「スパター」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

パルスパターン発生器のパターン同期パルス発生回路と同期パルス発生方法例文帳に追加

PATTERN SYNCHRONIZING PULSE GENERATING CIRCUIT OF PULSE PATTERN GENERATOR AND SYNCHRONIZING PULSE GENERATION METHOD - 特許庁

配線基板13の点灯回路のアースパターン33にアース引出線36の基端部を接続する。例文帳に追加

The base end of a ground extension line 36 is connected to a ground pattern 33 of a lighting circuit of the wiring board 13. - 特許庁

被測定パターン１１は、例えばラインアンドスペースパターンにより構成される。例文帳に追加

The patterns to be measured 11 are, for example, constituted of line and space patterns. - 特許庁

まず、媒体の所定の領域に孤立マークパターンと孤立スペースパターンを記録する。例文帳に追加

First, an isolated mark pattern and an isolated space pattern are recorded in a prescribed region. - 特許庁

規定長さＸよりも短い記録マーク（ｎＴ＜Ｘ）を形成する場合には１個のオンパルスパターン及びこれに続く１個のオンパルスパターンを用い、規定長さＸよりも長い記録マーク（ｎＴ＞Ｘ）を形成する場合には２個のオンパルスパターン及びこれらそれぞれに続く２個のオンパルスパターンを用いて、記録マークを形成する。例文帳に追加

A recording mark is formed by using one on-pulse pattern and succeeding one on-pulse pattern when the recording mark (nT<X) shorter than a specified length X is formed, and by using two on-pulse patterns and two on-pulse patterns succeeding respectively thereto when the recording mark (nT>X) longer than the specified length X is formed. - 特許庁

制御部５０は、シーケンスパターン発生部２３に所望のシーケンスパターンを書き込むとともに、データ選択部２４を制御し、６４Ｂ／６６Ｂ符号化処理部２２によって符号化されたデータとシーケンスパターン発生部２３から出力されるシーケンスパターンとのいずれか一方を選択して被試験対象装置に与える。例文帳に追加

A controller 50 writes a desired sequence pattern in the sequence pattern generator 23 and selects either the data encoded by a 64B/66B encoder 22 or a sequence pattern issued from the sequence pattern generator 23 and imparts the one selected to a test target device by controlling a data selector 24. - 特許庁

デバイスパターン像とモニタパターン像とを転写する際において、製品の歩留まりを向上する。例文帳に追加

To improve yield of a product at the time of transferring a device pattern image and a monitor pattern image. - 特許庁

メモリ２には、単位パルスパターン長を規定するLENデータと、単位パルスパターンの繰り返し数を規定するLOOPデータと、単位パルスパターンを繰り返させるRETURNデータと、駆動パルスDPのデータが格納されており、アドレス発生回路１からのアドレスADに応じたパルスパターンの駆動パルスDPがメモリ２から出力される。例文帳に追加

In a timing pulse generator, the memory 2 stores LEN data for prescribing unit pulse pattern length, LOOP data for prescribing the number of repetitions of the unit pulse pattern, RETURN data for repeating the unit pulse pattern, and the data of the drive pulse DP, and the drive pulse DP of the pulse pattern according to an address AD from an address generation circuit 1 is outputted from the memory 2. - 特許庁

干渉レベルに基づいてリユースパターンを発生させる方法、装置及びシステム例文帳に追加

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM OF GENERATING REUSE PATTERN BASED ON INTERFERENCE LEVEL - 特許庁

ＯＰＣ後のデバイスパターンの段差を低減してフォトマスクを形成する。例文帳に追加

To form a photomask while reducing a step of a device pattern after OPC (optical proximity correction). - 特許庁

電子システム、電子機器、ウィルスパターン管理装置、プログラム、および記録媒体例文帳に追加

ELECTRONIC SYSTEM, ELECTRONIC EQUIPMENT, VIRUS PATTERN MANAGEMENT DEVICE, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM - 特許庁

