「スミア処理」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

スミア検出方法及びこのスミア検出方法を用いた画像処理装置例文帳に追加

SMEAR DETECTING METHOD AND IMAGE PROCESSOR EMPLOYING THE SMEAR DETECTING METHOD - 特許庁

差分処理を用いたスミアの低減方法における、差分処理に用いるスミアとなる電荷と、実効的なスミアとなる電荷との差を低減させる。例文帳に追加

To reduce a difference between electric charges acting like smear used for differential processing and electric charges acting like effective smear in a smear reduction method using the differential processing. - 特許庁

多層基板の製造方法、デスミア処理方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYER SUBSTRATE, AND DESMEAR PROCESSING METHOD - 特許庁

デスミア処理およびテクスチャー化方法例文帳に追加

DESMEAR TREATMENT AND TEXTURING METHOD - 特許庁

撮像装置およびスミア補正処理装置例文帳に追加

IMAGING DEVICE AND SMEAR CORRECTION PROCESSING DEVICE - 特許庁

フッ素樹脂基板用デスミア液及びフッ素樹脂基板のデスミア処理方法例文帳に追加

DESMEAR SOLUTION FOR FLUORORESIN SUBSTRATE AND DESMEAR PROCESSING METHOD FOR FLUORORESIN SUBSTRATE - 特許庁

算出されたスミア量の減算処理（算出されたスミア量を各画素の信号値から減算すること）によりスミア補正を行う。例文帳に追加

The smear correction is performed by subtraction processing of the calculated smear amount (subtraction of the calculated smear amount from signal values of the respective pixels). - 特許庁

スミア補正部は、スミア判定部がスミア成分を含むと判定したときに、撮像素子の出力に含まれるスミア成分を低減するためのスミア補正処理を実行する。例文帳に追加

When the smear determining unit determines that the smear component is contained, the smear correcting unit performs smear correction processing for reducing the smear component contained in the output of the imaging element. - 特許庁

本発明の課題は、フッ素樹脂基板のバイアホールのデスミア処理において、スミアを有効に除去し、孔の変形や損傷を与えないデスミア液及びデスミア処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a desmear solution by which, when a via hole of a fluororesin substrate is subjected to desmear processing, a smear is effectively removed and the hole is not deformed nor damaged as a result, and to provide a desmear processing method. - 特許庁

デスミア処理を施しても、第一層３がデスミア処理液に対する樹脂溶解性が低いことから、絶縁層６の粗面化形状は維持される。例文帳に追加

Coarse profile of the insulator 6 is maintained even if desmear treatment is performed since resin solubility of the first layer 3 to the desmear treatment liquid is low. - 特許庁

プラズマ処理によりバイアホールにデスミア処理を施すことができ、湿式のデスミア処理よりもバイアホール内に発生したスミアを効率的に除去することができる。例文帳に追加

It is possible to perform desmear treatment for the via hole by plasma treatment and to remove smear produced inside the via hole more effectively than wet-type desmear treatment. - 特許庁

垂直転送路は露光期間中にスミアを蓄積し、蓄積したスミアを信号処理部に出力し、信号処理部24は、スミアを画像信号の一部として含む画像信号を生成する。例文帳に追加

The vertical transfer path stores smear for an exposure period, outputs the stored smear to the signal processing section, and the signal processing section 24 generates an image signal part of which includes the smear. - 特許庁

また、スミア補正部は、被写体の輝度が閾値以上であるときにスミア補正処理を実行せず、被写体の輝度が閾値未満であるときにスミア補正処理を実行する。例文帳に追加

Furthermore, the smear correcting unit does not perform smear correction processing if the luminance of the subject is equal to or higher than the threshold, but performs smear correction processing if the luminance of the subject is less than the threshold. - 特許庁

粗化処理とデスミア処理を同時に行う化学処理において、低粗度表面（表面粗さＲａが０．２μｍ以下）と高デスミア性の両立を可能とする樹脂組成物、プリプレグ及び硬化体を提供する。例文帳に追加

To obtain a resin composition satisfying both low roughness surface (surface roughness Ra of ≤0.2 μm) and high desmearing capability in a chemical treatment for simultaneously carrying out a roughening treatment and a desmearing treatment, a prepreg and a cured product. - 特許庁

第一層３が第二層４よりも、デスミア処理液による樹脂溶解性が低い。例文帳に追加

Resin solubility by desmear treatment liquid of the first layer 3 is lower than that of the second layer 4. - 特許庁

固体撮像素子のスミア補正方法、固体撮像素子の信号処理装置および撮像装置例文帳に追加

SMEAR CORRECTING METHOD AND SIGNAL PROCESSOR FOR SOLID-STATE IMAGING DEVICE, AND IMAGING APPARATUS - 特許庁

次に、ＣＦ_4ガス等を用いたプラズマドライエッチング処理により、スミア８を除去する。例文帳に追加

Next, the smear 8 is removed with the plasma dry etching process using CF_4 gas or the like. - 特許庁

