「ガス反応性」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

この一次反応ガスをより低圧の二次プラズマ空間４２ａでプラズマ化し、被処理物９０との反応性を有するフッ素ラジカル等の反応性ハロゲン系成分を含む二次反応ガスを生成し、この二次反応ガスを被処理物９０に接触させる。例文帳に追加

Subsequently, plasma of the primary reaction gas is generated in a low pressure secondary plasma space 42a and secondary reaction gas containing a reactive halogen based component such as fluorine radicals exhibiting reactivity to an article 90 to be treated is produced and brought into contact with the article 90 to be treated. - 特許庁

不活性ガスを脱硫反応部３に供給する不活性ガス供給器２を具備する。例文帳に追加

An inert gas supply apparatus 2 for supplying an inert gas to the desulfurization reaction part 3 is provided. - 特許庁

チャンバ１１には、不活性ガスまたは反応性ガスが流量制御装置２４を介して供給される。例文帳に追加

Inert gas or reactive gas is fed to the chamber 11 through a flow control device 24. - 特許庁

半導体製造装置に於いて、反応管からのガスの漏出を確実に防止し、更に反応管及び反応管の関連部分から漏出したガスの拡散を防止し、漏出したガスによる弊害を除去し、更に反応ガスが爆発性のガスであった場合に、爆発による機器の損傷を防止する。例文帳に追加

To prevent without fail a gas from leaking from a reaction tube, to further prevent the gas that has leaked from the reaction tube and parts relating to the reaction tube from diffusing, to remove trouble resulting from the leaked gas, and to further prevent damage of devices by explosion when the reaction gas is an explosive gas in semiconductor manufacturing equipment. - 特許庁

水性ガスシフト反応触媒および該触媒の製造方法。例文帳に追加

WATER GAS SHIFT REACTION CATALYST AND PRODUCING METHOD OF THE CATALYST - 特許庁

オゾンおよびその他の反応性ガスの発生セルおよびシステム例文帳に追加

GENERATING CELL AND SYSTEM FOR OZONE AND OTHER REACTIVE GAS - 特許庁

水性ガスシフト反応用の触媒及びその製造方法例文帳に追加

CATALYST FOR WATER-GAS-SHIFT REACTION AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

未反応昇華性ガストラップ装置およびその洗浄方法例文帳に追加

TRAPPING APPARATUS FOR UNREACTED SUBLIMATION GAS, AND ITS CLEANING METHOD - 特許庁

高価な真空装置及び毒性のある反応ガスの使用をなくすことである。例文帳に追加

To eliminate use of an expensive vacuum device and reaction gases with toxicity. - 特許庁

プラズマ気相反応による二酸化炭素を可燃性ガスへ転化する方法例文帳に追加

METHOD FOR CONVERTING CARBON DIOXIDE TO COMBUSTIBLE GAS BY PLASMA GASEOUS PHASE REACTION - 特許庁

反応性エッチングガスをエネルギー励起するためにプラズマを用いる。例文帳に追加

Plasma is used for energy excitation of reactive etching gas. - 特許庁

この反応により、Ｈ_2ガスと不揮発性であるＳｉＯ_2が発生する。例文帳に追加

According to this reaction, H2 gas and nonvolatile SiO2 are generated. - 特許庁

反応性ガス処理用ウェーハの製造方法、これを用いたウェーハの反応性ガス処理方法及び反応性ガス処理装置において、エピタキシャル成長等の反応性ガス処理時において水分の発生を抑制すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing wafer subjected to reactive gas treatment, and to provide a method and apparatus for performing reactive gas treatment by which the occurrence of moisture can be suppressed at the time of performing reactive gas treatment, such as epitaxial growth, etc., on a wafer manufactured by the manufacturing method. - 特許庁

燃料電池において反応ガスの配流性の解析を容易にする。例文帳に追加

To facilitate the analysis of flow distribution performance of a reaction gas in a fuel cell. - 特許庁

レーザ加工装置１は、レーザにより樹脂層を加工する加工部１００と、加工中に反応性ガスを供給する反応性ガスソース１５０と、反応性ガスを閉じ込める閉じ込め部１５２とを備える。例文帳に追加

