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粒子間応力の英語
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英訳・英語 grain space stress
「粒子間応力」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
吸着フィン(20)が熱変形した際には、ゼオライト粒子(28)の変位が第1粒子層(21)の隙間によって吸収され、ゼオライト粒子(28)に作用する応力が緩和される。例文帳に追加
When the fin (20) is thermally deformed, the displacement of the zeolite particles (28) is absorbed by the gaps in the first particle layer (21) to relax stress acting on the zeolite particles (28). - 特許庁
また、鉛直板20の間の土粒子を拘束するため、側方へ変位する土粒子からも水平応力を受けることができ、単に杭径を大きくする場合よりも、土粒子から受ける水平方向の有効応力を大きくすることができる。例文帳に追加
Because the soil particle between the vertical plates 20 is constrained, horizontal stress can be also received from the soil particle displaced to the side, and the horizontal effective stress received from the soil particle can be enlarged in the comparison with the case when a pile diameter is only enlarged. - 特許庁
ウィスカの主発生原因となるスズ系めっき粒子間へ成長する金属間化合物によるめっき粒子の圧迫、すなわち圧縮応力を吸収することができるめっき皮膜を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a plating film capable of absorbing pressure, i.e., compressive stress on tin based plating particles by intermetallic compounds growing into the spaces of the plating particles as the main cause of generating whiskers. - 特許庁
一方、粒子追跡法解析によって、仮想粒子を前記混練と同一条件下で前記混練機で混練したときの剪断応力の時間積分値の平均値(τ_av)を求める。例文帳に追加
Meanwhile, an average τ_av of temporal integration of shear stress when virtual particles are kneaded in the same kneader under the same conditions as the above kneading is obtained by particle trajectory tracking analysis. - 特許庁
BET比表面積換算径が20〜300nmである無機粒子が、重量平均分子量3×10^4以下である熱可塑性樹脂内に、無機粒子の粒子間凝集力相当以上の剪断応力で解砕されて微分散していることを特徴としている。例文帳に追加
The thermoplastic resin composition comprises inorganic particles having 20-300nm diameters calculated in terms of BET specific surface area finely dispersed in a thermoplastic resin having ≤3×10^4 weight-average molecular weight ground under shear stress equal to or higher than interparticle cohesive force of the inorganic particles. - 特許庁
薄膜シリコン層の品質に優れたSOI基板を用いながら、中間シリコン酸化膜の応力による変形を取り除いた荷電粒子線露光用マスクブランクスと、その荷電粒子線露光用マスクブランクスおよびマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide mask blanks for a charged-particle beam exposure by which a deformation by the stress of an intermediate silicon oxide film is removed using an SOI substrate having excellent quality and composed of a thin-film silicon layer, and the mask blanks for the charged-particle beam exposure and a mask. - 特許庁
メッシュ部材67により、ノズル(配管65aを含む概念のノズル)により与える剪断応力よりも大きい剪断応力をノズル65と基板64の間でゾルに与え、ゾルに生じた二次粒子を基板64の直前で破壊した状態でゾルを基板64に塗布する。例文帳に追加
By a mesh member 67, shear stress larger than that applied by a nozzle (having a concept of including piping 65a) is applied to sol between the nozzle 65 and the substrate 64, and the sol is applied on the substrate 64 in a state where secondary particles produced in the sol are broken right before the substrate 64. - 特許庁
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「粒子間応力」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
応力が加わった場合にも粒子とマトリックスの間で剥離が生じたりボイドが発生することがなく、耐擦傷性、膜強度、基材との密着性が高く、スクラッチ強度に優れた透明被膜付基材を提供する。例文帳に追加
To provide a base material with transparent film, which is high in scratch resistance, film strength and adhesion to the base material, and has excellent scratch strength without causing peeling between a particle and a matrix or void even when stressed. - 特許庁
応力の時間変化率に依存して発光する結晶性超微粒子の粒径を5nm以上100nm以下とし、その他の材料、例えば樹脂などと複合化する。例文帳に追加
The particle diameter of the crystalline ultrafine particle, which illuminates depending on the changing rate of stress with time, is adjusted to at least 5 nm and not more than 100 nm and the particle is compounded with other materials, e.g. a resin. - 特許庁
応力が加わった場合にも粒子とマトリックスの間で剥離が生じたりボイドが発生することがなく、このため耐擦傷性、膜強度、基材との密着性等の向上に好適な透明被膜付基材に関する。例文帳に追加
To provide a base material with a transparent film which is suitable for the improvement of scratch resistance, film strength, adhesion to the base material and the like without causing the occurrence of peeling or a void between particles and a matrix even if stress is added. - 特許庁
長期間静置しても電気レオロジー粒子(ER粒子)が沈降・凝集せず、安定したER効果を示し、電圧印加を止めると短い時間で元の状態に戻り、電界による剪断応力の良好なコントロール性と液状電気絶縁性媒体の滲出がなく良好な保存安定性が維持されるERゲルを提供する。例文帳に追加
To provide an ER gel, in which electric rheology particles (ER particles) are not precipitated/flocculated even when allowed to stand for a long period and stable ER effect is exhibited, returning to original state when application of voltage is stopped, having good controlling property of shear stress by electric field, free from leaching of a liquid electric insulation medium and keeping good storage stability. - 特許庁
リチウム二次電池用負極活物質としてケイ素を用いる際に、表面に凹凸を有する集電体上5に蒸着により傾斜した柱状粒子6を形成することで空間を確保することができるが、部分的に空間の小さな領域が生じ、膨張応力緩和が不十分となる。例文帳に追加
To solve a problem that, although gaps can be secured by forming inclined columnar particles 6 by deposition on a collector 5 with rugged surfaces in using silicon as a negative electrode active material for a lithium secondary battery, there partially arise areas with small gaps resulting in insufficient expansion stress relaxation. - 特許庁
人工関節の寿命に有害な剪断応力を大きく減少させ、応力遮断現象を大幅に緩和し、骨とステムとの間に間隙が形成されるのを抑制することにより、摩耗粒子の浸透による骨の融解を最小限に押さえるセメント非使用の人工関節ステム用金属ジャケットを提供すること。例文帳に追加
To provide a metal jacket for an artificial joint stem using no cement, for largely reducing shearing stress harmful to the life of the artificial joint to relax a stress intercepting phenomenon to a large extent and suppressing the formation of a gap between a bone and a stem to minimize the fusion of the bone by the penetration of abrasive particles. - 特許庁
マトリックス成分との接着面積が高く、応力が加わった場合にも粒子とマトリックスの間で剥離が生じたりボイドが生成することがなく、このため耐擦傷性、膜強度、基材との密着性等に優れた透明被膜付基材提供する。例文帳に追加
To provide a base material with a transparent coated film which neither causes a separation between a particle and a matrix nor generates a void even when a stress is given since the contact area of the matrix component is high, and accordingly which shows excellence in friction resistance, film strength, adhesion with the base material and the like. - 特許庁
セラミックスの一次粒子2、2a…及びその凝集体3、3a…を、ホウ素又はリンを含有するガラス相4で融着結合することによって、モザイク状の微構造を形成し、かかるモザイク状の微構造で熱応力及び熱間荷重を緩衝する。例文帳に追加
In this porous body, ceramic primary particles 2, 2a,..., and their agglomerates 3, 3a,..., are subjected to fusion bonding to each other with a glass phase 4 containing boron or phosphorus, to form a mosaic microstructure, and any thermal stress and any hot load, which are applied to the porous body, are buffered by such a mosaic microstructure. - 特許庁
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grain space stress
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