効率良くスミアのない手ぶれ補正画像を得る画像処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image processing apparatus for efficiently obtaining a camera shake corrected image without smear. - 特許庁

画質劣化の少ない良好なスミア補正処理を行うことのできる撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging device for carrying out superior smear correction process with small impairment in image. - 特許庁

スミア低減撮像を行った際にスミア成分が均一に生じない場合においても、スミア補正処理により画質劣化が生じないようにした高画質の撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image pickup unit with high image quality where no image quality deterioration is caused by smear correction processing, even when a smear component is not produced uniformly in the case of conducting smear reduction image pickup. - 特許庁

多層プリント配線基板に形成されたスルーホール等のスミアを除去する湿式デスミア処理方法において、酸化剤を含む水溶液中で行われるデスミア工程で前記スルーホール等の壁面に段差が生じないようにすること、さらに若干残留するスミアを効率よく除去できる湿式デスミア処理方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a wet desmear treatment method which does not make step difference on the wall face of a through-hole or the like in a desmear treatment taken place in an aqueous solution containing an oxidizing agent, and which can efficiently remove the smears still remaining to a few extent, in a wet desmear treatment method for removing the smears on a through-hole or the like formed in a multilayer printed wiring board. - 特許庁

デスミア処理に用いられた処理液は、筒状部２３の内周面３１とカソード２５との隙間を通じて送液される。例文帳に追加

A treatment liquid used for desmearing treatment is fed through a gap between the inner circumferential surface 31 of the tubular portion 23 and the cathode 25. - 特許庁

撮像装置は、固体撮像素子１２から出力された電気信号を基に画面内の輝度レベルを検出する輝度検出手段２３と、画面内のスミア補正処理を行なうスミア補正手段２４と、スミア補正処理を実行するか否かを判断する制御手段２１と、を備える。例文帳に追加

An imaging apparatus comprises a luminance detecting means 23 for detecting the luminance level within a screen, on the basis of the electrical signal outputted from a solid-state imaging device 12; a smear-correcting means 24 for performing intra-screen smear correction processing, and a control means 21 for deciding whether to carry out smear correction processing. - 特許庁

上記熱硬化性フィルムを用いたデスミア処理された硬化物を得たときに、原子間力顕微鏡を用いて、１００μｍ×１００μｍの大きさの測定領域における上記デスミア処理された硬化物の表面積を測定した場合に、測定領域における上記デスミア処理された硬化物の表面積が２００００μｍ^２以上である。例文帳に追加

In the case of measuring the surface area of the cured product subjected to desmear processing in a measuring region having a size of 100 μm×100 μm by using an atomic force microscope when the cured product subjected to the desmear processing by using the thermosetting film is obtained, the surface area of the cured product subjected to the desmear processing in the measuring region is 20000 μm^2 or larger. - 特許庁

スミア低減処理部８により、Ａ／Ｄ変換後のＣＣＤ撮像素子４の出力信号を、それに含まれるスミア成分にホワイトバランス補正時における補正ゲイン（Ｒ用、Ｂ用）の逆数を掛けた調整後のスミア成分を含む信号に予め変換する。例文帳に追加

The smear reduction processing section 8 converts an output signal of a CCD imaging element 4 after A/D conversion into a signal including a smear component after the adjustment of the output signal resulting from multiplying reciprocals of correction gains (for R and B) at white balance correction with the smear component included in the output signal beforehand. - 特許庁

なお、層間接続孔３３に対応する部位の防錆処理層１７の除去は、レーザ加工後のデスミア処理または銅めっき３１の形成に先だってのめっき前処理で容易に行うことができる。例文帳に追加

Further, removal of the rust-proof processing layer 17 corresponding to an interlayer connection hole 33 with a plating preprocessing prior to desmearing processing after laser processing or to the formation of the copper plating 31 can be facilitated. - 特許庁

戻し側導管１７は、上流側端部１７ａが筒状部２３に接続され、再生処理部１９から排出される前記処理液をデスミア処理槽１３に導く。例文帳に追加

A return-side conduit 17 has an upstream-side end 17a connected to the tubular portion 23 and guides the treatment liquid discharged from the regeneration unit 19 into the desmearing treatment tank 13. - 特許庁

送り側導管１５は、下流側端部１５ｂが筒状部２３に接続され、デスミア処理槽１３から排出される前記処理液を再生処理部１９に導く。例文帳に追加

A feed-side conduit 15 has a downstream-side end 15b connected to the tubular portion 23, and guides the treatment liquid discharged from a desmearing treatment tank 13 into the regeneration unit 19. - 特許庁

オキシアルキルアミン及びアルカリ金属化合物を含む水溶液からなることを特徴とするフッ素樹脂基板用デスミア液及びそれを用いたデスミア処理方法。例文帳に追加

The desmear solution for fluororesin substrate which contains oxyalkylamine and an alkali metal compound and the desmear processing method using the same are provided. - 特許庁

