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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ん?はーい!に関連した英語例文

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ん?はーい!の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 518



例文

Convolvulaceae科Ipomoea属に属する植物体を、pH1.0〜6.5の酸性条件下で水又は含水アルコールで抽出後、吸着処理、イオン交換処理、酸処理及び膜分離処理よりなる群から選択される少なくとも1種の処理を行って得られる色素を用いて調味料又はタレ類を着色する。例文帳に追加

The flavoring or thick seasoning is colored using a pigment which is obtained by extracting plants belonging to Ipomoea genus of Convolvulaceae family with water or hydrous alcohol under an acidic condition of pH 1.0-6.5, and subjecting the extract to at least one kind of treatment selected from the group consisting of absorption treatment, ion exchange treatment, acid treatment, and membrane separation treatment. - 特許庁

この回路64はインバータINV及びオア回路ORから成り、インバータINVには水平デコーダ56からの画像位置調整信号PHが入力され、その出力と遅延制御回路55からの画像位置調整遅延信号PH1がオア回路ORに入力され、その出力から水平色同期信号HDBを得る。例文帳に追加

This circuit 64 is consisting of an inverter INV and an OR circuit OR and a picture position adjusting signal PH from a horizontal decoder 56 is inputted to the inverter INV and a picture position adjusting and delaying signal PH1 from the output of the decoder and a delay control circuit 55 is inputted to the OR circuit OR and a horizontal color synchonizing signal HDS is obtained from the output of the circuit 64. - 特許庁

自動車にベース塗料として水性塗料を塗装機により吹き付けた後、該塗装機を、少なくともブチルセロソルブとアルコールとアミンと水とを含有するpH10〜12の水性洗浄液で洗浄し、さらに疎水性洗浄液で洗浄した後に生じる洗浄廃液から上記水性洗浄液を再生する方法である。例文帳に追加

In the method, the aqueous cleaning liquid is recycled from the waste cleaning liquid produced after spraying the water-based coatings to an automobile as a base coating with a coating machine, washing the coating machine with the aqueous cleaning liquid at least containing butyl cellosolve, an alcohol, an amine, and water and with a pH of 10-12, and further washing the coating machine with a hydrophobic cleaning liquid. - 特許庁

回収工程前のN−アルコキシカルボニルアミノ酸水溶液に塩基性化合物を加えて、該水溶液のpHよりも高く、且つpH14未満に保持してN−アルコキシカルボニルアミノ酸結晶を製造し、化学純度が99.8%以上であるN−アルコキシカルボニルアミノ酸結晶を得る。例文帳に追加

The N-alkoxycarbonylamino acid crystal with a chemical purity of at least 99.8% is produced by adding a basic compound to an aqueous N-alkoxycarbonylamino acid solution before the recovery process, thereby holding the pH of the solution at higher than that of the solution before the addition and at lower than 14. - 特許庁

例文

抗生物質YL−02729S物質を生産する能力を有する微生物の培養液又はその処理液に、強塩基を加えてpH12〜13に調整する工程と、塩基性環境で溶解したYL−02729S物質を類縁物質と分離する工程を含む、精製されたYL−02729S物質の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the purified antibiotic YL-02729S substance comprises a process for adding a strong base to the culture solution of a microorganism having an ability to produce the antibiotic YL-02729S substance or its treated solution to adjust into pH 12 to 13, and a process for separating the antibiotic YL-02729S substance dissolved in the basic environment from analogous substances. - 特許庁


例文

β−D−グルカンを含む微生物培養液又は微生物破砕液をpH12以上に調整する第1工程と、微生物又は不溶性夾雑物を除去して上清を得る第2工程と、上清をアルカリ性下で限外ろ過してβ−D−グルカンより低分子の夾雑物の全部又は一部を除去する第3工程とを含む精製β−D−グルカンの製造方法。例文帳に追加

The method for producing a purified β-D-glucan comprises a first process for adjusting a microorganism culture solution containing a β-D-glucan or a ground microorganism solution, a second process for removing a microorganism or an insoluble admixture to give a supernatant and a third process for ultrafiltering the supernatant in alkalinity so as to remove the whole or a part of a low-molecular admixture from the β-D-glucan. - 特許庁

