭｇＯアモルファス層２とＭｇＯ（００１）高配向層３の二重層からなる下地層を有する。例文帳に追加

The flattened tunnel magnetoresistance element has a ground layer consisting of double layers of a MgO amorphous layer 2 and a MgO (001) high alignment layer 3. - 特許庁

Ｒ，Ｇ，Ｂ画素の上には、エッチングされていない平坦化膜３２を下地として、それぞれＲ，Ｇ，Ｂフィルタを積層する。例文帳に追加

R, G, B filters are laminated on the R, G, B picture elements using the unetched flattened film 32 as a foundation. - 特許庁

オンチップ構造のフィルタ膜やマイクロレンズを設ける場合に、その下地層を高精度に平坦化する。例文帳に追加

To planarize an underlying layer with high accuracy when providing a filter film or a microlens of on chip structure. - 特許庁

より簡易なプロセスでストリエーションの影響を低減しつつ凹部上の下地膜の膜厚を、平坦化を含め任意の膜厚に設定する。例文帳に追加

To set a film thickness of an underlying film on a recess to an optional thickness including planarization while reducing impact of striation with a simpler process. - 特許庁

柱状スペーサの下地領域を平坦化させると共に、透過率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display device in which a base region of a columnar spacer can be planarized and the transmittance ratio can be improved. - 特許庁

データ線６ａと凸パターン８１の下地となる第３層間絶縁膜は、平坦化されており、垂直方向の寸法が厳密に規定される。例文帳に追加

A third interlayer insulation film to be a groundwork of the data line 6a and the projecting pattern 81 is flattened and the dimension in the vertical direction is strictly regulated. - 特許庁

１．下地処理として、補強対象部分の表面に付いた付着物を除去しコンクリートを平坦化する。例文帳に追加

(1) Concrete is flattened by removing a sticking object sticking to a surface of a reinforcing object part as backing processing. - 特許庁

ガスバリア層の下地を平坦化させることによりガスバリア層への応力集中を緩和させるようにする。例文帳に追加

Stress concentration on the gas barrier layer is alleviated by flattening a foundation of the gas barrier layer. - 特許庁

下地膜の凹凸を平坦化しやすく、かつ品質および信頼性の高いダイオードおよびこれを備えた半導体素子を提供する。例文帳に追加

To provide a diode which is easy to planarize irregularities of a base film and high in quality and reliability, and also to provide a semiconductor element having the same. - 特許庁

ディスクは、基板と、基板上のＮｉＴａ合金平坦化層と、平坦化層上の非磁性Ｒｕ含有下地層と、酸化物が無いＣｏ合金磁気記録層と、Ｒｕ含有層とＣｏ合金磁気記録層との間の極薄酸化膜とを含む。例文帳に追加

The disk includes a substrate, a NiTa alloy planarizing layer on the substrate, a nonmagnetic Ru-containing underlayer on the planarizing layer, an oxide-free Co alloy magnetic recording layer, and an ultrathin oxide film between the Ru-containing layer and the Co-alloy magnetic recording layer. - 特許庁

アクティブマトリックス型の反射透過併用型の液晶表示装置１００ａにおいて、透明電極６ｂの下方に透過窓を有し、信号線５を覆う平坦化絶縁膜１０１が、透明電極６ｂの下地部分において信号線５を埋め込む状態で表面平坦に形成されている。例文帳に追加

In the active matrix transflective liquid crystal display device 100a, a transmission window is provided on the lower side of a transparent electrode 6b, and a flattening insulating film 101 covering a signal line 5 is formed so as to produce a flat surface and to bury the signal line 5, at the base part of the transparent electrode 6b. - 特許庁

層間絶縁膜の平坦化に際し、下地パターンの粗密に依存せず、グローバル段差の発生が抑制され、層間絶縁膜表面の高い平坦性が得られるように改良された半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is improved such that, in planarizing an interlayer insulating film, occurrence of global steps is restricted without depending on the density of an underlying pattern, and high planarization characteristic of the surface of the interlayer insulating film is obtained. - 特許庁

さらに前記下地層１はアモルファス構造であるため、前記下地層１がその上に形成される各層に対する結晶配向性に悪影響を及ぼすことなく、しかも前記下地層の表面は平坦化性にも優れる。例文帳に追加

