「バリアフィルム」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供する。例文帳に追加

To provide a transparent gas barrier film having a high gas barrier capacity and not deteriorated in its gas barrier capacity even if bent, and an electroluminescence element free from deterioration or the occurrence of a defect using the same. - 特許庁

高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供する例文帳に追加

To provide a transparent gas barrier film having a high gas barrier capacity and not deteriorated in its gas barrier capacity even if bent, and an electroluinescence element free from deterioration or the occurrence of a defect using the same. - 特許庁

少なくともガスバリア性を有する基材同士が接着剤層を介してラミネートされてなるガスバリアフィルム積層体であって、水分の影響により発泡白化させずに所期のガスバリア性とラミネート強度の発現を可能とするガスバリアフィルム積層体を提供する。例文帳に追加

To provide a gas-barrier film laminate in which substrates having at least gas-barrier properties are laminated through an adhesive layer and which can develop prescribed gas-barrier properties and lamination strength without the occurrence of foaming and whitening caused by moisture. - 特許庁

高いバリア性能を有し、透明性に優れるガスバリアフィルム積層体を、ゴミを付着させず、傷を付けることもなく、かつスピーディーに製造することを可能とし、延いては製造コストの大幅コストダウンを可能にしたガスバリアフィルム積層体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a gas barrier film laminate having a high gas barrier property and excellent transparency at a high speed without sticking of dusts at a low manufacturing cost. - 特許庁

基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a gas barrier film and the gas barrier film by the manufacturing method improving interlayer adhesiveness without depending on oxygen-bonding while preventing amidating or nitriding of a functional group positioned on a surface of a base material. - 特許庁

基材上に形成されたポリシラザン由来の１層のシリカ膜のガスバリア性能を向上させたガスバリアフィルムを提供すると共に、製造コストを低減し作業効率に優れたガスバリアフィルムの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a gas barrier film improving a gas barrier property of one silica film layer derived from polysilazane and formed on a base material, and to provide a method for manufacturing the gas barrier film reducing a manufacture cost and showing excellent working efficiency. - 特許庁

基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing gas barrier film and the gas barrier film capable of preventing functional groups positioned on the surface of a substrate from being amidated or nitrided and capable of improving the interlayer adhesive force without depending on oxygen bonds. - 特許庁

ここで、上記無機蒸着透明バリアフィルムは透明性及びバリア性を備えたフィルムであり、この無機蒸着透明バリアフィルムをシール性ある透明シールフィルムと積層したパウチ包材とすることで更にシール性をも確保される。例文帳に追加

In this case, the transparent barrier film has trasparency and barrier properties and, by laminating this transparent barrier film on the transparent sealing film having sealing properties to make a pouch packaging material, further sealing properties can also be secured for the pouch packaging material. - 特許庁

プラスチックフィルムの少なくとも片面にセラミックス層を設けた透明ガスバリアフィルムの加工方法であって、プラスチックフィルムの寸法変化率が±２％以下となるような加工条件で行うことを特徴とする透明ガスバリアフィルムの加工方法。例文帳に追加

In a method for processing the transparent gas barrier film wherein a ceramics layer is provided on at least the single surface of a plastic film, a processing condition is set so that the dimensional change ratio of the plastic film becomes ±2% or less. - 特許庁

従来の蒸着方法では不十分であった無機酸化物蒸着層の密着強度を改善し、かつ高いガスバリア性能が得られるガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを高い生産効率で製造可能な製造方法および製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a gas barrier film attaining high gas barrier performance by improving the adhesive strength of an inorganic oxide vapor deposition film which has been insufficient by a conventional vapor deposition method and a method and an apparatus for producing the gas barrier film with high production efficiency. - 特許庁

プラスチック基板上に、少なくとも一層の無機物からなるバリア層と少なくとも一層の有機層とを交互に有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層の少なくとも一層が原子層デポジッション法（Atomic Layer Deposition：ＡＬＤ法）によって形成されたことを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

In the gas barrier film alternately having barrier layers which consist of much more inorganic substance at least, and organic layers much more at least on a plastic plate; at least one layer of the barrier layers is a gas barrier film formed by the atomic layer depositing method (the Atomic Layer Deposition: ALD method). - 特許庁

液晶表示素子や有機ＥＬ素子等の画像表示素子に適用した場合に、優れたガスバリア性能を発揮し得るガスバリアフィルム、その製造方法、及び前記ガスバリアフィルムを用いた有機ＥＬ素子の提供。例文帳に追加

To provide a gas barrier film which enables the exhibition of a superior gas barrier performance when it is applied to a picture image displaying element such as a liquid crystal displaying element or an organic EL element or the like, its manufacturing method and the organic EL element formed by using the gas barrier film. - 特許庁

長尺なガスバリアフィルムを幅方向に切断して、その後、幅方向両端部の切断を行うと共に、切断を、切断線と直交方向の一方のガスバリアフィルムを保持することなく行い、あるいは、点接触の切断手段を用いることにより、前記課題を解決する。例文帳に追加

