「スパター」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

実デバイスパターン６２はサブフィールド４２に形成され、線幅が５００ｎｍを越えるパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１、線幅が４００ｎｍ〜５００ｎｍのパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／２、線幅が４００ｎｍ未満のパターンの場合には線幅Ｌ／スペース幅Ｓ≦１／４であるデバイスパターンとする。例文帳に追加

The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively. - 特許庁

本実施形態に係る記憶装置２は、コンピュータウイルスのウイルスパターンが記憶されたデータ記憶部１２と、ウイルスパターンを用いて、書き込み対象となるデータに前記ウイルスが含まれているか否かを検出するウイルスデータ検出部１３と、ウイルスデータ検出部１３によりウイルスが検出されなかった場合に、データ記憶部１２へのデータの書き込みを許容する制御部１１と、を有する。例文帳に追加

The storage device 2 includes a data storage part 12 in which the virus pattern of the computer virus is stored, a virus data detection part 13 which uses the virus pattern to detect whether the virus is included in data to be written, and a control part 11 which permits writing of the data into the data storage part 12 when the virus data detection part 13 does not detect the virus. - 特許庁

ｎ／２ターンのスパイラル状の主導体パターン２４と、チップの片側ほぼ半分の面積を覆うセラミックスパターン２６と、積層方向で隣接する主導体パターンの始端と終端を接続する短い接続用導体パターン２８と、反対側ほぼ半分の面積を覆うセラミックスパターン３０を、その順序で印刷積層する。例文帳に追加

A spiral main conductor pattern 24 of n/2 turns, a ceramic pattern 26 covering an area substantially half that at one side of the chip, a short connecting conductor pattern 28 for connecting a start terminal of the main conductor pattern adjacent in the laminating direction with the end terminal, and a ceramic pattern 30 which covers an area substantially half that of the opposite side are printed in this order and laminated. - 特許庁

マスク基板と、このマスク基板上に配置されたデバイスパターンと、マスク基板上のデバイスパターンとは異なる位置に配置された１または２以上のフォーカスモニタパターンとを備え、このフォーカスモニタパターンが、平面で見て略三角形が同一方向に隙間なく連続して配置された鋸歯形状のパターンを有するフォトマスクを用いる。例文帳に追加

The photomask comprises a mask substrate, a device pattern arranged on the mask substrate, and one or more focus monitoring patterns arranged in a different position from the device pattern on the mask pattern, wherein the focus monitoring pattern has a sawtooth pattern comprising nearly triangular patterns continuously arranged without a space in one direction in a plan view. - 特許庁

コンパイル処理装置１のコンパイル処理手段１１またはリンク手段１２の処理の際に，アクセスパターン取得部１３が，入力プログラムの解析結果からメモリアクセスする命令を解析し，構造体要素の配列上の配置，アクセス回数，アクセス順序を含むアクセスパターンを取得する。例文帳に追加

In processing of a compile processing means 11 or linking means 12 of this compiler 1, an access pattern acquisition section 13 analyzes the instruction to access a memory from the result of analyzing an input program, and acquires the access pattern including the arrangement on the array of the structure elements, access frequency, and access order. - 特許庁

配線パターンのインダクタンスとこのインダクタンスと対向するアースパターンからなる第１及び第２のコンデンサとによってローパスフィルタが構成される。例文帳に追加

A low-pass filter is composed of the inductance of the wiring pattern and 1st and 2nd capacitors formed of ground patterns facing the inductance. - 特許庁

コンパイラが容易に静的スケジューリングを行うことができ、一般的な同時アクセスパターンに対して無衝突なパケット転送を実現することができるマルチプロセッサシステム装置を得る。例文帳に追加

To provide a multiprocessor system device, with which a compiler can easily perform static scheduling and packet transfer with no collision can be attained corresponding to a general simultaneous access pattern. - 特許庁

記録された履歴情報を用い今後のアクセスパターンを予測し、予測したパターンを用いて２次元アドレッシングによる矩形バッファリングを行うことで少ないバッファサイズで効率のよいバッファリングを可能にする。例文帳に追加

Efficient buffering is enabled with small buffer size by predicting future access patterns by using recorded history information and performing rectangular buffering by two-dimensional addressing by using predicted patterns. - 特許庁