この方法により、メモリエラーが発生した時とその前のアクセスパターンを記録出来る。例文帳に追加

This method makes it possible to record an access pattern at the time when a memory error occurs and an access pattern before it. - 特許庁

研磨工程などを削減するとともに素子分離領域の上に微細なゲートスペースパターンを有する。例文帳に追加

To reduce a polishing process and have a fine gate space pattern on an element separating area. - 特許庁

エンボス型体９は、表面にエンボスパターンＰを形成した金属シートで形成する。例文帳に追加

The emboss-shaping body 9 is made of a metallic sheet having an embossing pattern P formed on the surface. - 特許庁

入射方向検出手段より相手送信部側に、２本以上のクロスパターンを持ったクロスパターンフィルタを用い、前記クロスパターンフィルタが位置検出用受光素子上に作り出すクロスパターンと位置検出用受光素子を分割する分割線とが重なり合わずに交差するように配置する。例文帳に追加

A cross pattern filter including two or more cross patterns is used on the side of an opposite transmission part by an incidence direction detection means, and the cross pattern filter is disposed to be crossing without overlapping a cross pattern that is created on a photo-detector for position detection, and a dividing line dividing the photo-detector for position detection. - 特許庁

この機能により、エラーが発生した際のアクセスパターンの再現を繰り返し実施可能になる。例文帳に追加

This function makes it possible to repeatedly reproduce the access pattern at the time when an error occurred. - 特許庁

配線基板１１にアースパターンと所定の形状の開口部１３とを形成する。例文帳に追加

A ground pattern and an opening 13 in a predetermined shape are formed on a wiring substrate 11. - 特許庁

パターン検出部１４は、エッジ間時間に基づいてパルスパターンを検出する。例文帳に追加

A pattern detection part 14 detects the pulse pattern according to the inter-edge time. - 特許庁

孤立スペースパターンと孤立ラインパターン又は密集パターンとを同時に微細化できるようにする。例文帳に追加

To simultaneously micronize an isolated space pattern and an isolated line pattern or a dense pattern. - 特許庁

ブラックマトリクス用組成物及びこれを用いたブラックマトリクスパターンの形成方法例文帳に追加

BLACK MATRIX COMPOSITION AND METHOD OF FORMING BLACK MATRIX PATTERN USING SAME - 特許庁

移動体１は光オン部６と光オフ部７およびインデックスパターン部１０を有する。例文帳に追加

The moving body 1 has a light-on part 6, a light-off part 7 and an index pattern part 10. - 特許庁

負荷レベルに基づいてリユースパターンを発生させる方法、装置及びシステム例文帳に追加

METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR GENERATING REUSE PATTERN BASED ON LOAD LEVELS - 特許庁

再遭遇パターン検出部１−５は、学習済みであるが、再度遭遇した準正常又はレアケースのシーケンスパターンを、シーケンスパターン毎の呼数の全シーケンスパターンの総呼数に対する割合を基に検出し、そのシーケンス情報を再遭遇シーケンスパターン保存エリア１−７に保存する。例文帳に追加

The sequence patterns of a semi-normal operation or a rare-case operation which are learned in the past but re-encountered are detected through a re-encounter pattern detection unit 1-5 on the basis of the ratio of the calls of each sequence to the total calls of all the sequence patterns, and the sequence information is stored in a re-encounter sequence pattern storing area 1-7. - 特許庁

様々な周期，パターンを持つ光パルス信号を発生する光パルスパターン発生器を提供する。例文帳に追加

To provide an optical pulse pattern generator which generates optical pulse signals having various periods and patterns. - 特許庁

ＯＰＣによって段差１ａが形成されたデバイスパターン１と、そのデバイスパターン１に隣接するアシストパターン２とに対し、形状補正を行う。例文帳に追加

Shape correction is performed to a device pattern 1 with a step 1a formed by OPC, and an assist pattern 2 adjacent to the device pattern 1. - 特許庁