The laser beam machining device 1 includes a machining part 100 machining a resin layer with a laser beam, a reactive gas source 150 supplying a reactive gas during machining, and a confining part 152 confining the reactive gas. - 特許庁

植物系廃棄物を炭化工程(1) で乾留・炭化し、得られた炭を水性ガス化反応工程(3) で水蒸気と反応させて水性ガス化反応させ、水性ガスから水素から工程(4) で水素を分離して水素を製造する。例文帳に追加

The hydrogen is manufactured by subjecting a vegetable waste to dry distillation and carbonization in the carbonization step (1), reacting the obtained char with steam to conduct the water gas reaction in the water gas reaction step (3), and separating the hydrogen from the water gas in the step (4). - 特許庁

反応性ガスは、スパッタ電極部２２の外部で、かつ、被処理基板９０とターゲット３０との間に、第１の反応性ガス供給装置１３０および第２の反応性ガス供給装置１４０から供給される。例文帳に追加

Reactive gas is fed from a first reactive gas feeder 130 and a second reactive gas feeder 140 to the outside of the sputter electrode part 22 which is also the space between the substrate 90 to be treated and the target 30. - 特許庁

プラズマ分解装置２６には、前記反応性成分と反応可能な添加ガスが導入され、前記添加ガスは、オゾンを含む。例文帳に追加

To the plasma decomposing apparatus 26, the added gas which can react with the reactive elements is introduced and the added gas includes ozone. - 特許庁

また、第２の酸化反応器３０で得られる気相を窒素ガス供給ライン４２により不活性ガスとして還元反応器１０に供給する。例文帳に追加

Further, a gas phase obtained in the second oxidation reactor 30 is fed to the reduction reactor 10 as an inert gas by a gaseous nitrogen feed line 42. - 特許庁

燃料ガスと酸化剤ガスとの反応およびその反応熱の冷却を効率よく行い、燃料電池の出力性能の向上を図る。例文帳に追加

To enhance the output performance of a fuel cell by making efficient the reaction of a fuel gas with an oxidant gas and the cooling of heat of the reaction. - 特許庁

燃料ガスと酸化剤ガスとの反応がセパレータの反応帯域全体で効率よく行われるようにし、燃料電池の性能向上を図る。例文帳に追加

To enhance the performance of a fuel cell by causing a reaction between a fuel gas and an oxidant gas to be efficiently performed over the whole reaction zone of a separator. - 特許庁

ウェハ等の基材の外周部の不要物を反応性ガスにて除去する際、反応効率を向上させ、ガス所要量を低減する。例文帳に追加

To improve a reactive efficiency and reduce a gas requirement when an unnecessary substance in the outer periphery of a base material such as a wafer is eliminated by reactive gas. - 特許庁

反応ガス流路側の生成水の排出性を向上させるとともに、セパレータ面内に反応ガスを均一に流通させることを可能にする。例文帳に追加

To improve discharge performance of generated water on a reaction gas passage side and to enable to circulate uniformly the reaction gas on the separator surface. - 特許庁

反応性ガス６はマスフローコントローラ７によって流量制御され、ガス導入口８より反応室１内へ導入される。例文帳に追加

A reaction gas 6 is introduced into the reaction chamber 1 through a gas inlet 8, while the flow rate of the gas 6 is controlled by means of a mass flow controller 7. - 特許庁

反応帯２２に固体塩基性化合物と発熱反応をする被処理ガスを導入して、該被処理ガスを化学的処理する。例文帳に追加

The gas to be treated which causes exothermal reaction with the solid basic compound is introduced into the reaction zone 22 to carry out chemical treatment of the gas to be treated. - 特許庁

反応ガス流路以外に反応ガスが流れることを阻止し、簡単な構成で、所望の発電性能を確保することを可能にする。例文帳に追加

To secure a required power-generating performance with a simple structure by preventing a reaction gas from flowing outside a reaction gas flow channel. - 特許庁

