「ん?はーい!」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

ＣＭＰ排液１１を凝集槽１に導入し、マグネシウムイオンの存在下にｐＨ１０以上で凝集処理して第１分離槽２で固液分離し、分離水を処理水１４として回収する。例文帳に追加

The CMP waste liquid 11 is introduced into a coagulation tank 1, and is coagulated at pH≥10 in the presence of magnesium ions to separate the solid from the solution with a first separation tank 2, and the separated water is recovered as treated water 14. - 特許庁

また、前記第２電流制限抵抗Ｒ２の他端は、スイッチＳＷを介して接点回路ＣＣとフォトカプラＰＨ１のコモン側に接続する。例文帳に追加

Furthermore, the other terminal of the second current limiting resistor R2 is connected through a switch SW to the common side of the contact circuit CC and of the photo-coupler PH1. - 特許庁

ｐＨ１以下の鉱酸水溶液を撹拌しながら水ガラス水溶液を添加して、シリカ濃度が５〜１２％でｐＨ３以下の珪酸水溶液を生成させることを特徴とする活性シリカの製造方法。例文帳に追加

In the preparation of the activated silica, a water glass aqueous solution (sodium silicate aqueous solution) 4 is added while a mineral acid aqueous solution 3 of at most 1 in pH is stirred, and a silicate aqueous solution of at most 3 in pH and to 12% in SiO2 concentration is generated. - 特許庁

ウエハー１の表面から浅い領域の不純物層、例えばＦＳ型ＩＧＢＴやＮＰＴ型ＩＧＢＴにおけるｐ^+コレクタ層８をレーザーアニールによって活性化する際に、１台目に照射エネルギー密度が１．０Ｊ／ｃｍ^2以上のパルス状のレーザーを照射することで、ウエハー１の表面のパーティクル２０を吹き飛ばす。例文帳に追加

When an impurity layer of a region shallow from the front surface of a wafer 1, for example a p^+ collector layer 8 in an FS type IGBT and an NPT type IGBT is activated by laser annealing, a particle 20 on the front surface of the wafer 1 is blown away by irradiating a first laser with pulse laser having irradiation energy density of 1.0 J/cm^2 or greater. - 特許庁

（ａ）アミンオキサイド類、（ｂ）アルカリ剤、（ｃ）銅フタロシアニン系青色色素、（ｄ）アゾ系黄色染料、及び水を含有する、ｐＨ１０以上（２５℃）の液体洗浄剤組成物。例文帳に追加

The liquid detergent composition has a pH of ≥10 (25°C) and comprises (a) amine oxides, (b) an alkali agent, (c) a copper phthalocyanine blue pigment, (d) an azo yellow dye and water. - 特許庁

まず、３リットルビーカーに蒸留水２リットルを入れて撹拌しながら、飛灰１００ｇを入れてスラリーとし、これにｐＨ１になるまで塩酸を添加する。例文帳に追加

While 2 liter of distilled water being poured in a beaker with 3 liter capacity and stirred, 100 g of fly ashes are added to produce a slurry and hydrochloric acid is added until pH reaches 1. - 特許庁

また、本発明は、フェノール類とアルデヒド類と脂肪族二重結合を有する化合物とを、ｐＨ１〜４の酸性下において、２００℃以下で反応することを特徴とする上記変性フェノール樹脂の製造方法である。例文帳に追加

The method for producing the modified phenol resin comprises together reacting phenols, aldehydes, and the compound having the aliphatic double bond under an acidic condition of a pH 1 to 4 at a temperature of ≤200°C. - 特許庁

チタノシリカライトのアルカリ処理は、例えば、チタノシリカライトをｐＨ１２の３０℃水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム水溶液中に懸濁し、１〜４時間攪拌することにより得られる。例文帳に追加

The alkali-treated titanosilicalite is obtained, for example, by suspending titanosilicalite in a 30°C sodium hydroxide or potassium hydroxide aqueous solution having a pH of 12 and agitating the resulting suspension for 1-4 hours. - 特許庁