基板に形成されたデバイスパターンと、前記デバイスパターンの一側に互いに異なる大きさの垂直断面積を有して複数個形成されたダミーパターンとを含んで半導体素子を構成する。例文帳に追加

A semiconductor device is made up including a device pattern formed on a substrate and a plurality of dummy patterns formed on one side of the device pattern with vertical-sectional areas different from one another. - 特許庁

コントローラ１では、１つの信号端子に入力された重なったパルスパターンの信号にそれぞれのパルスパターンの信号が含まれていることを識別することにより、２つの信号に分解する。例文帳に追加

The controller 1 recognizes that the signal with the overlapped pulse patterns inputted to one signal terminal includes the signal of each pulse pattern, then, decomposes it into the two signals. - 特許庁

擬似ウィルスパターンの埋め込まれたデータファイルが他の端末に流出した場合でも、その端末において、アンチウィルスソフトの機能によって、擬似ウィルスパターンが検知される。例文帳に追加

Even when the data file in which the pseudo virus pattern is embedded flows out to the other terminal, the pseudo virus pattern is detected by the function of anti-virus software in the terminal. - 特許庁

このように、複数種の半導体基板１におけるフォーカスパターン１４ｆを同じ高さとすれば、そのフォーカスパターン１４ｆを基準としてフォーカス合わせをすることで、フォーカス高さを合わせることができる。例文帳に追加

With the focus patterns 14f on a plurality of types of semiconductor substrate 1 identical in height as mentioned above, the focusing height can be made uniform by obtaining focusing with reference to the focus patterns 14f. - 特許庁

異なる製品を形成する複数種の半導体基板１それぞれに対し、半導体基板１上のスクライブライン上に同じ高さのフォーカスパターン１４ｆを設け、このフォーカスパターンを基準としてフォーカスを合わせる。例文帳に追加

A plurality of types of semiconductor substrate 1 for forming different products are respectively provided with focus patterns 14f identical in height on scribe lines on the semiconductor substrates 1, and focusing is obtained with reference to these focus patterns. - 特許庁

再生パターン制御部２６３は、リミックスパターンデータに示されるリミックスパターンに従って音声ブロックが再生されるように、楽曲データを再生する位置およびタイミングを制御する。例文帳に追加

A reproduction pattern controller 263 controls the position and timing of reproduction of musical piece data so that the audio block is reproduced according to the remix pattern that the remix pattern data represent. - 特許庁

エンボスロール２の周面部に、各エンボスパターンに対応した凸部２１、２２が配設されているとともに、エンボスロール２とアンビルロール３との間に、各エンボスパターンに応じたクリアランスが形成されている。例文帳に追加

The protruded parts 21 and 22 corresponding to respective emboss patterns are arranged to the peripheral surface part of the emboss roll 2 and the clearances corresponding to the respective emboss patterns are formed between the emboss roll 2 and the anvil roll 3. - 特許庁

角度検出部３は２値化パターンＢＩを複数のリファレンスパターンＲＡの各々と比較し、一致したリファレンスパターンＲＡの角度を角度情報Ｓ１として出力する。例文帳に追加

An angle detection section 3 compares the binarization pattern BI with each of the plurality of reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information S1. - 特許庁

センタ３は、投票受付開始前に、試合結果の組み合わせ毎にリデュースパターンセットとリデュースパターンを適用するための基本ルールを予め記憶する。例文帳に追加

This center 3 stores a reduce pattern set for each combination of the game result and a basic rule for applying a reduce pattern before starting betting reception. - 特許庁

第１のパターンマッチング角度検出部３は２値化パターンＢＩを複数のリファレンスパターンＲＡの各々と比較し、一致したリファレンスパターンＲＡの角度を角度情報ＰＡとして出力する。例文帳に追加