デスミア液に浸漬する樹脂部材の浸漬時間が一定時間であっても、樹脂部材の表面に形成する凹凸程度を容易に調整でき、且つデスミア液の液寿命を延長できるエッチング処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an etching treatment method that can make easy adjustment of the degree of unevenness formed on the surface of a resin member and extend a lifetime of desmear liquid even when an immersion duration time of the resin member to be immersed into the desmear liquid is fixed. - 特許庁

ビア等の貫通孔を樹脂層に形成した後にデスミア処理された場合に、ビア内の底部に形成されたスミアを容易に除去できる多層回路基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a multilayer circuit board, which can easily remove a smear formed at a bottom part of a via when desmearing processing is carried out after a through-hole such as the via is formed in resin layers. - 特許庁

高速演算手段を使用しなくても、スミア発生に起因するアンダー露出を簡単な構成、処理により防止できる撮像装置のスミア補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a smear correction method of an imaging apparatus for preventing underexposure resulting from occurrence of smear with a simple configuration and processing even without using a high-speed arithmetic means. - 特許庁

動画撮影中に取得した画像に対して、動画に適したスミア補正を行うと共に、静止画を処理するためのパラメータの取得に適したスミア補正を行う。例文帳に追加

To perform smear correction suitable for a moving picture and to perform smear correction suitable for acquiring a parameter for processing a still picture, upon an image captured during moving picture shooting. - 特許庁

例えば芳香環、トリアジン環といった環状成分を多く含むＢＴ樹脂、ポリイミドを速やかに分解し、処理時間の短縮が可能なデスミア方法及びデスミア装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and a system for desmearing a printed wiring board, in which the processing time can be shortened by quickly decomposing BT resin or polyimide containing a plenty of cyclic component, e.g. an aromatic ring or a triazine ring. - 特許庁

ドリル加工性、成形性、層間密着性に優れ、デスミア処理を良好に行うことができるエポキシ樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an epoxy resin composition which is excellent in drillability, moldability, and interlayer adhesion, and in which a desmear treatment can be preferably performed. - 特許庁

これによりプラズマ処理時に多層基板を冷却することができ、多層基板を焼損せずスミアのみを効率的に除去することができる。例文帳に追加

Hereby, the multilayer board can be cooled at the time of plasma processing, and only the smear can be removed efficiently without burning the multilayer board. - 特許庁

スミア現象を抑制する補正処理を行っても、不自然な縞模様の発生を抑えることができる撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image pickup device capable of suppressing occurrences of unnatural stripe patterns even after correction processing for suppressing a smear phenomenon is performed. - 特許庁

さらに、ビアホール４を形成後、プラスチックフィルム２がソルダーレジスト層１に接着した状態で、デスミア処理を行う。例文帳に追加

Further, after the via hole 4 is formed, desmear treatment is carried out in the plastic film 2 while the solder resist layer 1 is adhered. - 特許庁

穴明け後のデスミア処理が不要で、ビアによる層間の接続信頼性が高い多層プリント配線板をビルドアップ法により製造する。例文帳に追加

To provide a multilayer printed circuit board(PCB) made by a build-up process which does not need a desmear processing after drilling holes and has high reliability of connection between layers by via holes. - 特許庁

これにより、プラズマによって発生したイオンを処理対象面に等方的に入射させて、スミアの残留を減少させることができる。例文帳に追加

Thereby ions generated by plasma are made to enter an object surface to be treated isotropically, and residue of smears can be reduced. - 特許庁

本発明の目的は、デスミア処理後の樹脂残りを低減し、層間の導通信頼性を向上することである。例文帳に追加

To provide an interlayer insulating adhesive which can reduce a resin left after a desmear treatment and improve interlayer conduction reliability. - 特許庁

そして、処理回路２０は、スミアの除去を目的としてレーザドライバ２１を駆動し、さらに予め定める数のレーザ光を当該穴に照射する。例文帳に追加

The processing circuit 20 drives a laser driver 21 for removing the smear, and the hole is additionally irradiated with the laser beam at prescribed times. - 特許庁

簡易な構成により暗い画像からでもスミアを正確に除去することができる画像処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image processor capable of accurately removing a smear even from a dark image with a simple configuration. - 特許庁

この推定値をラインメモリ１０６にスミア成分初期値として設定し、センターエリアの各行についての累積加算処理を開始する。例文帳に追加

This estimated value is set as a smear ingredient initial value in a line memory 106 and a cumulative additional processing is started for each row of the center area. - 特許庁

画像処理部４はスミアの移動が検出された際に、自車両に対して移動するターゲット車両が存在すると判定する。例文帳に追加

When the section 4c detects the movement of the smear, an image processing section 4 discriminates the presence of the target vehicle moving to its own vehicle. - 特許庁