A method for manufacturing a gas barrier film includes cutting the long gas barrier film in a width direction thereof, and then cutting both width directional ends where the cutting is performed without holding one of the gas barrier films in a direction perpendicular to a cutting-plane line, or is performed by using a cutting device on a point contact basis. - 特許庁

バリアフィルム４を含む積層体を用いた液体紙容器であって、該積層体が、原紙１に折り曲げ用罫線Ｃ加工を行った後に該バリアフィルムとラミネートしたものであることを特徴とする液体紙容器の製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method for the liquid paper container which uses the laminated body comprising the barrier film 4, the laminated body is obtained by processing a base paper 1 for formation of folding score lines C, and then laminating it with the barrier film. - 特許庁

低温で且つ迅速にＳｉＯ_２系セラミックス膜を形成する方法により、効率良くガスバリアフィルムを得て、最終的に得られるセラミックス膜のガスバリア性、耐傷性等の膜特性を向上したガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a gas barrier film which is obtained efficiently by a method of forming a SiO_2 type ceramic film rapidly at low temperatures and has improved gas barrier properties and film characteristics, e.g. scratch resistance, of the ceramic film obtained finally and a method of manufacturing the gas barrier film. - 特許庁

樹脂基材上に窒化酸化珪素層 、さらにその上に窒化酸化珪素層 の順に積層し構成された透明水蒸気バリアフィルムにおいて、窒化酸化珪素層 の元素濃度比O/(O+N)が窒化酸化珪素層 の元素濃度比O/(O+N)よりも小さいことを特徴とする透明水蒸気バリアフィルム。例文帳に追加

The transparent moisture barrier film is formed by sequentially laminating a silicon oxynitride layer (1) on a resin substrate and further a silicon oxynitride layer (2) on the layer (1), wherein an element concentration ratio of O/(O+N) in the silicon oxynitride layer (1) is smaller than an element concentration ratio of O/(O+N) in the silicon oxynitride layer (2). - 特許庁

基材フィルムと、当該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によって形成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層体と、からなるガスバリアフィルムであって、前記積層体中のガスバリア層の直下には、ガラス転移温度が９０℃以上の高分子樹脂によって形成されている耐熱層が位置していることを特徴とするガスバリアフィルムことを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

In the gas barrier film comprising a substrate film and the laminate which is positioned on the substrate film and has at least one layer of the gas barrier layer formed by a vacuum deposition method, a heat resisting layer formed by a polymer resin having the glass transition temperature of ≥90°C is positioned just under the gas barrier layer in the laminate. - 特許庁

高いガスバリア性を有し、層間の密着性が良好で、耐屈曲性や耐印刷性にも優れ、特に、酸素や水蒸気等による劣化や変質を抑制する用途で食品や医薬品、さらには電子部材等の包装に用いられる包装用フィルムとして好適に使用することができるガスバリアフィルム積層体と、そのガスバリアフィルム積層体を高速で製造できるようにしたガスバリアフィルム積層体の製造方法の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a gas barrier film laminate having high gas barrier properties, improved in interlaminar strength, also excellent in bending resistance and printability, and suitably used as a packaging film especially used for packaging food, medicines, electronic member, etc. for suppressing the deterioration or degeneration caused by oxygen or steam, and also to provide a manufacturing method for manufacturing the gas barrier film laminate at a high speed. - 特許庁

樹脂基材上に、少なくとも無機物層／有機物層／無機物層で構成されたバリア膜を有する透明水蒸気バリアフィルムにおいて、有機物層がアクリロイル基以外に少なくとも１つ以上の極性基を有するジアクリレートを架橋させてなる樹脂を主成分とする透明水蒸気バリアフィルム。例文帳に追加

In the transparent water vapor barrier film having a barrier film comprising at least an inorganic matter layer/an organic matter layer/an inorganic matter layer on a resin base material, the organic matter layer is made mainly of a crosslinked diacrylate resin having at least one polar group except acryloyl group. - 特許庁

高いバリア性能を有し、熱や湿度、経時保存後でも製造初期のバリア性を維持でき、折り曲げ耐性等も良好なバリアフィルムとその製造方法を提供すること、また該バリアフィルムを有機光電変換素子用樹脂基材として用いて、耐久性の高い有機光電変換素子を得ることにある。例文帳に追加

To provide a barrier film having high barrier performance capable of maintaining barrier properties of the initial stage of production even after being exposed to heat and humidity or storage with the passage of time and also showing favorable bending resistance, its forming method and an organic photoelectric transducer using the barrier film as a resin substrate for the organic photoelectric transducer and having high durability. - 特許庁

プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、少なくとも２層のポリシラザンを塗布し硬化させた酸化ケイ素からなる無機層および少なくとも１層の有機層を有するガスバリア層を有してなるガスバリアフィルムにおいて、前記無機層の各層の膜密度の差が０．１５〜０．８０であり、前記有機層にナノ粒子を含有することを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

