「スパター」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

複数のバスマスタから共有メモリへのアクセス制御において、従来のバスアービタ手法では、あるバスマスタのメモリアクセスのデータ転送レートが他のバスマスタのアクセスパターンに依存して変化してしまうため、最低限のデータ転送レートを完全に保証することができない。例文帳に追加

To solve a problem that, in access control from a plurality of bus masters to a shared memory, in a conventional bus arbiter method, a memory access data transfer rate of a certain bus master changes by being dependent on an access pattern of the other bus master, and a minimum data transfer rate cannot be completely guaranteed. - 特許庁

主信号とパスパターンに付加するパリティ則を異なるものとし、ＰＫＧ内のデータ誤りを監視する際、当該通信データに付加された主信号用のパリティを監視し、それ以外のパリティ則が検出された場合アラームを出力する。例文帳に追加

When parity rules added to the main signal and the path pattern are changed and a data error in PKG is monitored, the parity for the main signal added to communication data is monitored and if a parity rule other than it is detected, an alarm is outputted. - 特許庁

本実施形態の半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられたメモリセルの素子領域と、前記メモリセルの素子領域にラインアンドスペースパターン状に形成された活性領域および素子分離領域とを備える。例文帳に追加

A semiconductor device in an embodiment comprises: a semiconductor substrate; an element region of a memory cell provided on the semiconductor substrate; and an active region and an element isolation region formed in a line-and-space pattern in the element region of the memory cell. - 特許庁

この目的を達成する為に本発明は、基板１と、この基板１上に設けられた第一、第二の方向性結合線路２，３とを備え、前記第一、第二の方向性結合線路２，３間の基板１上にはアースパターン８を設けたものである。例文帳に追加

The directional coupler comprises the board 1 and first and second directional coupler lines 2 and 3 on the board 1, and a ground pattern 8 is provided on the board 1 between the first and second directional coupler lines 2 and 3. - 特許庁

そして、アプリケーションのインストールに関してはインストールサーバ１３に記憶されているインストールプログラムだけを起動できるように制限するとともに、ＯＳやウィルスパターンファイルの更新に関しても特定のＷｅｂサーバだけのアクセスを許可する。例文帳に追加

Then, installation of application is restricted so that only an installation program stored in an installation server 13 is started, and with respect to update of the OS and virus pattern file, only a specific Web server is made accessible. - 特許庁

浴室、洗面室、トイレ等の水周り部の壁面等に使用する繊維強化樹脂積層板に関し、鏡面仕上げであり、研磨の手間及び研磨面との相性、なじみ、ひけの問題や仕上がりの均一性、ガラスパターンの透け解消を課題とする。例文帳に追加

To achieve mirror surface finish, to solve a problem of polishing labor, the compatibility with and drapeability to a polished surface and a sink while achieving the uniformity of finish and eliminating the see-through of a glass pattern in a fiber reinforced resin laminated sheet adapted to the wall surface of a water using part such as a bathroom, a washroom or a toilet. - 特許庁

高い精度が要求されるデバイスパターンの相補分割を行わないことにより、パターンを高精度に保持してデバイスの信頼性を向上させると共に、必要とあれば相補分割禁止領域にも相補分割パターンの導入を可能にすること。例文帳に追加

To improve a device in reliability by holding a pattern high in accuracy by not performing complementary division of a device pattern that requires high accuracy, and to enable a complementary divided pattern to be introduced into a complementary division inhibiting region if necessary. - 特許庁

デジタル回路部およびアナログ回路部に形成されたスルーホール１４、１５間に内層パターン１６で主信号ラインを形成すると共にこの内層パターン１６の長手方向に沿って形成された複数のスルーホール１８を含む螺旋状のリターンパスパターン１７を設ける。例文帳に追加

A main signal line is formed between through-holes 14, 15 formed in the digital and analog circuits by an internal layer pattern 16, and a helical return path pattern 17 is provided which includes a plurality of through-holes 18 formed along the longitudinal direction of the internal layer pattern 16. - 特許庁

