「"BEAM SIZE"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A light modulating part 4 divided into plural pixels and at least two or more micro lens arrays 2 and 3 constituting plural beam size converting optical systems corresponding to each pixel of the light modulating part 4 are provided, and the luminous flux of a beam size which is smaller than the beam size of incident light for each beam size convering optical system is made incident on each pixel by each beam size converting optical system.例文帳に追加

複数のピクセルに分割された光変調部４と、この光変調部４の各ピクセルに対応する複数のビーム径変換光学系を構成する少なくとも２枚以上のマイクロレンズアレイ２，３とを備え、各ビーム径変換光学系は、これら各ビーム径変換光学系に対する入射光のビーム径よりも細いビーム径の光束を各ピクセルに入射させる。 - 特許庁

A beam size setting means 12 sets the cross section of a charged particle beam to be rectangular based on a beam size correction expression consisting of the polynomial of a beam width target value and a beam length target value and the beam width target value and the beam length target value designated by a beam size control means 11.例文帳に追加

ビームサイズ設定手段１２は、ビーム横幅目標値及びビーム縦幅目標値の多項式からなるビームサイズ補正式、並びにビームサイズ制御手段１１により指定されたビーム横幅目標値及びビーム縦幅目標値に基づき、荷電粒子ビームの断面を矩形状に設定する。 - 特許庁

The beam size in the radial direction substantially is dead to the position of the cylindrical lens.例文帳に追加

半径方向におけるビームのサイズは、円筒状レンズの位置に実質的に不感である。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING BEAM SIZE OF ELECTRON EMISSION SOURCE TO DATA MEMORY MEDIUM例文帳に追加

データ記憶媒体に対して電子放出源のビームサイズを決定する方法 - 特許庁

The nuclear fuel pellet 2 is rotated in the circumferential direction L, and the beam size of the laser beam B is changed.例文帳に追加

核燃料ペレット２を周方向Ｌに回動させ、レーザビームＢのビーム径を変化させる。 - 特許庁

The method determines the beam size of the electron emission source for the purpose of the data memory medium (400).例文帳に追加

データ記憶媒体のための電子放出源のビームサイズを決定する方法(400)。 - 特許庁

To provide a charged particle beam transport device easily, quickly and accurately adjustable of the beam size.例文帳に追加

ビームサイズを簡単かつ素早く高精度に調整できる荷電粒子ビーム輸送装置を提供する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND METHOD OF ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM SIZE例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームサイズの調整方法 - 特許庁

METHOD FOR SUPPRESSING BEAM POSITION DRIFT, METHOD FOR SUPPRESSING BEAM SIZE DRIFT, AND CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING DEVICE例文帳に追加

ビーム位置ドリフト抑制方法、ビーム寸法ドリフト抑制方法及び荷電粒子ビーム描画装置。 - 特許庁

As for the light emitted from a laser light source 210 and converted into a specified beam state by an AOM 214, a beam size in a main scanning direction is adjusted by a beam expander 216, and a direction orthogonal with the beam size adjusted by the beam expander 216, namely the beam size of a subscanning direction is adjusted by a prism 219.例文帳に追加

レーザ光源２１０より射出され、ＡＯＭ２１４によって所定のビーム状態に変換された光は、ビームエキスパンダ２１６よって主走査方向のビーム径を調整し、プリズム２１９によって、ビームエキスパンダ２１６で調整されたビーム径と直交する方向、すなわち副走査方向のビーム径を調整する。 - 特許庁

Using this measurement results, at least one of the angle deflection in the y direction, a divergent angle, and beam size of the ion beam 4 is measured.例文帳に追加

そしてこの計測結果を用いて、イオンビーム４のｙ方向の角度偏差、発散角およびビームサイズの内の少なくとも一つを計測する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing apparatus for accurately adjusting a beam size and improving accuracy of formation of fine patterns.例文帳に追加

ビームサイズを正確に調整し、微細パターン形成の精度を向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam measurement technique that can highly precisely measure a beam size covering a road range in an electron beam drawing device.例文帳に追加