可動部材１２０はシリコンウェハー１１０の表面に形成された下部電極１２１の上に設けられ、可動部材１２０の上面には上部電極１２２が形成されている。例文帳に追加

The movable member 120 is disposed on a lower electrode 121 formed on the surface of a silicon wafer 110 and an upper electrode 122 is formed on the upper surface of the movable member 120. - 特許庁

（ａ）アミンオキサイド類、（ｂ）アルカリ剤、（ｃ）特定の銅フタロシアニン系青色顔料、（ｄ）−ＯＨ基および／または−ＣＨＯ基を有する香料化合物、及び水を含有する、ｐＨ１０以上（２５℃）の液体洗浄剤組成物。例文帳に追加

This liquid detergent composition of pH10 or more (25°C), includes (a) amine oxides, (b) an alkali agent, (c) a specific copper phthalocyanine blue pigment, (d) a perfume compound having -OH group and/or -CHO group, and water. - 特許庁

さらに、その後に、ｐＨ＝１２〜６までの中和時間を１５分以上かかるように残さを定量的に分散させながら注入し、中和物のスラリーを得る。例文帳に追加

Subsequently, the residue is poured therein while being quantitatively disperses in such a manner that neutralization time till pH=12 to 6 is taken for ≥15 min, so as to obtain slurry as a neutralized product. - 特許庁

容器１２は、工作物１４と、切削工具２の少なくとも先端部分２１と、を浸漬するようにアルカリ濃度の下限がｐＨ１０である強アルカリ水１５で満たされる。例文帳に追加

The container 12 is filled with the strongly alkaline water 15 wherein the lower limit of alkali concentration is pH10 so as to immerse the workpiece 14 and at least the tip end portion 21 of the cutting tool 2. - 特許庁

水素発生防止剤および有機酸またはその塩を含むｐＨ１０以下の水溶液と、シリコンと、ガス吸着性物質とを含有する脱酸素剤、ならびに該脱酸素剤を通気性包装材に収納した包装体。例文帳に追加

The deoxidant containing a silicone and a gas adsorbing agent comprises an aqueous solution, of pH 10 or less, containing a hydrogen- generation inhibitor, and organic acids or its salts; and a packaging body comprises the packaging material accommodating the above deoxidant in a gas permeable packaging material. - 特許庁

その結果、覆い１１２に付着した洗浄液１１０の落下による再汚染を防止でき、かつウェハー１０４の周辺部まで確実に洗浄することが可能となる。例文帳に追加

Consequently, it is possible to prevent contamination due to falling of a cleaning liquid 110 attached to the cover 112 and to surely clean the wafer 104 including the periphery of the wafer 104. - 特許庁

基剤に由来する酸臭をマスキングし、長期の保存安定性が良好なｐＨ１〜５の酸性の毛髪化粧料用香料組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an acidic perfume composition of pH 1-5 for hair cosmetic, masking an acid smell derived from a base agent and having a good long term preservation stability. - 特許庁

下部透明基板ウェハー１７をスピンテーブル１６上に配置し（ａ）、紫外線硬化型接着剤１９を滴下し、スピンテーブル１６を回転させ一定膜厚に調整する。例文帳に追加

A lower transparent base plate wafer 17 is arranged on a spin table 16 (a), and an ultraviolet curing type adhesive 19 is dripped thereto and adjusted to have fixed membrane thickness by rotating the table 16. - 特許庁

減圧処理を実行する場合、機関のアイドル状態においては、目標パージ流量ＱＥＶＡＰをアイドル状態以外の運転状態における最大流量より小さい所定流量ＱＥＶＡＰＨ以下に制限する。例文帳に追加

In executing the pressure reducing treatment, a target purge flow rate QEVAP in the idling condition of the engine is restricted to be a predetermined flow rate QEVAPH or less, smaller than the maximum flow rate in an operating condition other than the idling condition. - 特許庁

コンニャク粉を水で膨潤溶解してｐＨ１０以上でアルカリ処理した後、ｐＨを８未満に低減して強制攪拌しつつ温度を上げて酵素処理する。例文帳に追加

The konjak fluid material is produced by swelling konjak powder with water to be dissolved, subjecting the mixture to alkali treatment at pH ≥10 followed by reducing the pH to <8, raising the temperature of the mixture while forcedly stirring the mixture, and subjecting the mixture to enzymatic treatment. - 特許庁