ファイルサーバに記憶されているデータを端末装置の二次記憶装置に記憶したり、許可されていないプログラムの端末装置へのインストールを防止したりしつつ、必要なプログラムのインストールができ、ＯＳやウィルスパターンファイルの更新ができる二次記憶装置書込み禁止システムを提供する。例文帳に追加

To provide a secondary storage device write prohibition system which installs necessary programs and updates an OS and virus pattern file while storing data stored in a file server to a secondary storage device of a terminal device, and preventing impermissible programs from being installed to a terminal. - 特許庁

この基板１のアースパターン５を除く領域に絶縁性保護層６をポッティングし、絶縁性保護層６によって回路素子３と半導体ベアチップ４を覆うと共に、絶縁性保護層６の上面をプレス等で平坦化処理する。例文帳に追加

An insulative protection layer 6 is potted in an area excluding the earth pattern 5 of the substrate 1, the circuit element 3 and semiconductor bare chip 4 are covered with the insulative protection layer 6, and the upper surface of the insulative protection layer 6 is flattened by a press, etc. - 特許庁

デバイスプログラムのホールド命令に関する記述上の制限をなくす構成とすることで、デバイスプログラムを作成するユーザの負担を軽減し、短時間でデバイスプログラムを記述することができるアドレスパターン発生装置及び半導体集積回路試験装置を提供する。例文帳に追加

To provide an address pattern generating device that can describe a device program in a short time, by reducing the burden imposed upon the user, who prepares the device program by constituting the device to eliminate the limitation on the description, regarding the holding commands of the device program. - 特許庁

限定されない極力多くの記録パルスパターンを使用することで、記録パルス間の熱干渉の影響を考慮したライトストラテジ調整行い、使用する光ディスクに対してベースライトストラテジが大きくずれた状態においてもより安定したライトストラテジ調整ができ、記録品質の良好な光ディスク記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical disk recording device with excellent recording quality, with which write strategy adjustment making consideration to influence of heat interference between recording pulses is conducted by using unrestricted recording pulse patterns as many as possible, and with which more stable write strategy adjustment is conducted even when base write strategy has significantly shifted toward an optical disk to be used. - 特許庁

基板処理方法を、基板上にレジスト膜を設ける成膜工程と、前記基板上のレジスト膜に所望パターンの電子線露光を行う露光工程とを備え、さらに、前記成膜工程と露光工程との間に、前記レジスト膜上の前記露光がされない非描画領域に導電性のアースパターンを形成するアース形成工程を設けるよう構成する。例文帳に追加

The substrate processing method includes a film forming step of providing the resist film on the substrate, and an exposure step of performing electron beam lithography for the desired pattern on the resist film on the substrate, and further a ground pattern forming step of forming a conductive ground pattern in a non-drawing region which is not exposed, on the resist film, between the film forming step and exposure step. - 特許庁

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed. - 特許庁

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition. - 特許庁

パターン面は、デバイスパターンを有する第１領域とアライメントマークを有する第２領域とを含み、未硬化樹脂と型とが互いに押し付けられた場合に、第１領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第１時刻より、第２領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように構成される。例文帳に追加

The pattern face includes a first area having a device pattern and a second area having the alignment mark, and when the uncured resin and the mold are pressed to each other, the pattern face is configured so that a second time when a recess part of the second area is charged with the uncured resin is after a first time when a recess part of the first area is charged with the uncured resin. - 特許庁

誤り率検出部３は、被測定信号のパターンを識別し、識別パターンデータの先頭と決めた位置から一部又は全部のデータを先頭パターンとして保持し、被測定信号が１周回して先頭パターンと一致したときに、識別パターンデータと既知のパルスパターンとの比較によりエラービットを検出し、エラービットを含む前後のビット列を保持する。例文帳に追加

An error rate detecting part 3 identifies the pattern of the measured signal, holds partial or whole data from a position determined as the top of an identification pattern data as a top pattern, detects an error bit by comparison between the identification pattern data and a known pulse pattern when the measured signal coincides with the top pattern after one go-around, and holds bit strings before/after including the error bit. - 特許庁