複数のクライアント間でファイルを共有する際の多様なアクセスパターンに対して複雑な設定をすることなく、スケーラビリティおよびノード側の処理効率を高めること。例文帳に追加

To increase scalability and node side processing efficiency without operating any complicate setting with respect to various access patterns in the case of sharing a file among a plurality of clients. - 特許庁

これにより、ＩＮＤＥＸのマトリクスパターンを周期性のない状態で配列させることが出来るので、複雑な回路構成を適用せずとも、テクスチャのない滑らかな画像を高速に記録することが可能となる。例文帳に追加

Thus, since the INDEX matrix patterns can be arranged in state of no periodicity, the smooth image having no texture can be recorded at a high speed without applying a complicated circuit configuration. - 特許庁

フォトマスク、映像デバイス、撮像デバイス、表示デバイス、パターン形成方法及びその方法を用いたフォトマスクの製造方法、並びに、パターン転写方法例文帳に追加

PHOTOMASK, VIDEO DEVICE, IMAGING DEVICE, DISPLAY DEVICE, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK USING THE METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse. - 特許庁

裏面ガスの均一な分布と、気相熱伝達と、固体接触熱伝達とのバランスを効果的に取る表面エンボスパターンを有する静電チャックを提供する。例文帳に追加

To provide an electrostatic chuck having surface embossments pattern for effectively balancing a uniform distribution of a backside gas, and gas-phase heat transfer and solid contact heat transfer. - 特許庁

印刷方法，印刷システム，印刷装置，２値化ディザマトリクスパターン，印刷プログラムおよび同プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体例文帳に追加

PRINTING METHOD, PRINTING SYSTEM, PRINTER, BINARIZATION DITHER MATRIX PATTERN, PRINT PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM - 特許庁

また、フォトマスクのデバイスパターン１から段差１ａを消失させることで、そのエッジに欠陥が発生した場合の修正の容易化が図られる。例文帳に追加

By eliminating the step 1a from the device pattern 1 of the photomask, correction in the event of a defect at an edge thereof can be facilitated. - 特許庁

選択回路５３は、特徴量ｘ１およびｘ２の組み合わせに応じて、その複数の中間調生成マトリックスパターンのうちの最適な一つを選択する。例文帳に追加

A selection circuit 53 selects optimum one of the plural halftone generating matrix patterns according to the combination of the feature values x1 and x2. - 特許庁

開口が形成されたシリコン板とライン・スペースパターンが形成されたシリコン板とを用いた、イオンビーム装置における荷電粒子の入射角モニタ素子を提供する。例文帳に追加

To provide an incident angle monitor element of charged particles in an ion beam device using a silicon plate with an opening formed and a silicon plate with a line-space pattern formed. - 特許庁

格子状のブラックマトリクスパターンを有するカラーフィルタをインクジェット方式で製造し、格子毎の色度バラツキがない、安価で品質良好なカラーフィルタを提供する。例文帳に追加

To manufacture a color filter having a grid-like black matrix pattern by an ink-jet system, and to provide a low-cost color filter having superior quality and no variance in chromaticity by grids. - 特許庁

これにより、リファレンスパターン４５が撮像画面のサーチエリア４０からはずれる確率を低減し、認識エラーの発生を防止することができる。例文帳に追加

Therefore, the occurrence of recognition errors can be prevented by reducing the probability that the reference pattern 45 comes off the searching area 40 of the taken picture. - 特許庁

階調別ディザ係数発生回路１５は、映像信号の階調を複数の領域に分け、この複数の領域毎に、選択されたディザマトリクスパターンに応じて、ディザ係数パターンを発生する。例文帳に追加

A by gradation dither coefficient generation circuit 15 divides the gradation of a video signal to plural areas, and generates a dither coefficient pattern according to the selected dither matrix pattern at every plural areas. - 特許庁

このインピーダンスパターンのデータを当該イヤホンの識別情報として通信ネットワークを介してサーバ３００へ送信して当該イヤホンの特性補正データを要求する。例文帳に追加

The data of the impedance pattern are transmitted as identification information of the earphone to a server 300 via a communication network to request characteristic correction data of the earphone. - 特許庁