スキャン型露光機100の露光光源であるArFエキシマレーザ103から取り出されたレーザ光103Lを、露光機本体101の内部を導き、レチクル115に照射し、レチクル115を出射したレーザ光を縮小投影レンズ117を通してウエハー120dをパターン状に露光する。例文帳に追加

A laser beam 103L taken out from an ArF excimer laser 103 of the exposure light source of a scanning aligner 100 is guided through the inside of an aligner main body 101, and is projected on a reticle 115 to expose a wafer 120d in the form of a pattern through a reducing projection lens 117 to the outgoing laser beam through the reticle 115. - 特許庁

液相中で蛍光体前駆体を生成させた後、該蛍光体前駆体を焼成することにより蛍光体を得る蛍光体の製造方法において、蛍光体前駆体の生成開始から終了までの時間、pH7からpH14の範囲でpH制御を2回以上行いながら蛍光体前駆体を生成させる工程を有することを特徴とする蛍光体の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing a phosphor by forming a phosphor precursor in a liquid phase and firing the phosphor precursor, the method for producing the phosphor comprises a process for forming the phosphor precursor while performing a pH control in a range from pH 7 to pH 14 twice or more during a time from the beginning to the end of the formation of the phosphor precursor. - 特許庁

高分子樹脂基材上にガスバリア層、窒化珪素薄膜が形成されてなる積層体であって、pH14以上のアルカリ性溶液に1分間浸漬した後の、JISK5600−5−6に規定する密着強度試験で1mmのカット間隔で剥離がないことを特徴とするガスバリア積層体とするものである。例文帳に追加

The transparent gas barrier laminate is constituted by forming the gas barrier layer and a silicon nitride membrane on a high-molecular resin base material and characterized in that the gas barrier layer is not peeled at a cut interval of 1 mm in a adhesive strength test regulated in JISK 5600-5-6 after immersed in an alkaline solution with a pH of 14 or above for one min. - 特許庁

例文

熱収縮性シートからなるウェハーシート1と、該ウェハーシートを取付けるウェハーリング102と、ウェハーシート1にウェハー103を貼り付けた状態でウェハーリング102に固定し、ウェハーリング102の内側に沿ってウェハーシート1に収縮を起させる収縮手段(加熱手段)2を有する。例文帳に追加

This stretching device has a wafer sheet 1 consisting of a heat- shrinkable sheet, a wafer ring 102 mounted with the sheet 1, and a shrinking means (heating means) 2 which fixes a wafer 103 on the ring 102, in a state that the wafer 103 is pasted to the sheet 1 and makes a shrinkage cause in the sheet 1 along the inner side of the ring 102. - 特許庁

例文

LiとCoとを含む複合酸化物粒子の少なくとも一部に、pH12以上の水溶液中において、NiおよびMnのうちの少なくとも一方を含む水酸化物の前駆層を形成したのち(ステップS101)、加熱処理することにより前駆層の水酸化物を脱水し、Liと,NiおよびMnのうちの少なくとも一方とを含む酸化物の被覆層を形成する(ステップS102)。例文帳に追加

After forming a precursor layer of hydroxide containing at least either Ni or Mn (a step S101) in water solution of pH12 or more, the hydroxide of the precursor layer is dehydrated by heating treatment and a coating layer of hydroxide is formed containing at least Li, and either Ni or Mn (a step S102) at a part of complex oxide particles containing Li and Co. - 特許庁

ダイオキシン類又はダイオキシン類の前駆体を含有する汚染水に過マンガン酸カリウムを添加して当該ダイオキシン類又はダイオキシン類の前駆体を分解するか、あるいはフェノール系内分泌撹乱化学物質を含有する汚染水に過マンガン酸カリウムを、pH4以下またはpH10以上の条件下で添加して前記フェノール系内分泌撹乱化学物質を分解する環境汚染物質の処理方法。例文帳に追加

In this method of treating environmental contaminant, dioxins or the precursor of dioxins are decomposed by adding potassium permanganate into contaminated water containing dioxins or the precursor of dioxins, or the phenol based endocrine disputing chemicals are decomposed by adding potassium permanganate into the contaminated water containing the phenol based endocrine disputing chemicals under a condition of pH≤4 or pH≥10. - 特許庁