第１リフレクタ２８および第２リフレクタ３０は、第１半導体発光素子２２からの光を反射して第１個別配光パターンＰＨ１および第２個別配光パターンＰＨ２を形成する。例文帳に追加

A first reflector 28 and a second reflector 30 respectively form a first separate light-distribution pattern PH1 and a second separate light-distribution pattern PH2 by reflecting light from the first semiconductor light-emitting element 22. - 特許庁

肌に直接接触するスキンケア用品あるいは生活用水に、ＯＲＰがＯＲＰ＝０．８０−０．０４７ｐＨ以下で、皮膚のＯＲＰと同等、またはそれ以下の還元性を付与する。例文帳に追加

A skin care preparation or daily life water to be directly brought into contact with skin is provided with a reducing property having an ORP(oxidation-reduction potential based on standard hydrogen electrode and unit is V) of ≤ORP=0.80-0.047 pH and equal to ORP of skin or lower than it. - 特許庁

球受け皿４４から入賞スイッチまでの遊技球の通路であって、曲がった通路ＬＲの内側の通路面ＩＦ側には、連結材Ｓの移動を停止可能に連結材を挟持する挟持部位ＰＨ１が、配設される。例文帳に追加

A holding part PH1 for holding the connecting material so as to stop the movement of the connecting material S is arranged on the internal passage surface IF of a bent passage LR being the passage of the game ball from the ball reception tray 44 to the winning switch. - 特許庁

コンニャク粉を水で膨潤溶解してｐＨ１０以上でアルカリ処理した後、ｐＨを８未満に低減して強制攪拌しつつ温度を上げて酵素処理する。例文帳に追加

The konjac fluid material is produced by swelling konjac powder with water to be dissolved and subjecting the mixture to alkali treatment at pH ≥10 followed by reducing the pH to <8, raising the temperature of the mixture while forcedly stirring the mixture, and subjecting the mixture to enzymatic treatment. - 特許庁

ｐＨ１２以上の水溶液中において水酸化物を析出させることにより、水酸化物の析出速度を遅くすることができ、より緻密で均一な前駆層および被覆層を形成することができる。例文帳に追加

By depositing the hydroxide in the water solution of pH12 or more, deposition velocity of the hydroxide can be delayed and a precursor layer and a coating layer of higher density and uniformity can be formed. - 特許庁

上記課題を達成するため、本発明は、バチルス・リケニホルミスＢ１（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｌｉｃｈｅｎｉｆｏｒｍｉｓ Ｂ１）菌株を用いてｐＨ１０〜１３で最適活性を示す好アルカリ酵素であるセルラーゼを生産する。例文帳に追加

A cellulase which is an alkalophilic enzyme exhibiting optimal activity at pH 10 to 13 is produced with a Bacillus licheniformis B1 strain. - 特許庁

スクライブライン６に沿った溝下部分８のみにレーザービーム２１を照射して加熱した後、直ちに半導体ウエハー１全体に液体窒素２２を接触させて熱衝撃を与える。例文帳に追加

After heating by casting a laser beam 21 on a groove lower part 8 only along a scribe line 6, liquid nitrogen 22 is immediately brought into contact with the entire semiconductor wafer 1, and thermal impact is given. - 特許庁

このため、鍔１１ａを穴１２ａに沿って移動させることにより、スライドトレイ１１をスライドケース１２から引き出し、半導体ウェハー１３を傷つけることなく安全に取り出すことができる例文帳に追加

By moving the flange 11a along the hole 12a, the slide tray 11 is pulled out of the side case 12, enabling a semiconductor wafer 13 to be safely taken out, without being damaged. - 特許庁

水、アルコール及びアルカリ性化合物を含むｐＨ１１以上のアルカリ性溶液であり、かつ、アルコールの含有量が、水とアルコールの合計量に対して６０重量％以上である重合缶用洗浄剤。例文帳に追加

