「min or a」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Preferably, the quenching is performed at a cooling rate of 125°C/min or higher.例文帳に追加

前記急冷は、好ましくは、１２５℃／分以上の冷却速度で行う。 - 特許庁

As a solidification speed of the molten metal 18, 400 (°C/min) or higher is agreeable.例文帳に追加

溶湯１８の凝固速度としては４００（℃／分）以上が好適である。 - 特許庁

Then, the gallium nitride layer formed on the substrate is heated at a temperature of ≥800°C for 5 min or more and further heated at a ramp-down rate of ≤50°C/min to form a gallium nitride film.例文帳に追加

次に、基板上に形成された窒化ガリウム層を８００℃以上で５分以上加熱し、さらに５０℃／分以下の降温速度で加熱する。 - 特許庁

For every control period (T_AMBR), the available data amount (D_available) for each user in a cell is updated to a data amount (min((D_available+D_ref), D_ref) which is equal to or less than a reference data amount.例文帳に追加

制御周期（T_AMBR）毎に、セル内のユーザ各々の利用可能データ量（D_available）は、基準データ量以下のデータ量（min（（D_available＋D_ref），D_ref）に更新される。 - 特許庁

When the polishing liquid is within shelf life, etching rate is limited to 1.0 nm/min or lower at a polishing rate 87 to 93 nm/min.例文帳に追加

提案材料と保存期間内で研磨速度８７〜９３ｎｍ／分でエッチング速度が１．０ｎｍ／分以下に抑制されることを特徴とする。 - 特許庁

The plastic lens, after being heated at the glass transition temperature or above, is cooled at a cooling speed of 0.2-2°C/min, more preferably 0.5-1°C/min.例文帳に追加

プラスチックレンズをガラス転移点以上に加熱後、毎分０．２〜２℃、さらに望ましくは毎分０．５〜１℃の冷却速度で冷却する。 - 特許庁

The instant Chawan-mushi can be reconstituted to Chawan-mushi by adding hot water of 80°C and leaving at rest for 10 min or by adding water and heating with a microwave oven for 3 min.例文帳に追加

８０℃の熱水を加えて１０分間経過させるか、水を加えて電子レンジで３分間加熱する事によって茶碗蒸しを得る。 - 特許庁

The threshold R_min is basically reduced (S150) to expand coverage when the queue length Q is smaller than a predetermined lower limit value Q_low (S140), and meanwhile, the threshold R_min is basically increased (S165) to reduce the coverage when the queue length Q is equal to or greater than a predetermined higher limit value Q_high (S155).例文帳に追加

すなわち、Ｑが所定下限値Ｑ_lowより小さい場合には（Ｓ１４０）基本的にＲ_minを減少させて（Ｓ１５０）カバレッジを拡大し、一方、Ｑが所定上限値Ｑ_high以上である場合には（Ｓ１５５）基本的にＲ_minを増加させて（Ｓ１６５）カバレッジを縮小する。 - 特許庁

The setter for the heat treatment of a flat display panel substrate is characterized in that 1,000×(D_MAX-D_MIN)/D_Ave is 2.0 or less, wherein D_MAX, D_MIN, and D_Ave represents the maximum, minimum, and average of density in any portion of the setter, respectively.例文帳に追加

本発明のフラットディスプレイパネル基板の熱処理用セッターは、フラットディスプレイパネル基板を熱処理するためのセッターであって、任意の部分において密度の最大値をＤ_MAX、最小値をＤ_MIN、平均値をＤ_Aveとした時、１０００×（Ｄ_MAX−Ｄ_MIN）／Ｄ_Aveが２．０以下であることを特徴とする。 - 特許庁

(3) [(a surface pH after 5 min of a surface B)-(the minimum value of the surface pH of the surface A)] is 1.5 or over.例文帳に追加

（３）［（面Ｂの５分後の表面ｐＨ）−（面Ａの表面ｐＨの極小値）］が１．５以上である。 - 特許庁

Property (i): A MFR (melt flow rate) of a straight-chain propylene polymer moiety is 150 g/10 min or more.例文帳に追加

特性（ｉ）：直鎖状プロピレン重合体部分のＭＦＲが１５０ｇ／１０分以上。 - 特許庁

Further a chemical tempered glass substrate is polished by setting a machining rate to 0.15 μm/min or less.例文帳に追加

さらには、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して化学強化ガラス基板を研磨する。 - 特許庁

A polishing speed of the insulation film and a conductive film by the processing liquid is 10 nm/min or below.例文帳に追加