脂肪族ジカルボン酸(A)と脂肪族ジオール(B)を必須単量体成分として得られる脂肪族ポリエステル系高分子ジオールとジイソシアネートを反応してなるイソシアネート末端ウレタンプレポリマー(D)とジアミン誘導体(E)を、PH10〜13.5である水中で分散、熟成により鎖伸長反応させてポリウレタン樹脂粉末(C)を得ることを特徴とするポリウレタン樹脂粉末の製造方法。例文帳に追加

A method for producing a polyurethane resin powder comprises dispersing an isocyanate terminated urethane prepolymer (D) obtained by reacting an aliphatic polyester high-molecular diol obtained by using an aliphatic dicarboxylic acid (A) and an aliphatic diol (B) as essential monomer components with an diisocyanate and a diamine derivative (E) into water having a pH of 10-13.5 and undergoing chain-extension reaction by aging to obtain a polyurethane resin powder (C). - 特許庁

アルミニウム支持体上にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光重合開始剤、及び、高分子結合剤からなる光重合型感光性組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、pH10.0〜12.5、導電率3〜30mS/cmの現像液で現像することを特徴とする。例文帳に追加

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 10.0-12.5 having 3-30 mS/cm electric conductivity and containing an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group. - 特許庁

溶融亜鉛メッキ工程で排出される亜鉛及び鉄を含む酸廃液を被処理液として処理する方法において、該被処理液とpH11以上のアルカリ水溶液とを50℃以上の条件で混合して、50℃以上の温度及び6〜11のpHを有する混合液を形成して、該溶存亜鉛イオンと鉄イオンを難溶性物質として沈殿させることを特徴とする溶融亜鉛メッキ工程で排出される亜鉛及び鉄を含む酸廃液の処理方法。例文帳に追加

In the method of treating the acid waste water containing zinc and iron discharged from the hot dip galvanizing process, a liquid to be treated is mixed with an alkali aqueous solution having pH11 at50°C to form a mixed liquid having50°C and pH 6-11 to precipitate the dissolved zinc ion and iron ion as a hardly soluble material. - 特許庁

エチレン性不飽和酸単量体を共重合した共役ジエン系ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物であって、ラテックスpH10における該共役ジエン系ゴムラテックスを構成する共重合体のメチルエチルケトン不溶解分が30重量%以下、ディップ成形用組成物のpHが8.5以上であり、かつ、含硫黄加硫剤、該加硫剤用の加硫促進剤および酸化亜鉛をいずれも実質的に含んでいないことを特徴とするディップ成形用組成物。例文帳に追加

The dip forming composition comprises a conjugated diene rubber latex obtained by copolymerizing an ethylenically unsaturated acid monomer with methyl ethyl ketone insolubles in the copolymer constituting the conjugated diene rubber latex at a pH of the latex of 10 of30 wt.%, and has a pH of ≥8.5 and, simultaneously, is substantially free of any of a sulfur- containing vulcanizing agent, a vulcanization accelerator for the vulcanizing agent, and zinc oxide. - 特許庁

本発明は、半導体ウェハー11とフォトマスク13を位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、ステージ12上で半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行う。例文帳に追加

This aligner for exposing a semiconductor wafer 11 in contact by moving the semiconductor wafer 11 after aligning the semiconductor wafer 11 and a photomask 13 registers as images the positional relation between the semiconductor wafer 11 and photomask 13 when aligned and the positional relation at exposure and recognizes the respective images to put the semiconductor wafer 11 back into a state of alignment, when a misalignment is detected, so as to correct the position. - 特許庁

例文

(A)不快味を有する薬物を含有する核粒子が、(B)エチルセルロース、アミノアルキルメタクリレートコポリマーE、アミノアルキルメタクリレートコポリマーRS、酢酸フタル酸セルロース及びアクリル酸エチル・メタクリル酸メチル共重合体から選ばれる1種又は2種以上及び(C)pH1.2で水易溶性であり、pH6.8で水難溶性の水酸化物を含むコーティング剤で被覆されてなる不快味マスキング粒子。例文帳に追加

The unpleasant taste-masking particles are provided with that (A) core particles containing the medicine having an unpleasant taste are coated with a coating agent containing (B) one or more kinds selected from among ethyl cellulose, an aminoalkyl methacrylate copolymer E, an aminoalkyl methacrylate copolymer RS, cellulose acetate phthalate and an ethyl acrylate/methyl methacrylate copolymer and (C) a hydroxide which is easily water soluble at pH 1.2 but hardly water soluble at pH 6.8. - 特許庁

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