電子ビーム描画装置において、幅広い領域に渡ってビームサイズを高精度に計測することが可能な電子ビーム計測技術を提供する - 特許庁

To measure at least one of an angular deviation in the y-direction, a divergence angle and a beam size of an ion beam using a simple configuration.例文帳に追加

イオンビームのｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを簡単な構成によって計測する。 - 特許庁

A second slit 40 has a rectangular opening 41 in the maximum beam size formed in proximity to the center thereof.例文帳に追加

第２スリット４０には、その中心部近傍に最大ビームサイズの矩形の開口部４１が穿たれている。 - 特許庁

The minimum beam size or the Rayleigh length is set so that the surface density of energy per pulse, when being irradiated, is controlled to be in the range.例文帳に追加

最小ビームサイズやレイリー長は、照射される際のパルス当たりのエネルギーの面密度が上記の範囲になるべく設定される - 特許庁

CONTROL OVER FLUCTUATIONS IN BEAM POINTING ERROR, BEAM POSITIONING ERROR, BEAM SIZE ERROR OR BEAM DIVERGENCE ERROR OF BEAM OF LIGHT BY OPTICAL APPARATUS例文帳に追加

光学装置による光ビームの指向性エラー、位置エラー、サイズエラー、または発散度エラーの変動制御 - 特許庁

To easily make a beam size changed, when light transmission and reflection for a microsample and a microfine portion are measured.例文帳に追加

微小試料、微小部位の透過、反射測定を行う際に、容易に光束の大きさを変えることができる分光光度計を提供することを目的とする。 - 特許庁

A beam size coarse adjusting means 13 sets the initial value of a beam correction factor being the factor of each term of the polynomial.例文帳に追加

ビームサイズ粗調整手段１３は、多項式の各項の係数であるビーム補正係数の初期値を設定する。 - 特許庁

Through the use of the measured results, at least one of an angular deviation in the y-direction, a divergence angle and a beam size of an ion beam 4 is measured.例文帳に追加

これらの計測結果を用いて、イオンビーム４のｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを計測する。 - 特許庁

To adjust a beam size in the long and short-axis directions for each direction, and also allow the beam to be irradiated at a uniform intensity.例文帳に追加

長短軸方向ビームサイズを方向別に変更可能とするとともに、均一な強度でビームを照射することができるようにする。 - 特許庁

To reduce jitter by reducing the variation of the beam size of a light beam made incident on a synchronization detector by a simple constitution.例文帳に追加

簡単な機構で、同期検知器へ入射する光ビームのビーム径のばらつきを小さくし、ジッタを低減することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus which is capable of precise measurement of a beam size without being influenced by noise components when measuring the beam size based on a signal waveform obtained by first casting a beam such as an electron beam on a mark and then detecting a reflected beam.例文帳に追加

電子ビーム等のビームをマークに投射し、その反射ビームを検出して得られる信号波形に基づいてビームサイズを測定する際に、雑音成分の影響を受けない、高精度なビームサイズの測定が可能な測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁

A slit aperture and a knife edge are formed on an electron beam detector 218, and it is possible to do highly precise measurement across a broad-range beam size by alternately using a first beam size measurement method that employs the slit and a second measurement method that employs the knife edge.例文帳に追加

電子ビーム検出器２１８には、スリット開口やナイフエッジが形成されており、スリットを用いる第１のビームサイズ計測方法とナイフエッジを用いる第２の計測方法を切り替えて使用することにより、広い範囲のビームサイズで高精度な計測を行うことが可能となる。 - 特許庁

The laser beam processing apparatus comprises a mirror 2, an aperture 3, a beam size magnifying optical system 5, two acousto-optic elements 8, 9, a beam size reduction optical system 10, a mirror 15, a scanner 13 for rotating a mirror 18, a scanner 16 and an fθ lens 19 disposed on an optical path of a laser oscillator 1.例文帳に追加