楽音パターンデータの記録開始が指示されると、アナログ入力端子から入力された演奏データは、Ａ／Ｄ変換器を介してデジタルオーディオデータに変換されて、ＲＡＭの楽音パターンデータ格納領域に記録されるとともに、当該データ区間に対応して、前記選択設定されたリミックスパターンに設定された遅延時間だけ、このデジタルオーディオデータが遅延されて再生される。例文帳に追加

When the start of recording of musical sound pattern data is indicated, playing data inputted from an analog input terminal are converted by an A/D converter into digital audio data, which are recorded in a musical sound pattern data storage area of a RAM and reproduced while delayed by the delay time set in the selected and set remixing pattern corresponding to the data section. - 特許庁

本発明では、第１の導電材料（７１）によって前記ヘッドコアと前記ジンバルとの間を電気的に接続し、また第２の導電材料（７２）によって前記ジンバルと前記シールドリングとの間を電気的に接続し、更に第３の導電材料（７３）によって前記シールドリングと前記配線基板のアースパターンとの間を電気的に接続する。例文帳に追加

In this case, the head core is electrically connected with the gimbals via a 1st conductive material 71, and the gimbals is electrically connected with the shield ring via a 2nd conductive material, and further, the shield ring is electrically connected with the earth pattern on the wiring board via a 3rd conductive material. - 特許庁

本件は、離型層の材料としてアクリル系樹脂を用い、離型層の合成皮革との剥離性を向上させた工程離型材であり、エンボス加工時に離型層の樹脂がエンボスロールに付着することもなく、輪郭のはっきりしたエンボスパターンを離型層に付与することができるものである。例文帳に追加

To provide a process release material given by using an acrylic resin as a material for a release layer, improved in releasability of the release layer from artificial leather, capable of being prevented from adhesion of a resin of the release layer to an embossing roll in case of emboss processing, and having the release layer furnished with an embossed pattern of a clear profile. - 特許庁

透明基板１上に少なくともブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３と、該透明着色パターン層３上に透明な共通電極層５とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４が設けられている。例文帳に追加

A color filter having at least a transparent colored pattern layer 3 sectioned into pixels with a black matrix pattern layer 2 on a transparent substrate 1 and a transparent common electrode layer 5 on the transparent colored pattern layer 3 is provided with a photospacer part 4 for cell gap adjustment, formed having a large layer thickness in a projection shape, at a portion of the transparent colored pattern layer 3. - 特許庁

ハイブリッド法では、焼流し精密鋳造法において使用されるワックスパターンを、最終（ネット形状）圧縮機翼車を製造しないように意図的に設計するが、むしろ所望の引抜き不能形状圧縮機翼車を製造するために続いて切削またはミリングによって除去しなければならない充てん区域を含むニアネット形状を製造するために設計する。例文帳に追加

In a hybrid process, a wax pattern used in the investment casting process is intentionally designed not to produce a final (net shape) compressor impeller, but rather, is designed to produce a near net shape pattern including filled in areas which must be subsequently machined or milled away to produce the desired non-pullable shape compressor impeller. - 特許庁

データ格納制御部１２０は、初期格納時に、注目画素の画素データを最初のメモリバンクに格納することを開始した後、注目画素が開始位置のアクセスパターンで特定される複数の画素のいずれかになるとき、あるいは同一のバンクに一定数の画素データを連続して格納したとき、画素データを格納するバンクを順次切り替える。例文帳に追加

A data storage control part 120 starts to store pixel data of an attentional pixel in a first memory band at the time of initial storage, and subsequently and sequentially switches banks for storing the image data when the attentional pixel becomes any of a plurality of pixels specified by an access pattern at a starting position or when the fixed number of pieces of pixel data is continuously stored in the same bank. - 特許庁