シリコン基材にＣＶＤ反応装置内でＣＶＤ法によりＳｉＣ膜を形成するに際し、該反応装置内にＳｉＣ膜形成のための反応ガスを導入するに先立って、反応装置内の雰囲気を不活性ガス雰囲気とする。例文帳に追加

In forming SiC film on the substrate by the CVD method in the CVD reactor, previous to a reactor gas introduction into the reactor for forming SiC film, the atmosphere in the reactor is arranged as inert gas atmosphere. - 特許庁

反応性ガスは、Ｃ及びＦを含有するガスと不活性ガスとの混合ガスから構成され、この反応性ガス中のＣ、Ｆ及びＯ_2 のモル比が、Ｃ／Ｏ_2 ≧６、Ｆ／Ｏ_2≧５．３である。例文帳に追加

The reaction gas is constituted of the mixed gas of gas, containing C and F with inert gas, and the mol rate of C, F, and O2 in the reaction gas is set such that C/O2≥6 and F/O2≥5.3. - 特許庁

気相法で四塩化チタンを含むガスと酸化性ガスとを反応させることにより二酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタンを含むガス及び酸化性ガスをそれぞれ反応管に導入し反応させたとき、該反応管内の温度が１，０５０℃以上１，３００℃未満である。例文帳に追加

The production process of the titanium dioxide comprises a step of reacting a titanium tetrachloride-containing gas with an oxidative gas by a vapor phase method, wherein when the titanium tetrachloride-containing gas and the oxidative gas are introduced into a reaction tube and reacted with each other, the temperature in the reaction tube is ≥1,050°C and <1,300°C. - 特許庁

気相法で四塩化チタンを含むガスと酸化性ガスとを反応させることにより二酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタンを含むガス及び酸化性ガスをそれぞれ反応管に導入し反応させたとき、該反応管内の温度が１，０５０℃以上１，３００℃未満である。例文帳に追加

In the method for manufacturing the titanium dioxide by reacting a gas containing titanium tetrachloride with an oxidative gas with a vapor phase process, the gas containing the titanium tetrachloride and the oxidative gas are each introduced into a reaction tube in such a manner that the reaction is carried out at a temperature inside the reaction tube of 1,050°C or higher and lower than 1,300°C. - 特許庁

反応管２に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスの混合気体を導入すると共に外側電極１と内側電極３の間に交流電界を印加することにより大気圧下で反応管２の内部にグロー放電を発生させる。例文帳に追加

Inert gas or a gaseous mixture of inert gas and reaction gas is introduced into the reaction tube 2, and moreover, the a.c. - 特許庁

前記濃縮器２は被測定ガス中の反応性ガスを吸着すると共に加熱によりこの反応性ガスを反応をさせることなく脱離する吸着材とこの吸着材を加熱するヒータ１３とを備える。例文帳に追加

The concentrator 2 is equipped with an adsorbent for adsorbing the reactive gas in the gas to be measured and desorbing the reactive gas by heating without generating a reaction, and a heater 13 for heating the adsorbent. - 特許庁

基材の外周部に被膜された不要物に反応性ガスを接触させて除去する際、反応性ガスの利用効率及び反応効率を高め、所要ガス量を低減できる基材外周処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for treating an outer periphery of a base material that increases the utilization efficiency and reaction efficiency of reactive gas when bringing the reactive gas into contact with a unnecessary object covered at the outer-periphery section of a base material for removal, and can reduce the amount of required gas. - 特許庁

ピストンのシール性を向上して反応ガスのガス圧の損失を可能な限り抑制する。例文帳に追加

To suppress any loss of the gas pressure of reactive gas as much as possible by improving the piston sealing performance. - 特許庁

真空容器１の下部に、反応ガス及び不活性ガスの排気口１ｂを設ける。例文帳に追加

An evacuation opening 1b is provided to the lower part of the vacuum vessel 1 for the reactive gas and the inert gas. - 特許庁

鋳込み中に反応したH_2ガスやCOガスに起因するブローホール性表面欠陥の発生を防止する。例文帳に追加

To prevent generation of surface defects deriving from blowholes caused by H_2 gas or CO gas that reacts during casting. - 特許庁