レーザ発振器１の光路上に、ミラー２、アパーチャ３、ビーム径拡大光学系５、２個の音響光学素子８、９、ビーム径縮小光学系１０、ミラー１５、１８を回転させるスキャナ１３、スキャナ１６およびｆθレンズ１９を配置する。 - 特許庁

The beam size is approximated by a polynomial in the beam current measurement, and a fine size region wherein the contributions from an offset and a rotation coefficient are large in each order is calibrated beforehand, and offset coefficients are added to gain coefficients independently in the xy coordinate directions, and higher order trapezoidal coefficients are so calibrated that the inclination distortion thereof will be minimum in a beam size large region.例文帳に追加

本発明は、ビーム電流測定でビーム寸法を多項式で近似し、各次数でオフセットおよび回転係数の寄与の大きい微細寸法領域をあらかじめ校正して、ゲイン係数はｘｙ座標方向に独立にオフセット係数を加え、高次の台形係数はビーム寸法大領域でその傾斜歪が最小となるように校正するものである。 - 特許庁

A beam size is reduced greatly in an electron beam cooling device 6 by a low-emittance EBIS-type ion source or hollow beams.例文帳に追加

低エミッタンスのＥＢＩＳ型イオン源または中空（ｈｏｌｌｏｗ）ビームによる電子ビーム冷却装置６で、ビームサイズを極端に小さくする。 - 特許庁

The second optical path is configured to include a divergence optical element whereby the divergence of the beam can be increased without decreasing the beam size, thus increasing the Etendue.例文帳に追加

第２の光路は、発散光学エレメントよって、ビームサイズを縮小することなくビームの発散を増加することができ、したがってエタンデュを増加することができる。 - 特許庁

To provide an ion beam measurement method which measures at least one of angle deflection in the y direction perpendicular to the scanning direction of an ion beam, a divergent angle, and beam size.例文帳に追加

イオンビームの走査方向と垂直なｙ方向の角度偏差、発散角およびビームサイズの内の少なくとも一つを簡単な構成によって計測することができるイオンビーム計測方法を提供する。 - 特許庁

Economical laser beam incidence is made possible, by controlling the laser beam size via the movement of the distance of a pair of lenses, to adjust it for the allowable laser beam incidence angle of the wavelength conversion element.例文帳に追加

また波長変換素子のレーザ光入射許容角に合わせるために一対のレンズ系の距離移動を介してレーザビームサイズをコントロールすることによって無駄の無いレーザ光入射が可能になる。 - 特許庁

A pinhole position or a beam size is adjusted automatically so as to acquire the optimum arrangement of the optical system based on the database with respect to an input defect shape.例文帳に追加

入力した欠陥形状に対してデータベースに基づき、最適な光学系の配置になるよう自動的にピンホール位置、ビームサイズの調整が行われる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image pickup unit by which a toner image obtained by development is stuck by a desired ratio even in the case that a beam size is larger than a dot pitch.例文帳に追加

ビーム径がドットピッチよりも大きい場合にも、現像して得られるトナー像を所望の比率で付着させることができる電子写真作像装置を提供する。 - 特許庁

To realize a high precision electron beam exposure by providing a high resolution beam size correcting method at a high speed and low cost in a variable molding type electron-beam graphics drawing apparatus.例文帳に追加

本発明の課題は可変成形型電子ビーム描画装置における高分解能ビーム寸法補正方法を高速かつ低コストで提供し、高精度の電子ビーム露光を実現することである。 - 特許庁

To correct beam size so as not to cause an error by a Coulomb effect even when a beam current value is large in the charged particle beam exposure of a variable rectangular exposing system.例文帳に追加

可変矩形露光方式の荷電粒子ビーム露光において、ビーム電流値が大きい場合にもクーロン効果に起因する誤差が生じないようにビームサイズ補正を行なえるようにする。 - 特許庁

Pattern data which is larger than the maximum beam size of an electron beam are virtually divided into a peripheral part Po and an inside pat Pi by an outline figure dividing function.例文帳に追加