LENカウンタ３は、メモリ２からのLENデータを基に、単位パルスパターン長毎にLENカウンタクリアし、これによってアドレス発生回路１からのアドレスADをインクリメントする。例文帳に追加

A LEN counter 3 clears the LEN counter for each unit pulse pattern length on the basis of the LEN data from the memory 2, thus increasing the address AD from the address generation circuit 1. - 特許庁

次に、層間絶縁膜１８の上に形成されたフォトレジスパターンＦr2をマスクとするエッチングにより、内部素子領域において、ヴィアホール７０よりも広い配線用溝７１を形成する。例文帳に追加

Next, by etching a photoresist pattern Fr2 formed on the layer insulation film 18 as a mask, a wiring groove 71 larger than the via hole 70 is formed in the internal element region. - 特許庁

自動的にデータ分割を行う際に、並列ループ内の配列のアクセスパターンを元に生成された整列関係を表すグラフから、そのループにおける分割候補を生成する。例文帳に追加

The parallel program generating method 102 when automatically dividing data generates division candidates in parallel loops from a graph 113 representing array relation generated on the basis of the access pattern of arrays in the parallel loops (105). - 特許庁

予め用意したディザマトリクスに対して各インク色の濃度値を適用し、各インクに対するマスクマトリクスパターン（ベクタカラーパターン）を生成する（Ｓ４６，Ｓ５５）。例文帳に追加

The density of each ink is applied to a dither matrix prepared in advance to generate a mask matrix pattern (vector color pattern) to each ink (S46 and S55). - 特許庁

リアクタンスパターン４２は、回路基板３２の一側面３４をパッケージ蓋３８によって封止したのち、レーザ５０によってトリミング加工される。例文帳に追加

After the reactance pattern 42 seals one side face 34 of the printed circuit board 32 by a package cover 38, a laser 50 applies trimming processing to the reactance pattern 42. - 特許庁

したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。例文帳に追加

Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented. - 特許庁

逆に、１Ｄマップ１２０の上でＲＯＩとして部分群１２８を選択すると、それに対応するプロセスパターンが計算され、２Ｄマップ１１０が再描画されて、その部分集合に対応する特定のパターンが示される。例文帳に追加

When a part group 128 is selected as an ROI in the 1D map 120, a process corresponding thereto is computed, a 2D map 110 is redrawn, and a specific pattern corresponding to its subset is shown. - 特許庁

携帯端末装置１００は、イヤホン２００のインピーダンスを測定する手段を用いて得られたインピーダンスの周波数特性を表すインピーダンスパターンを得る。例文帳に追加

The portable terminal device 100 acquires an impedance pattern indicating the frequency characteristics of an impedance acquired by using a means for measuring the impedance 200 of an earphone. - 特許庁

下層および上層に形成したデバイスパターン間のズレ量を現状で実施されている方法よりも高精度に計測可能な半導体装置の製造方法および半導体装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufacturing method and a semiconductor device capable of measuring an amount of shift between device patterns formed on a lower layer and an upper layer with higher precision than the conventional method. - 特許庁

これらの導電体パターン１５(1)b, １５(2)bは、それぞれ、内層の低インピーダンスパターンと表層の配線パターンとを繋ぐビアパターンとして機能すると共に、高インピーダンスラインとしても機能する。例文帳に追加

These conductor patterns 15(1)b, 15(2)b act like via-patterns interconnecting respectively the inner layer low impedance pattern and a front layer wiring pattern and also like high impedance lines. - 特許庁

リアクタンスパターン４２は、共通線部４２Ｂが、電磁シールドパターン５４を有する底面基板４４に設けた透孔４８から露出している。例文帳に追加

A common wire part 42B of the reactance pattern 42 is exposed from a through 48 provided with a bottom side board 44 having an electromagnetic shield pattern 54. - 特許庁

バルブ型リセスパターンのボールパターン内に残留するボイドの大きさを小さくすることができる半導体素子のリセスゲート及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a recess gate and its manufacturing method which can reduce the size of the void remaining in the ball pattern of a bulb type recess. - 特許庁