A first pattern matching angle detecting part 3 compares the binary pattern BI with each of those reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information PA. - 特許庁

自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンは、パターンとしては同じであるが、その位相は自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンに対して３０度ずれたものとなる。例文帳に追加

The pulse pattern given to the self- excitation voltage type converter is identical to that of pattern, but the phase of this pattern results, deviated by 30 degrees for the pulse pattern given to the self-excitation voltage type converter. - 特許庁

基板にフォトレジストを塗布する塗布工程と、フォトレジストが塗布された基板に所定の露光エネルギ量でデバイスパターンを露光する露光工程と、デバイスパターンが露光された基板を現像する現像工程とを含む。例文帳に追加

The method for fabricating a device comprises a step for coating a substrate with photoresist, a step for exposing a device pattern on the substrate coated with photoresist with a specified exposing energy, and a step for developing the substrate exposed with the device pattern. - 特許庁

ウエハ上の露光パターンを高精度で且つ迅速にシミュレーションすることができると共に、デバイスパターンを高精度で補正することができるマスクのデバイスパターンの補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting the device pattern of a mask by which the exposure pattern on a wafer can rapidly simulated with high accuracy and the device pattern can be corrected with high accuracy. - 特許庁

マスク上のパターン精度をデバイスパターン形成領域内で直接測定することにより、デバイスパターン形成領域内のマスク精度を直接保証することを目的とする。例文帳に追加

To directly guarantee mask accuracy within a device pattern forming region, by directly measuring the pattern accuracy on the mask within the device pattern forming region. - 特許庁

シールド用に、一方の振動子接続パターンＰｘ１に対応する部分にのみアースパターンＰｇｎｄ２を設け、他方の振動子接続パターンＰｘ２に対応する部分にはアースパターンは設けない。例文帳に追加

A ground pattern Pgnd2 is disposed in a part corresponding to one oscillator connection pattern Px1 and the ground pattern is not disposed in a part corresponding to the other oscillator connection pattern Px2 for shielding. - 特許庁

量子化された画像データについて、量子化レベルに対応する複数種のマトリックスパターンを用いてドットパターンを展開する際に、該複数種のマトリックスパターンを、予め２つのグループに分類しておく。例文帳に追加

When expanding a dot pattern by using a plurality of kinds of matrix pattern as to quantized image data, the matrix patterns of the plural kinds are classified into two groups in advance. - 特許庁

パルスパターン生成回路６及び高速差動Ｉ／Ｏ８は基準クロック７で駆動されているため、パルスパターン１１によってパルス幅が影響を受けることはない。例文帳に追加

The pulse pattern generating circuit 6 and the high speed differential I/O8 are driven by a reference clock 7 whereby a pulse width will not be affected by the pulse pattern 11. - 特許庁

プリント基板３上には、壁部５を形成する箇所に沿って、アースパターン９が形成され、アースパターン９上には壁部５が形成されている。例文帳に追加

A ground pattern 9 is formed along the portion forming the portion 5, and the portion 5 is formed on the pattern 9, on the board 3. - 特許庁

表面に周方向に沿って凹凸状のエンボスパターン２が設けられた基板４上に磁性膜６が形成されたエンボスパターン付き磁気ディスクにおいて、下記構成を採用する。例文帳に追加

The magnetic disk having an emboss pattern where a magnetic film 6 is formed on a substrate 4 having a recessed and projected emboss pattern 2 disposed on a surface along the peripheral direction employs the following structure. - 特許庁

バスパターン設計において、電源層に内層クリアランスを伴うミニビアが配置された場合には、そのバスパターンのミニビア間に、所定幅の電源ラインが確保されているか否かを判断している。例文帳に追加

In a bus pattern design, in the case that a mini-via is disposed in association with an inner layer clearance in the power source layer, whether a power source line of a predetermined width is assured or not between the mini-vias of the bus pattern. - 特許庁