電子ビームの最大ビームサイズより大きなパターンデータを、輪郭図形分割機能により周辺部分Ｐｏと内部部分Ｐｉとに仮想的に分割する。 - 特許庁

Each reflection mirror 1R, 2R, 3R, 4R, 5R, 6R of the inside has condensing action, beam size does not change from the beginning, and quantitative measurement is possible.例文帳に追加

内部の各反射鏡１Ｒ、２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ、５Ｒ、６Ｒは収束作用を有し、ビームサイズも初めと変わることなく、定量的な測定が可能となる。 - 特許庁

A focus error signal based on an astigmatic method according to an electrical signal from the quadripartite sensor is derived, and a focus error signal based on a beam size method according to electrical signals from the two sets of tripartite sensors is derived.例文帳に追加

４分割センサーからの電気信号により非点収差法に従うフォーカスエラー信号を導出し、２組の３分割センサーからの電気信号によりビームサイズ法に従うフォーカスエラー信号を導出する。 - 特許庁

The above amount of corrections is variable rectangular beam size data corresponding to the difference of a target pattern size, a resist pattern size formed by specifying the amount of the reference light exposure, and the target pattern size.例文帳に追加

前記補正量は、目標パターンサイズと基準露光量を指定して形成したレジストパターンサイズと目標パターンサイズとの差分に対応する可変矩形ビームサイズデータである。 - 特許庁

In the laser device 1 for exposure, a slit member 10 has a beam opening 11 forming the beam size of laser beams L, and a breather 12 allowing the purge gas PG to pass through.例文帳に追加

露光用レーザ装置１において、スリット部材１０は、レーザ光Ｌのビームサイズを形成するビーム開口１１と、パージガスＰＧを通過させる通気口１２と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a lithography apparatus and device, having small variations of radiation beam strength, and is capable of eliminating the defect that a beam size becomes large.例文帳に追加

放射ビームの強度変動が小さく、ビームのサイズが大きくなる欠点をなくすことのできるリソグラフィ機器及びデバイスの製作方法の提供。 - 特許庁

This dividing is performed and then fixed beam size data are supplied, shot by shot, to a control circuit 14 of a shaping deflector 6, so the settling time of the control circuit 14 need not be set.例文帳に追加

このような分割の処理を行うことにより、成形偏向器６の制御回路１４には各ショットごとに一定のビームサイズデータが供給されることから、制御回路１４のセトリング時間を設定する必要がなくなる。 - 特許庁

The variation of the beam size of the light beam made incident on the synchronization detector 36 is caused by the fluctuation of the accuracy of the reflection surface of a light deflector and environmental temperature, so that the output balance of the synchronization detector 36 is varied.例文帳に追加

光偏向器の反射面の精度や環境温度の変動により、同期検知器３６に入射する光ビームのビーム径がばらつき、同期検知器３６の出力バランスがばらついてしまう。 - 特許庁

A processor 5, which is connected to the energy sensor ES and to the steering mirrors 21, calculates and adjusts the beam size on the basis of the deflection angles of the steering mirrors and the change in beam intensity.例文帳に追加

プロセッサ５がこのセンサＥＳおよび操向ミラー２１に接続してあり、このミラーの偏向角とビーム強度の変化からこのビームサイズを計算し且つ調整する。 - 特許庁

The three remaining triangular openings 42b, 42c, and 42d are so positioned that the distance between a corresponding apex of the rectangular opening 41 and the middle point on the hypotenuse of each of the triangular openings is approx. 0.7 (=√2W/2) times the maximum beam size W.例文帳に追加

残る３つの三角形開口部４２ｂ,４２ｃ,４２ｄは、矩形開口部４１の頂点からそれぞれの斜辺の中点までの距離が、最大ビームサイズＷの約０．７倍（＝√（２）・Ｗ／２）の位置に配置する。 - 特許庁

To provide an optical pickup device and an optical disk device, in which a focusing error is smoothly detected in a simple configuration according to a beam size method.例文帳に追加

簡易な構成にて円滑にビームサイズ法に従ってフォーカスエラーの検出を行い得る光ピックアップ装置および光ディスク装置を提供する。 - 特許庁