接着面の表面形態を制御する方法であって、接着剤層と支持基材との問に接着界面が確立されると、接着面の表面形態がその接着剤と前記支持基材との間の接着界面の性能を制御するように、微細エンボスパターンを接着剤層に接触させて、微細複製接着面を形成するステップを含む方法を開示する。例文帳に追加

The method for controlling the surface topography of an adhesion plane comprises a step in which a microreplicated topography is formed from contacting a microembossed pattern to a layer of an adhesive so that the topography of the adhesive surface controls the performance of the adhesion interface when the adhesion interface is established between the layer of an adhesive and a supporting substrate. - 特許庁

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude. - 特許庁

ＳＤＭ信号を、等価のマルチレベル時間−電圧面積を有するパルスに変換する機能３２を追加すると共に、各種の出力パルスパターンを生成するパルス幅制御機構３２を追加し、ここで１サンプリング期間内における正パルスと負パルスとの和によって、３以上のディジタルレベルに対応する時間−電圧面積値になる。例文帳に追加

The disclosed invention adds a function 32 for transforming an SDM signal into a pulse with equivalent multilevel time-voltage areas, and adds a pulse length control mechanism 32 to form various output pulse patterns, where summations of positive and negative pulses, within one sampling period, result in time-voltage area values, corresponding to three or more digital levels. - 特許庁

複数のロール１１、１２に巻装された金属製エンドレスベルト１４上で熱可塑性樹脂シート５０にエンボス加工を施すエンボスシート６０の製造方法において、金属製エンドレスベルト１４の表面に、凹凸のエンボスパターンを有する耐熱性、易剥離性樹脂層をコーティングする。例文帳に追加

In the method for manufacturing the embossed sheet 60 by applying emboss processing to a thermoplastic resin sheet 50 on the metal endless belt 14 trained over a plurality of rolls 11,12, a heat-resistant easy peel resin layer having an uneven embossed pattern is applied to the surface of the metal endless belt 14. - 特許庁

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same. - 特許庁

左、中、右の３つの表示図柄の変動で行われる特図ゲームにおいて、左図柄と右図柄が仮停止してリーチ表示態様となった後、見かけ上、大当たりとなる図柄となったときに、中図柄のドットマトリクスパターンを複数個配列して、全体として中図柄を表すように表示する。例文帳に追加

In a special pattern game performed by the fluctuation of three left, middle and right display patterns, when a pattern apparently forming a big hit is formed after the left pattern and the right pattern are temporarily stopped to form a next-to-win display mode, a plurality of dot matrix patterns of the middle pattern is aligned and displayed so as to display the middle pattern as the whole. - 特許庁

本発明の方法は、樹脂材料を加熱して流動性メルトを形成し、エンボスロール２０と背面ロール２２との間の接触部である第一のニップ１８にメルトを放出し、エンボスロール及び背面ロールにメルトをプレスし、表面にエンボスパターンを有する自立フィルムを形成することを含む。例文帳に追加

This method includes the processes to form a fluid melt by heating a resin material; discharge the melt into a first nip 18 as a contact part between an embossing roll 20 and a back roll 22; press the melt to the embossing roll 20 and the back roll 22; and form a self-supporting film with an embossed pattern on the surface. - 特許庁

一方で、そのモニタパターンＭＰについては、デバイスパターンＤＰへ照明される光を遮光した状態にして、そのモニタパターン像がベストフォーカスで露光単位領域ＲＡに転写される場合と、そのモニタパターン像がデフォーカスで露光単位領域ＲＡに転写される場合とのいずれかになるように照明する。例文帳に追加

On the other hand, the lighting is conducted for the monitor pattern MP under the condition that the lighting for the device pattern DP is shielded, to provide the states where the monitor pattern image is transferred to the exposure unit region RA in the best focus condition, or the monitor pattern image is transferred to the region RA in the defocus condition. - 特許庁

製造装置１０は、熱可塑性樹脂からなるシート原反１２を供給する供給ダイ１１と、供給ダイ１１の下方に設けられ、エンボスパターンが表面に形成された成型ロール１３と、成型ロール１３との間でシート原反１２を挟圧部１４において挟圧する挟圧機構１５と、を備えている。例文帳に追加