絶縁膜および導電膜の研磨速度が１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

A heat treating temperature is within a range of 150-300°C, the treatment is carried out within 60 minutes, and cooling speed is 1.0°C/min or less.例文帳に追加

熱処理温度範囲は１５０〜３００℃で６０分以内で、冷却速度は１．０℃／ｍｉｎ以下とする。 - 特許庁

When the polyimide film is hardened, nitrogen gas is fed, for example, at a rate of 110 l/min or above.例文帳に追加

ポリイミド膜を硬化させる場合には、窒素ガス等を１１０リットル／分以上流入する。 - 特許庁

Characteristic (i): MFR of a straight-chain propylene polymer fraction is 120 g/10 min or more.例文帳に追加

特性（ｉ）：直鎖状プロピレン重合体部分のＭＦＲが１２０ｇ／１０分以上。 - 特許庁

A quantized output (q), and variable length coded outputs of residuals of DR and MIN are transmitted or recorded.例文帳に追加

量子化出力ｑ、ＤＲ、ＭＩＮの残差の可変長符号化出力が伝送、または記録される。 - 特許庁

In the case that the preheating is not conducted for 40 sec or over, a setting time of 10 min is set to an interruption timer.例文帳に追加

予熱を４０秒以上行っていない場合、中断タイマに１０分をセットする。 - 特許庁

The mid layer 6 has a melt flow rate (190°C, 2.16 kg) of 4 g/10 min or greater.例文帳に追加

中間層６のメルトフローレイト（１９０℃、２．１６ｋｇ）は４ｇ／１０ｍｉｎ以上である。 - 特許庁

An air spoiler 17 being a blow-molded item comprises a polypropylene resin having a melt index(MI) in the range of from 0.01 g/10 min. to 10 g/10 min. and has a gloss value of 85% or more and variations in shrink and/or warpage of 1 mm or less.例文帳に追加

ブロー成形品であるエアースポイラー17は、メルトインデックス（ＭＩ）が0.01g/10分〜10g/10分のポリプロピレン系樹脂よりなり、表面光沢度が85％以上、かつ、ひけ及び/又は反り変形量が1mm以下である。 - 特許庁

The filter for ink jet printer passes 0.05 ml/min or more of ink comprising polymer particles A and/or B containing dye or pigment in water insoluble polymer at 25°C under a negative pressure of 970 hPa.例文帳に追加

970hPaの負圧下で、水不溶性ポリマー中に染料又は顔料を含有するポリマー粒子Ａ及び／又はポリマー粒子Ｂを含むインクを25℃の温度で0.05mL／min 以上通過するインクジェットプリンター用フィルター。 - 特許庁

The control unit 107 controls the rotational speed of the motor to drop when the data transfer speed is reduced to a threshold value Rth (min) or lower, and the continuance time of a state where the speed drops to the threshold value Trh (min) or less continues for the threshold value Tth or more.例文帳に追加

また、データ転送速度が閾値Ｒｔｈ（ｍｉｎ）を下回り、かつ閾値Ｒｔｈ（ｍｉｎ）を下回った状態の継続時間が閾値Ｔｔｈ以上継続した場合に、モータの回転速度を下げるように制御する。 - 特許庁

The method for producing LaAlO3 ceramics has a sintering step wherein after heating powder of LaAlO3 to the sintering temperature of 1,600°C to 1,800°C at a rate of temperature increase of 40°C/min or more, the powder is sintered by maintaining for 3 min to 45 min at the sintering temperature.例文帳に追加

ＬａＡｌＯ３の粉末を４０℃／分以上の昇温速度で１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱した後、前記焼結温度に３分以上４５分以下の時間保持して焼結する焼結工程をＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。 - 特許庁

For the thermosensitive material, a thermoplastic resin, preferably, polyolefine having a flowing property of 0.5 g/10 min or more, preferably, 1.0 g/10 min or more as a melt flow rate (MFR).例文帳に追加

ここで、感温材は流れ特性がメルトフローレイト（ＭＦＲ）で０．５ｇ／１０ｍｉｎ以上、好ましくは１．０ｇ／１０ｍｉｎ以上である熱可塑性樹脂、好ましくはポリオレフィンを使用する。 - 特許庁

While a wafer W is made to be stationary, for example, a thinner 40 of 20 ml/min or less, more preferably 10 ml/min or less, is discharged by a solution nozzle 7.例文帳に追加