This cleanser for the polymerization kettle comprises an alkaline solution comprising water, an alcohol and an alkaline compound and having pH 11 or more, wherein the content of the alcohol is ≥60 wt.% based on the total amount of the water and the alcohol. - 特許庁

水晶ウエハー１０に接続部３０を解して接続された水晶振動子の長軸と平行に、水晶振動子より幅の狭いダミーパターンを配置する。例文帳に追加

A dummy pattern with a width narrower than that of the crystal vibrator is placed in parallel with the major axis of the crystal vibrator connected to the crystal wafer 10 via a connection section 30. - 特許庁

この樹脂組成物からなる成形体は、ｐＨ４以下の酸水溶液、ｐＨ１０以上のアルカリ水溶液、界面活性剤水溶液および酵素水溶液から選択される少なくとも１種で溶解させることができる。例文帳に追加

A molded article comprising the resin composition can be dissolved with at least one aqueous solution selected from acid aqueous solutions having pH 4 or less, alkali aqueous solutions having pH 10 or more, surfactant aqueous solutions, and enzyme aqueous solution. - 特許庁

亜鉛製造プロセス水などのｐＨ１以下の強酸性懸濁液を処理して、効果的に濁度の低い処理水を得ることができる強酸性懸濁液の固液分離方法を提供する。例文帳に追加

To provide a solid-liquid separation method of strong acidic suspension, capable of treating a strong acidic suspension with a pH of 1 or below such as a zinc manufacturing process water or the like to effectively obtain treated water low in turbidity. - 特許庁

金薄膜１０が形成された半導体ウエハー１１の表面にフォトレジスト２０層を形成し、フォトレジスト層のバンプ形成位置に対応する位置に貫通孔２１を形成する。例文帳に追加

A photoresist 20 layer is formed on the surface of a semiconductor wafer 11 on which a gold thin film 10 has been formed, and a through-hole 21 is formed at a position corresponding to a bump formation position of the photoresist layer. - 特許庁

ｐＨ１２以上を有し、水、少なくとも１種の強塩基および少なくとも１種のエッチング速度制御剤を含む、水性の高い強塩基性の平坦化溶液を提供する。例文帳に追加

The planarizing solution which is highly aqueous and strongly basic has a pH of 12 or more and contains water, at least one kind of strong base, and at least one kind of etching speed controlling agent. - 特許庁

ケイ酸アルカリ水溶液からアルカリを所定量以上除去して生成した所定サイズのシリカ粒子と、酸化剤および酸とを含み、ｐＨ１.５〜６である酸性コロイダルシリカにより上記課題を解決した。例文帳に追加

The colloidal silica abrasive is formed of an acid colloidal silica which comprises silica grains having a prescribed grain size produced by removing a prescribed amount of alkali from a silicate alkali aqueous solution, an oxidant, and an acid, and has a pH value of 1.5 to 6. - 特許庁

ｐＨ１２以上を有し、水、少なくとも１種の強塩基および少なくとも１種のエッチング速度制御剤を含む、水性の高い強塩基性の平坦化溶液を提供する。例文帳に追加

A flattening solution which is highly aqueous and strongly basic has a pH of 12 or higher and contains water, at least one kind of a strong base, and at least one kind of an etching speed control agent. - 特許庁

光量測定手段により測定された光量Ｐ１、Ｐ２は、夫々駆動電流−光量特性に基づいて予め設定した光量範囲ＰＬ１〜ＰＨ１、ＰＬ２〜ＰＨ２を逸脱しているか否か判定される。例文帳に追加

Whether the light quantities P1 and P2 measured by the light quantity measuring means are deviated from light quantity ranges PL1 to PH1 and PL2 to PH2 which are preliminarily set on the basis of driving current-light quantity characteristics is determined, respectively. - 特許庁

この供給口１１ａと供給口１２ａは、ジエチル亜鉛とＡｓＨ_3が加熱分解され得る温度領域内で、かつ、上下方向に並べてセットされるＧａＡｓウェハー１の最下端のセット位置より下側に設けられる。例文帳に追加

The supply port 11a and the supply port 12a are provided within a temperature areas where diethyl zinc and AsH_3 are thermally decomposed, and are set on the lower side of a set position at the lowermost end of a GaAs wafer 1 arranged above and and below. - 特許庁