熱可塑性シートにエンボスパターンを形成する際に、シートの両端部のシワや折れ曲がりを防止することが可能な熱可塑性シートの加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a processing apparatus for a thermoplastic sheet by which wrinkles and bends at both end parts of the sheet can be prevented from occurring when an embossing pattern is formed on the thermoplastic sheet. - 特許庁

格納部３は、プログラムまたはプロセスの実行時に使用されているコンテクストＩＤを、これらのプログラムまたはプロセスの実行時におけるＳＲＡＭのアクセスパターンと関連づけて格納する。例文帳に追加

The storage part 3 stores context IDs used in the execution of programs or processes in association with SRAM access patterns in the execution of the programs or processes. - 特許庁

プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置１１には、ライブラリとして作成されたセル形状データ１７ａ、セル属性データ１７ｂ及び配置制約条件データ１７ｃが格納される。例文帳に追加

Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns. - 特許庁

濃色離画壁をマスクレスパターン露光で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット方式で作製するカラーフィルターにおいて、各画素における混色が抑えられたカラーフィルターの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of color filter in which pixel barriers are formed by maskless pattern exposure, RGB pixels are prepared using an inkjet method and color mixture in the respective pixels is suppressed. - 特許庁

フォトマスク１０の太線パターン２ｃは、繰り返しパターン２ａ、２ｂと並走するように延び、かつラインパターン２ａおよびスペースパターン２ｂよりも太い線幅Ｗ１を有している。例文帳に追加

The thick-line pattern 2C of the photomask 10 extends in parallel to the repetitive patterns 2a and 2b, and has a larger line width W1 than a line pattern 2a and a space pattern 2b. - 特許庁

第２のフォトマスクＢには、スペースと対応するパターン形状を有し且つ第１のパターンに対して遮光部と透光部とが反転している反転スペースパターン６ｄを有する第２のパターンが描かれている。例文帳に追加

The second patterns having inversion space patterns 6d which have the pattern shapes corresponding to the spaces and are inverted in light shielding parts and translucent parts with respect to the first patterns are drawn on the second photomask B. - 特許庁

反射膜を備えたカラーフィルターにおいて、現像時に金属反射膜との密着力の高い樹脂ブラックマトリックスを提供することで、金属反射膜上において良好なブラックマトリックスパターンを得る。例文帳に追加

To obtain a satisfactory black matrix pattern on a metal reflection film by providing a resin black matrix having high adhesion to the metal reflection film when development is performed, in a color filter provided with the reflection film. - 特許庁

同軸コネクタの内部導体は多層配線基板の信号線と電気的に接続され、外部導体は接続導体パターンと内部アースパターンに半田を介して接続する。例文帳に追加

An internal conductor of the coaxial connector is electrically connected to a signal line of the multilayer wiring substrate, and an external conductor is connected to the connection conductor pattern and internal ground pattern through solder. - 特許庁

本願課題は、半導体ウエハ上に無駄なく安価にプロセスパターンを形成し、高精度にマスクを重ね合わせることを可能にする半導体装置の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device wherein a process pattern is formed on a semiconductor wafer inexpensively without waste and a mask is superposed thereon highly accurately. - 特許庁

任意の最大値アドレスに対応した桁上げ信号を発生させ、任意の最大値アドレスを有するメモリの試験を可能にするアドレスパターン発生回路を提供する。例文帳に追加

To provide an address pattern generation circuit in which a carry signal corresponding to the arbitrary maximum value address is generated and a test of a memory having the arbitrary maximum value address can be performed. - 特許庁

この多重化されたパターン像の重複部分がウエハＷ上に塗布されたフォトレジストの感度特性に応じた適正露光量となるようにして、当該重複部分をデバイスパターンとする。例文帳に追加

The overlapped part of the multiplexed pattern image is obtained as a device pattern, so that proper exposure corresponding to the sensitive characteristics of a photoresist applied on the wafer W can be obtained. - 特許庁

作成されたドットマトリクスパターンを高速フーリエ変換し、規格化した１次元のＣＳＦ特性と、規格化された周波数ドメイン情報とを乗算することで評価パラメータを算出する。例文帳に追加

An evaluation parameter is calculated by carrying out fast Fourier transform of the created dot matrix pattern, and multiplying standardized one-dimensional CSF characteristics and standardized frequency domain information. - 特許庁