ウエハＷを静止させた状態で、溶液ノズル７により、例えばシンナ４０を２０ｍｌ／ｍｉｎ以下、より好ましくは１０ｍｌ／ｍｉｎ以下で吐出する。 - 特許庁

Preferably, the melt index of a polyethylene resin used as the raw material of the expanded sheet is 0.28 g/10 min or smaller, and the melt index of a resin obtained by degassing the expanded sheet is 0.4 g/min or smaller.例文帳に追加

この発泡シートにおいて、原料のポリエチレン系樹脂のメルトインデックスが０．２８ｇ／１０ｍｉｎ以下であり、発泡シートを脱泡して得られる樹脂のメルトインデックスが０．４ｇ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Wet etching is performed upon the highly insulated thin layer at a room temperature in a mixed liquid of hydrofluoric acid, perchloric acid, other perhalogenated element acid, and the like such that an etching rate of the layer becomes ≥10 Å/min, at the same time, an etching rate of silicon oxide, USG or polysilicon becomes ≤10 Å/min all and a selection ratio becomes appropriate for needs of respective processes.例文帳に追加

弗化水素酸と過塩素酸やその他の過ハロゲン族元素酸の混合液により、室温下で高絶縁性薄層に対してウェットエッチングを行い、該層のエッチング率が10Å／min以上になるようにし、同時に酸化シリコンやUSG，或いはポリシリコン等のエッチング率が皆10Å／min以下であり且つ選択比は各工程の必要に適した比率となるようにする。 - 特許庁

As a cooling method with the cooling rate of 40°C/min. or more, cooling by an air quenching cooler, cooling by dropping the burned matter into water, or cooling by sprinkling water over the burned matter is preferable.例文帳に追加

40℃/min以上の冷却速度で冷却する方法としては、エアークエンチングクーラーを用いて冷却する方法、焼成物を水中に落下させて冷却する方法や焼成物に散水して冷却する方法が好ましい。 - 特許庁

To make precisely and simply measurable a very small flow rate, especially a flow rate at mL/min to μL/min or less and to make precisely and continuously distributable and fractionatable a fluid in a very small flow rate.例文帳に追加

微小流量、とりわけｍＬ／ｍｉｎ〜μＬ／ｍｉｎ及びそれ以下の流量の測定を正確且つ簡単に行うことができ、更に微小流量の流体の正確な分配、分取が連続的に行える。 - 特許庁

The temperature of the ballast water is kept at a temperature ≥40°C for 8 min (or ≥45°C for 3 min) by the second heat exchanger 20b and the control is performed by a water temperature controlling system 21 and a water temperature sensor 22.例文帳に追加

バラスト水の水温は第２熱交換器20ｂで８分間４０°Ｃ以上（あるいは３分間４５°Ｃ以上）に保たれるが、その制御は水温制御系21および水温センサ22により行われる。 - 特許庁

The air-fuel ratio control system sets the target value at a substantially middle value (central value) between a maximum output value and a minimum output value, when the output Voxs is the maximum output value max or the minimum output value min.例文帳に追加

空燃比制御装置は、出力Voxsが最大出力値max又は最小出力値minとなっているとき、前記目標値を最大出力値と最小出力値との略中間の値（中央値）ａに設定する。 - 特許庁

In the heat treatment step, in the course of temperature raise up to 500°C at a rate of ≤3°C/min under a pressure of ≤13.3 Pa(10^-1 Torr), the resultant green compact is held for ≥30 min at one point or a plurality of points in the range between 200 and 500°C.例文帳に追加

熱処理工程では、１３．３Ｐａ（１０^-1Torr）以下の圧力の下、３℃／ｍｉｎ以下の速度で５００℃まで昇温させる間に、２００℃以上５００℃以下の範囲の一点または複数点の温度で３０分間以上保持する。 - 特許庁

The broiling is performed in a broiling oven at 300°C for 35-40 min, or putting a container with water into the broiling oven for steam-broiling the half fish of the bonito at 300°C for 35-40 min.例文帳に追加

焼成は焼成炉内で３００℃で３５分〜４０分間の処理を行うか、焼成炉内に水の入った容器を入れて、カツオの片身を３００℃で３５分〜４０分間の蒸し焼き処理を行う。 - 特許庁

Bread dough having the lean composition is cooled at a cooling rate of -0.5 to -2.0°C/min until the center temperature of the dough reaches -1 to -5°C and the dough is frozen at a freezing rate of -0.5°C/min or slower.例文帳に追加

リーンな配合のパン生地を生地中心温度が−１〜−５℃になる迄冷却速度−０．５〜−２．０℃／ｍｉｎの条件下で冷却した後、次いで冷凍速度を−０．５℃／ｍｉｎ以下の条件下で冷凍する、冷凍パン生地の製造法。 - 特許庁