反応性ガスの総流量に対し、酸素ガス流量は、５、５％以下である。例文帳に追加

In this case, the flow rate of oxygen gas is set to be not more than 5.5% with respect to the total flow rate of the reactive gas. - 特許庁

ガスシール性の高い反応ガスセパレータを備えた燃料電池を提供する。例文帳に追加

To provide a fuel cell equipped with a reaction gas separator having high gas sealing performance. - 特許庁

本発明の実施形態に係る粒子製造装置は、反応容器１と、原料ガスと反応抑制剤発生ガスを導入するガス導入部２と、反応容器１にキャリアガスを導入する不活性ガス導入部と、反応容器１に設けられるヒータ５と、排出部６とを備え、粒子の生成反応とその逆反応を用いて、粒子の成長を制御する。例文帳に追加

The particle manufacturing apparatus has a reaction vessel 1, a gas introducing portion 2 introducing a raw material gas and a reaction inhibitor generating gas, an inert gas introducing portion introducing a carrier gas into the reaction vessel 1, a heater 5 provided in the reaction vessel 1, and a discharge portion 6 to control the growth of particles by using the reaction of formation of particles and its reverse reaction. - 特許庁

ガス検出装置２１０は、酸化性ガスの濃度変化に反応するガスセンサ素子２１１、及び還元性ガスの濃度変化に反応するガスセンサ素子２２１を用いる。例文帳に追加

In this gas detection device 210, a gas sensor element 211 reacting with the concentration change of an oxidizing gas and a gas sensor element 221 reacting with the concentration change of a reducing gas are used. - 特許庁

反応性ガスをプラズマ化するとともに試料に高周波電圧を印加して、試料に形成された絶縁膜をエッチングする際に、エッチングガスとして反応性ガスにＡｒ＋ＣＨ_４ ガスを添加したガスを用いる。例文帳に追加

A gas in which an Ar+CH_4 gas is added to a reactive gas is used as an etching gas when an insulating film formed on a sample is etched by changing the reactive gas into plasma while applying a high-frequency voltage to the sample. - 特許庁

このフッ素系反応ガスと、Ｏ_３を含む酸化性反応ガスと、プラズマ空間１３を経ないＮ_２等の希釈用不活性ガスとを混合して処理ガスを得、この処理ガスをシリコン基板９からなる被処理物に接触させる。例文帳に追加

The fluorine-based reactive gas, an acidic reactive gas containing O_3 and a diluting inert gas such as N_2 not passing through the plasma space 13 are mixed to obtain a treatment gas, and the treatment gas is allowed to contact a workpiece consisting of a silicon substrate 9. - 特許庁

燃焼部、燃焼ガス分配器ならびに第一燃焼ガス通路および第二燃焼ガス通路を含む燃焼反応部；２つの改質反応部および水性ガス転換反応部を含む燃料転換触媒反応部を含む小型円筒状改質装置。例文帳に追加

The small cylindrical reformer comprises a combustion reaction unit containing a combustion section, a combustion gas distributer, a first combustion gas passage, and a second combustion gas passage and a fuel shift catalyst reaction unit containing two reforming reaction sections and a water gas shift reaction section. - 特許庁

同様に、テープ状線材６の下部側の膜面に対して垂直方向から反応性ガスを供給し、テープ状線材の膜体を超電導層に反応させるとともに、同時に反応後のガスの排出管４c、４dのガス排出孔から反応後のガスを排出する。例文帳に追加

The reactive gas is vertically supplied to a film surface on the lower side of the tape-like wire 6 in a similar fashion to react the film body of the tape-like wire with the superconductive layer; and the reacted gas is exhausted from gas exhaust holes of exhaust tubes 4c and 4d for the reacted gas at the same time. - 特許庁

燃料電池の既反応ガスを用いて保水性の多孔質体を介して未反応ガスを加湿する燃料電池システムにおいて、反応ガスの圧力損失を低減する。例文帳に追加

To reduce pressure loss of reaction gas in a fuel cell system humidifying un-reacted gas via a water retaining porous body by using reacted gas of a fuel cell. - 特許庁