ウェハー１８の処理を行う処理室内の温度をヒーター１７により反応副生成物７の除去に必要な所定の温度に昇温した後、パージ用ガスをパージ用ガスライン８を介して処理室内に導入する。例文帳に追加

After the temperature of the processing chamber in which a wafer 18 is processed is raised by a heater 17 to a temperature necessary to remove the by-products 7, purging gas is introduced into the processing chamber through a purging gas line 8. - 特許庁

精密濾過膜で濾過する工程と、ｐＨ１１〜１４のアルカリ性洗浄液で精密濾過膜を洗浄する薬液洗浄工程とを有する。例文帳に追加

This method comprises the step of filtering the used photoresist developer with a precision filter membrane and the chemical washing step of washing the precision filter membrane with an alkaline washing fluid at a pH of 11 to 14. - 特許庁

経路切換手段２０、２１、１００は、通常運転時には吸気通路１０内の経路を冷却経路ＰＨ１に切り換えて電動過給機１８を停止する。例文帳に追加

During normal operation, route switch means 20, 21, 100 stop the electric supercharger 18 by switching a route in an air intake passage 10 to a cooling route PH1. - 特許庁

なお、緩衝剤としては、水性ゲルのｐＨをｐＨ５〜ｐＨ１１の範囲ｐＨに調整する緩衝剤が好ましく、より好ましくは、水性ゲルのｐＨをｐＨ６〜ｐＨ９（更に好ましくはｐＨ７〜ｐＨ９）の範囲に調整するものがよい。例文帳に追加

The buffer is preferably one which can control the pH of the aqueous gel to be pH 5 to pH 11 preferably pH 6 to pH 9 (more preferably pH 7 to pH 9). - 特許庁

無塩素又は完全無塩素漂白方式で行われるクラフトパルプの漂白方法において、アルカリ酸素脱リグニン工程後で且つ無塩素又は完全無塩素漂白工程前に、ｐＨ１．５〜２．５、反応温度７５〜８０℃、反応時間３００〜５００分の条件下でクラフトパルプの酸処理を行う。例文帳に追加

This method for bleaching the kraft pulp in the chlorine-free or perfectly chlorine-free bleaching style is characterized by treating the kraft pulp with an acid under conditions comprising pH 1.5 to 2.5, a reaction temperature of 75 to 80°C and a reaction time of 300 to 500 min. - 特許庁

アルカリ性の第１試薬、並びに銅イオン及び銅イオンにキレート能力を持つ物質を含有するｐＨ１０以下の第２試薬からなる測定試薬である。例文帳に追加

The measuring reagent is made of the first alkali reagent and the second reagent having pH of 10 or lower, containing copper ions and a substance capable of chelating copper ions. - 特許庁

アルカリ性カリウム塩と有機酸塩と糖類とを含有するｐＨ１１．６〜１２．６のアルカリ水溶液に、魚体を１０分以上浸漬してアルカリ処理した後、冷凍する。例文帳に追加

A fish body is soaked in alkali aqueous solution containing alkali potassic sodium, organic acid salt and sugars, and having pH 11.6-12.6 for not less than 10 minutes to perform alkali treatment, and frozen. - 特許庁

ケイ素化合物の分解に供されて失活をしたＴｉＯ_２光触媒を、ｐＨ１２以上の塩基性溶液で洗浄をすることにより当該失活をしたＴｉＯ_２光触媒の再生を行う。例文帳に追加

The TiO2 photocatalyst which is used for decomposing a silicon compound and deactivated is washed in a basic solution of pH 12 or higher to regenerate the deactivated TiO2 photocatalyst. - 特許庁

光触媒粒子の表面に光触媒粒子に対して１から１０質量％のアルミニウム化合物を被着した、中性のｐＨ域で安定な光触媒ヒドロゾル。例文帳に追加

The photocatalyst hydrosol is obtained by depositing 1-10 mass% of an aluminum compound on the surface of a photocatalytic particle to the photocatalytic particle, and is stable in a neutral pH range. - 特許庁