The manufacturing device 10 includes: a supply die 11 supplying a sheet original fabric 12 comprising thermoplastic resin; a forming roll 13 provided below the supply die 11 and having an embossing pattern formed on the surface; and a nipping mechanism 15 nipping the sheet original fabric 12 with the forming roll 13 in a nipping part 14. - 特許庁

複数色のインクを使用してメディアへ印字を行う手段を有し、前記複数色のインクそれぞれの前記メディアへの着弾時におけるドット径が異なる画像印字装置において、前記ドット径の大きなインクが打ち込まれる箇所に対し前記ドット径の小さなインクが打ち込まれる場合、当該ドット径の小さなインクに適用されるインデックスパターンを変更する。例文帳に追加

In the image printing device which has a means to print a medium in a plurality of different color inks whose dot diameter at the time of ink droplet impact to the medium differs, an index pattern applicable to the ink whose dot diameter is small changes, when the ink of a small dot diameter is injected into a spot where the ink of a large dot diameter is injected. - 特許庁

基板１５を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか（３１）、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか（３３）、の何れかを選択的に実行する。例文帳に追加

In an original plate exposure method for forming a latent image by irradiating a resist layer formed on a substrate with an exposure beam while the substrate 15 is rotated, when a space pattern is formed, the exposure beam is blanked (31) or the exposure beam is deflected to a latent image to be recorded next (33). - 特許庁

また、携帯端末からの情報受入時刻のフィードバックに基づいて情報受入率を算出し、今回も含めた複数回の情報配信時のパターン適合率と情報受入率に基づいて算出された固有アクセスパターンごとの情報受入スコアにより情報受入スコアを更新する(ST20)。例文帳に追加

Also, the content distribution server calculates the information acceptance rate based on the feedback of an information acceptance time from a portable terminal, and updates the information acceptance scores based on the pattern adaptation rate in several times of information distribution including this time and the information acceptance scores of each unique access pattern calculated based on the information acceptance rate (ST20). - 特許庁

包装材が吸収性物品を包んで重なり合う箇所を加圧シールする部分において、エンボスパターンの圧搾部分または非圧搾部分を、間欠または連続、またはそれらを混合した配列とすることによって、内包する吸収性物品の商品名やサイズ、形態等の情報を告知する個別包装体とする。例文帳に追加

This individual package is so formed that compressed portions or non-compressed portions of an embossed pattern are formed into intermittent, continuous, or their mixture dispositions in a pressure-sealing portion where the packaging material is superposed with each other by wrapping the absorbent article to provide the information of the packaged absorbent article such as the name of the article, size and form. - 特許庁

フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension. - 特許庁

データ再配置手段１２４が、アプリケーション１１からの要求に応じてファイル管理手段１２１に読み込まれるデータの一覧を示すアクセスパターンテーブルに基づいて、ディスク装置２の記憶領域に格納されたデータをアプリケーションに読み込まれる順番で連続するように再配置する。例文帳に追加

A data rearrangement means 124 rearranges the data stored in a storage area of the disk device 2, so that the data are consecutive according to an order read into an application 11, based on an access pattern table indicating a list of the data read into a file management means 121 in response to a request from the application. - 特許庁

水平断面が三角形の三平面グリップを備え、パター軸傾が地球自転軸傾である２３．５°の角度をもって傾斜し、しかもヘッドに対して三角形の三平面グリップを３６０°回動可能にし、そのグリップを４か所の角度位置のうち所望のひとつの角度位置に固定して使用する左右両打ち可能なアクシスパターを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide an axis putter for both left-handed and right-handed hitting that has a triangular three-plane grip whose section is horizontal, allows a putter shaft to be inclined with angle of 23.5°, can rotate the triangular three- plane grip by 360° to the head, and fixes the grip at a desired angle position in four angle positions for use. - 特許庁

