min or aとは 意味・読み方・使い方

Then, the gallium nitride layer formed on the substrate is heated at a temperature of ≥800°C for 5 min or more and further heated at a ramp-down rate of ≤50°C/min to form a gallium nitride film.例文帳に追加

次に、基板上に形成された窒化ガリウム層を８００℃以上で５分以上加熱し、さらに５０℃／分以下の降温速度で加熱する。 - 特許庁

For every control period (T_AMBR), the available data amount (D_available) for each user in a cell is updated to a data amount (min((D_available+D_ref), D_ref) which is equal to or less than a reference data amount.例文帳に追加

制御周期（T_AMBR）毎に、セル内のユーザ各々の利用可能データ量（D_available）は、基準データ量以下のデータ量（min（（D_available＋D_ref），D_ref）に更新される。 - 特許庁

When the polishing liquid is within shelf life, etching rate is limited to 1.0 nm/min or lower at a polishing rate 87 to 93 nm/min.例文帳に追加

提案材料と保存期間内で研磨速度８７〜９３ｎｍ／分でエッチング速度が１．０ｎｍ／分以下に抑制されることを特徴とする。 - 特許庁

The plastic lens, after being heated at the glass transition temperature or above, is cooled at a cooling speed of 0.2-2°C/min, more preferably 0.5-1°C/min.例文帳に追加

プラスチックレンズをガラス転移点以上に加熱後、毎分０．２〜２℃、さらに望ましくは毎分０．５〜１℃の冷却速度で冷却する。 - 特許庁

The instant Chawan-mushi can be reconstituted to Chawan-mushi by adding hot water of 80°C and leaving at rest for 10 min or by adding water and heating with a microwave oven for 3 min.例文帳に追加

８０℃の熱水を加えて１０分間経過させるか、水を加えて電子レンジで３分間加熱する事によって茶碗蒸しを得る。 - 特許庁

The threshold R_min is basically reduced (S150) to expand coverage when the queue length Q is smaller than a predetermined lower limit value Q_low (S140), and meanwhile, the threshold R_min is basically increased (S165) to reduce the coverage when the queue length Q is equal to or greater than a predetermined higher limit value Q_high (S155).例文帳に追加

すなわち、Ｑが所定下限値Ｑ_lowより小さい場合には（Ｓ１４０）基本的にＲ_minを減少させて（Ｓ１５０）カバレッジを拡大し、一方、Ｑが所定上限値Ｑ_high以上である場合には（Ｓ１５５）基本的にＲ_minを増加させて（Ｓ１６５）カバレッジを縮小する。 - 特許庁

The setter for the heat treatment of a flat display panel substrate is characterized in that 1,000×(D_MAX-D_MIN)/D_Ave is 2.0 or less, wherein D_MAX, D_MIN, and D_Ave represents the maximum, minimum, and average of density in any portion of the setter, respectively.例文帳に追加

本発明のフラットディスプレイパネル基板の熱処理用セッターは、フラットディスプレイパネル基板を熱処理するためのセッターであって、任意の部分において密度の最大値をＤ_MAX、最小値をＤ_MIN、平均値をＤ_Aveとした時、１０００×（Ｄ_MAX−Ｄ_MIN）／Ｄ_Aveが２．０以下であることを特徴とする。 - 特許庁

(3) [(a surface pH after 5 min of a surface B)-(the minimum value of the surface pH of the surface A)] is 1.5 or over.例文帳に追加

（３）［（面Ｂの５分後の表面ｐＨ）−（面Ａの表面ｐＨの極小値）］が１．５以上である。 - 特許庁