To perform continuous casting at a high speed of ≥ 2.0 m/min. without causing short-side bulging, internal cracking or the like feared during the continuous casting at a high speed.例文帳に追加

高速での連続鋳造時に懸念された短辺バルジングや内部割れ等の発生のおそれなしに、2.0 m/min 以上の高速での連続鋳造を実現する。 - 特許庁

By controlling air and oxygen flow rates not higher than 3-15 L/min, heavy blow-off of air or oxygen is prevented from stimulating the subject and reacting the brain thereto, and oxygen can be sufficiently administrated in a pulse state.例文帳に追加

空気および酸素の流量を３〜１５リットル／min以下に制御することにより、強すぎる空気や酸素の吹き出しが被検体に刺激を与え、脳が反応するのを防止でき、かつ、パルス状に酸素を充分に投与することができる。 - 特許庁

Then the heated temperature in the furnace is raised at a rising speed of 15°C/min or less up to the carbonizing temperature of 450°C, for example, and this temperature is maintained until the adsorber is completely carbonized.例文帳に追加

その後、炉内の加熱温度を１５℃／min以下の昇温速度で上昇させて、例えば４５０℃の炭化温度まで加熱し、吸着剤が完全に炭化するまでその温度に保持する。 - 特許庁

For example, let a time after the end of operation till start of the succeeding operation be α, which is 10 min or less, then the transition time from the stand-by state into the energy-saving stand-by state is set at (α+1) min.例文帳に追加

例えば動作終了後、次の動作が開始するまでの時間がαであり、これが１０分以下であると、スタンバイ状態から省エネスタンバイ状態への移行時間は（α＋１）分とする。 - 特許庁

Further, the min. value or solidified shell thickness at a depth of 400 mm from the meniscus in the mold is made to ≥10 mm, and the difference between the max. value and the min. value of the solidified shell thickness in the same horizontal cross section is made to ≤5 mm.例文帳に追加

そして、モールド内でメニスカスから400mmの深さにおいて凝固シェルの厚みの最小値を10mm以上、かつ同水平断面内で凝固シェルの厚みの最大値と最小値の差を５mm以下とする。 - 特許庁

Whether or not a value of a rotating speed deviation ΔV(=VMAX-VMIN) between the wheels is a threshold value ε or less is judged in Step 355.例文帳に追加

ステップ３５５では、車輪間の回転速度偏差ΔＶ（＝ｖ_MAX−ｖ_MIN ）の値が閾値ε以下か否かを判定する。 - 特許庁

This artificial organ should preferably have the shape of a tube or sheet with peameability or porosity degree of 0-50 ml/(cm^2×min) (120 mmHg, 37°C).例文帳に追加

人工器官は、管状あるいはシート状であり、有孔度０〜５０ｍｌ／（ｃｍ2・ｍｉｎ）（１２０ｍｍＨｇ，３７℃）の透水性を有することが好ましい。 - 特許庁

The treating liquid has a pH ranging from 4 to 9, and exhibits a polishing rate both of an insulating film and a conductive film at a rate of 10 nm/min or less.例文帳に追加

ｐＨが４以上９以下であり、絶縁膜および導電膜の研磨速度が１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of a rubber thread, a rubber composition is extruded in a sheet-like form at a speed of 1.0 m/min or higher.例文帳に追加

この糸ゴムの製造方法では、まずゴム組成物が１．０ｍ／ｍｉｎ以上の速度でシート状に押し出される。 - 特許庁

The transparent base substrate with the transparent conductive film is produced by controlling a film forming velocity for the transparent conductive film from 3,000 to 7,000 nm/min under a deposition temperature 600°C or more and less than 640°C, or from 3,000 to 8,000 nm/min under a deposition temperature 640°C or more.例文帳に追加

透明な導電膜を、成膜温度６００℃以上、６４０℃未満では、成膜速度３０００〜７０００ｎｍ／ｍｉｎ、成膜温度６４０℃以上では、成膜速度３０００〜８０００ｎｍ／ｍｉｎの条件で制御することによって、前記透明導電膜付き透明基体を製造する。 - 特許庁

When the max/min is equal to or below the threshold (th), a prescribed position corresponding to a photographing mode is taken as a focus lens position.例文帳に追加

ｍａｘ／ｍｉｎが閾値ｔｈ以下の場合には撮影モードに応じた所定の位置をフォーカスレンズ位置とする。 - 特許庁