半導体ウエーハ上に、デバイスパターンとともに、アライメントマーク１を形成する工程と、半導体ウエーハ上にレジストを塗布する工程と、前記アライメントマーク１により、露光位置合わせを行う工程と、所定領域を露光し、レジストパターンとともに、前記アライメントマーク１近傍の所定位置に、合わせずれ計測用マーク２を形成する工程を備える。例文帳に追加

The method comprises a step of forming alignment marks 1 together with a device pattern on a semiconductor wafer, a step of coating the semiconductor wafer with resist, a step of aligning exposure positions according to the alignment marks 1, and a step of exposing specified regions to form alignment deviation measuring marks 2 at specified positions near the alignment marks 1 together with a resist pattern. - 特許庁

ＰＬＬＩＣ２５内にＤＣ−ＤＣ変換回路を構成するスイッチング回路３８を設け、このスイッチング回路３８の出力をトランジスタ３９を含むチャージポンプ回路４７とループフィルタ３１を介してＶＨＦ用局部発振回路２１に加えるとともに、この局部発振回路２１とスイッチング回路３８との間を電源ライン或いはアースパターンで分離する。例文帳に追加

A switching circuit 38 composing of a DC/DC converting circuit is provided in a PLLIC 25, the output of this switching circuit 38 is applied through a charge pump circuit 47 provided with a transistor 39 and a loop filter 31 to a local oscillation circuit 21 for VHF, and this local oscillation circuit and the switching circuit 38 are separated by a power source line or ground pattern. - 特許庁

本発明にかかる半導体装置は、デバイス領域と前記デバイス領域の外側に設けられたＴＥＧ領域とを備える半導体装置であって、ＴＥＧ領域１０のラインアンドスペースパターン２１は、所定の間隔で規則的に配列された複数の基準パターン１２と、基準パターン１２の近傍に配置された特異パターン１３とを有している。例文帳に追加

The semiconductor device has a device region and a TEG region outside the device region, and a line-and-space pattern 21 in the TEG region 10 has a plurality of reference patterns 12 arrayed regularly at predetermined intervals and a specific pattern 13 arranged near the reference patterns 12. - 特許庁

エンドレスベルト１１が掛けられた少なくとも一対の金属ロール１４１，１４２と、エンドレスベルト１１を介して、一対の金属ロール１４１，１４２に対して対向配置された弾性体被覆ロール１５との間に、表面にエンボスパターンが形成されたエンボス版２３及び被転写シート２１を供給する。例文帳に追加

An embossing plate 23 on the surface of which the embossing pattern is formed and a sheet 21 to be transferred are fed between at least a pair of metal rolls 141 and 142 on which an endless belt 11 is hung, and an elastic body-coated roll 15 oppositely arranged to the pair of the metal rolls 141 and 142 through the endless belt 11. - 特許庁

本発明による追記型光記録媒体への情報記録方法は、第１の記録マークを形成するためのレーザビームのパルスパターンを、前記第１の記録マークの後に設けられるブランク領域の長さ及び前記第１の記録マークの次に形成される第２の記録マークの長さの少なくとも一方に基づいて設定する。例文帳に追加

According to the method of the invention for recording information on a write once-read many optical recording medium, the pulse pattern of a laser beam for forming a first recording mark is set based on at least one of the length of a blank area disposed after the first recording mark and the length of a second recording mark formed after the first recording mark. - 特許庁

いかなる高密度及び高倍速の記録環境でもドメイン形状によるジッタの発生を減らし隣接したトラック間のクロスイレーズ発生を防止するだけではなく、再生する時にもドメイン形状による隣接したトラック間のクロストークの発生を防止できる高密度及び高倍速光媒体に適した多重パルスパターンの光記録パルスを生じる装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for generating the optical recording pulses of multi-pulse patterns suited to a high-density and high-speed optical medium capable of not only reducing jitters and preventing cross erasure between adjacent tracks by a domain configuration in any high-density and highspeed recording environments but also preventing crosstalk between the adjacent tracks by the domain configuration during reproduction as well. - 特許庁