Further, since the base layer 1 has an amorphous structure, the base layer 1 does not influence the crystal orientation for each layer to be formed thereon, and the surface of the base layer is excellent in planarity. - 特許庁

探索処理部１０は、この距離情報ｄijにおいて、互いに隣接した地表部分で、かつ、平坦な地表と見なせるほどに距離が近接した地表部分をグループ化する。例文帳に追加

A search processing part 10 divides ground surface parts which are mutually adjacent and close in distance to be regarded as flat ground surfaces in the distance information dij. - 特許庁

本発明は、裏面照射型の固体撮像装置であって、光電変換部と画素トランジスタからなる複数の画素が配列された画素領域と、画素領域の光学的黒レベル領域２３Ｂに対応した遮光膜３９と、遮光膜３９の下地となる第１平坦化膜５２と、第１平坦化膜５２の下地となる反射防止膜３６とを有する。例文帳に追加

A back-illuminated solid-state imaging device includes: a pixel region where a plurality of pixels comprising a photoelectric conversion part and a pixel transistor are arrayed; a light-shielding film 39 corresponding to an optical black level region 23B in the pixel region; a first planarization film 52 serving as a substrate of the light-shielding film 39; and an antireflective film 36 serving as a substrate of the first planarization film 52. - 特許庁

半導体ウェーハの製造方法のうち、面取りしたウェーハを平坦化する工程すなわちラッピング工程に代えて、ウェーハの両面を研削して平坦化する研削工程を行い、さらにこの研削工程後にウェーハの裏面に不均一な傷を入れて梨地にする梨地加工工程（例えば、サンドブラスト）を行う。例文帳に追加

A method for manufacturing a semiconductor wafer includes a step of carrying out a grinding process for grinding and flattening the both faces of the wafer instead of a process for flattening a beveled wafer, that is, a lapping process, and carrying out a dry etching process (for example, sandblast) for putting uniform scratches on the back face of the wafer after the grinding process. - 特許庁

本発明は、電力負荷率を平坦化する方法において、電力需要地あるいはその近郊地に、回転式電池電力貯蔵装置を設置し、電力需要の少ない深夜時に、これに電力を供給してエネルギ−を貯蔵し、貯蔵されているエネルギーを必要時に取り出して電力として利用することを特徴とした電力負荷率を平坦化する方法を提供することにより、この課題を解決する。例文帳に追加

In the method of flattening a power load factor, a rotating battery power storage device is installed at a power demand place or its neighborhood, power is supplied to the power storage device and energy is stored at midnight in which power demand is small and the stored energy is used as necessary as power. - 特許庁

基板２上の下地パターン１を被覆するよう形成され且つ下地パターン１に対応した凸部３ａを有する層間膜３を、予め算出された研磨開始から終了までの時間ｔの間研磨して平坦化する。例文帳に追加

An interlayer film 3, which is formed for covering a base pattern 1 on a substrate 2 and has a protrusion 3a corresponding to the base pattern 1 is planarized, by polishing for a previously calculated time t from the start of polishing, until the completion. - 特許庁

コンクリート建造物の内装壁，または天井材において、コンクリート下地面の凹凸を建築用下地材で修正し，内装材の平坦化を簡単かつ高精度のに行う事を目的とする。例文帳に追加

To provide a building ground material capable of correcting unevennesses of a ground surface of concrete by the building ground material and simply carrying out flatness of an interior facing with high degree of accuracy for an interior wall or a ceiling material of a concrete structure. - 特許庁

この下地絶縁膜１２の上に、下地絶縁膜の上面に垂直な方向が（１１１）方向となるように自己配向したＰｔ膜を形成しこれを平坦化して第１導電膜１４ａを形成する。例文帳に追加

A Pt film which is self-oriented such that a direction perpendicular to the top face of the base insulation film may be a (111) direction is formed on the base insulation film 12 and is flattened to form a first conductive film 14a. - 特許庁

高温染色時や、日光照射、繰り返し洗濯等によるぜい化の問題が少なく、高ストレッチ性と共に、パワーのある伸長回復性に優れ、且つ編地面は薄く、平坦性をも兼ね添えた緯編地を提供する。例文帳に追加

To provide a weft knitted fabric scarcely having troubles of embrittlement due to high temperature dying, sunlight emission, repeated washings, or the like, having high stretching property and also powerful stretch recovery, thin in knitted cloth thickness and having flatness. - 特許庁

基板上に堆積される下地微粒子を固定剤で固定化することで、下地微粒子層に柔軟性を与え微粒子層の乾燥時に発生する亀裂を防止することができ、略平坦な面を基板に形成することができる。例文帳に追加

Cracks which occur when a particle layer is dried can be prevented from occurring by imparting flexibility to an underlayer particle layer by fixing underlayer particles which are accumulated on a base plate by a fixing agent, and a flat surface can be formed on the base plate. - 特許庁

発光層の下地として良好な平坦性を有する窒化ガリウム系半導体層を提供可能な構造を有する窒化物系半導体発光素子を提供する。例文帳に追加

To provide a nitride-based semiconductor light-emitting element having a structure that can provide a flat gallium-nitride-based semiconductor layer preferable as a substrate for a light-emitting layer. - 特許庁

下地材が平坦でなく段差状になっていたり、あるいは、欠損している場合でも、確実に固定できる化粧材取付具および化粧材取付構造を提供する。例文帳に追加

To provide a facing material fixture which can positively fix a facing material even if a substrate is not flat due to steps, or includes chipped portions, and to provide a facing material mounting structure. - 特許庁

エッチング時の自然酸化膜の部分的残存によるエッチング残渣の発生や部分的な過大エッチングによる下地層 (例、ゲート酸化膜２) の突抜けを防いで、平坦なエッチングを達成する。例文帳に追加

To perform flat etching by preventing passing of a substrate layer (e.g. a gate oxide film 2) by generating an etching residue due to partial residue of a nature oxide film when etched or partially excess etching. - 特許庁

フラッシュメモリーにおけるフローティングゲート形成工程などに適用可能な、ポリシリコン膜の凸部を研磨して平坦化し、下地を露出する前に研磨を停止するＣＭＰ工程に適した、研磨用組成物を提供するものであり、これにより、優れた平坦性と残膜厚制御性が得られるため、半導体素子の歩留まり、信頼性の向上が可能となる。例文帳に追加

To provide compositions for abrasion which is applicable to the process of forming a floating gate in a flash memory, and suitable for a CMP process in which a protrusion on a polysilicon film is flattened and polishing is stopped before exposing a ground. - 特許庁

金属化プレートを備えるマイクロ波オーブン中で、付合せを乗せた平坦な生地を加熱するための支持材として使用するためのサセプタを提供すること。例文帳に追加

To provide a susceptor to be used as a support for heating a flat dough having a garnish put thereon in a microwave oven equipped with a metal ized plate. - 特許庁

電子回路が、シリコン・ウェハ上に形成され、次に平坦化層と接地面層が付着され、その後回路上に形成されるミリアクチュエータから分離される。例文帳に追加

The electronic circuit is formed on a silicon wafer, then a flat layer and a ground surface layer are stuck to, and which then are separated from the milli-actuator formed on the circuit. - 特許庁

通常印刷層１０３を平坦化層として機能させることで、布地１０２表面の凹凸が緩和され、識別印刷層１０４の光学特性を効果的に発現させることができる。例文帳に追加

By making the ordinary printing layer 103 function as a planarization layer, the ruggedness on the surface of the cloth 102 is relieved and the optical characteristics of the discrimination printing layer 104 can be effectively developed. - 特許庁

また、平坦化層等の透明層は形成せず、マイクロレンズ形成時に下地アライメントマーク検出の誤差を低減して、更なる画質の向上を図る。例文帳に追加

A transparent layer such as flattering layer is not formed, and detection error of the base alignment mark is reduced in forming a microlens in order to further improve the image quality. - 特許庁

材料の運搬および組立が容易で、全体の重量が抑えられ、屋上等の平坦な人工地盤の上に本格的な菜園や花壇を造るのに適した屋上緑化プランターを提供する。例文帳に追加

To provide a rooftop greening planter materials for which can be easily transported and assembled, the overall weight of which is reduced, and which is suitable for making a full-scale vegetable garden or flower bed on a flat artificial ground such as a rooftop. - 特許庁