The gas-barrier film includes a gas-barrier layer having the inorganic layer made of silicon oxide, which is obtained by applying and curing at least two polysilazane layers, and the organic layer of at least one layer on at least one side of a plastic film, wherein the difference in film density of each layer of the inorganic layer is 0.15-0.80, and the organic layer contains nano-particles. - 特許庁

透明基材１０２の少なくとも片面に、少なくとも１層のバリア性薄膜１０４を積層してなる透明バリアフィルム１０において、前記バリア性薄膜１０４が、酸化反応性ガスを導入しながら行なう真空成膜により形成され、かつ前記バリア性薄膜１０４のクラック発生開始歪量［％］が、２．５％以上３．３％以下であることを特徴とする透明バリアフィルム１０。例文帳に追加

In the transparent barrier film 10 produced by laminating at least one layer of a thin barrier film 104 on at least one side of a transparent base material 102, the thin barrier film 104 is formed by vacuum film forming which is carried out while an oxidation-reactive gas is introduced, and the quantity(%) of distortion at the start of cracking of the thin barrier film 104 is 2.5-3.3%. - 特許庁

基材となるプラスチックフィルムの表面にガスバリア層が積層されてなるガスバリアフィルムであって、前記基材プラスチックフィルムが、その長手方向及び幅方向の熱収縮率をいずれも０．８％未満としたものであること、より好ましくは０．５％未満としたものであること、を特徴とするガスバリアフィルムとした。例文帳に追加

The gas barrier film is constituted by laminating a gas barrier layer on the surface of a plastic film becoming a base material and the base material plastic film is characterized in that both heat shrinkage factors in the longitudinal and lateral directions thereof are lower than 0.8%, preferably lower than 0.5%. - 特許庁

透明基材上に、少なくとも２種類以上のバインダーを含む混合層と、金属または金属酸化物からなる金属層と、を順次形成してなるガスバリアフィルムであって、前記２種類以上のバインダーの各表面張力の最大値と最小値との差が５ｍＮ／ｍ以上５０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

The gas barrier film is prepared by forming a mixed layer including at least two kinds of binders and a metal layer made of metal or metal oxide in the order on a transparent base material, wherein a difference between the maximum value and the minimum value of each surface tension of at least two kinds of binders is 5 mN/m or more and 50 mN/m or less. - 特許庁

ガスバリアフィルムを形成するにあたり、材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、得られたガスバリアフィルムを用いることにより、高い酸素、水蒸気バリア性を保持し、同時に高い基材密着性を有する加熱殺菌用包装材料を提供する。例文帳に追加

To provide a packaging material for pressurizing/heating sterilization having a high oxygen and steam barrier property and high adhesion to a base material at the same time, by using a gas barrier film whose gas barrier property versus film-making velocity can be freely set by freely setting a vaporization rate and a plasma density of a material when making the gas barrier film. - 特許庁

ポリアルキレンナフタレート樹脂基材フィルム上に少なくとも一層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、該ポリアルキレンナフタレート樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が７０〜１５０℃であり、かつ該水蒸気バリアフィルムが、抵抗が１０^12Ω（２５℃・相対湿度６０％）以下である導電性層を少なくとも一層有する。例文帳に追加

In the steam barrier film constituted by providing at least one inorganic gas barrier layer on a polyalkylene naphthalate resin base material film, the glass transition point (Tg) of a polyalkylene naphthalate resin base material is 70-150°C and the steam barrier film has at least one conductive layer with a resistivity of 10^12 Ω (at 25°C, relative humidity: 60%) or below. - 特許庁

プラズマＣＶＤ法によりガスバリア層を形成した場合であっても、基材がエッチングされることがなく、ガスバリア性にムラが生じたり、基材と積層体との密着性が低下することがなく、さらに、従来のガスバリアフィルムと比べて、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a gas barrier film having an excellent gas barrier property as compared with a conventional gas barrier film since even when a gas barrier layer is formed by a plasma CVD method, a substrate is not etched, an irregularity is not generated in the gas barrier property and adhesion of the substrate to a laminate is not decreased. - 特許庁

バリア性を有するスパウトのバリアフィルムを巻装したバリア筒の筒状体の外面側面のテーパーを無くして、インサート成型工程で、バリア筒の金型への設置を容易にし、かつバリアフィルムをラベルとしても使用した時にラベルの形状をテーパーを考慮することなく制作できること例文帳に追加

To facilitate installation of a barrier cylinder into a mold in an insert molding process by eliminate a taper of the outer side face of a cylindrical body of the barrier cylinder wound with a barrier film of a spout with a barrier property, and to enable preparation of a shape of a label without taking the taper into consideration when the barrier film is used as the label. - 特許庁

従来のようにセラミック膜を繰り返し積層しなくとも、高いバリア性能を達成できるガスバリアフィルムを得ることにあり、また該ガスバリアフィルムを有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材として用いることにあり、また、該有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材を用いて、ガスバリア性が高く、光取り出し効率が高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることにある。例文帳に追加

To provide a gas-barrier film capable of achieving high barrier performance even if a ceramic film is not repeatedly laminated as ever; to use the gas-barrier film as a resin base material for an organic electroluminescent device; and to obtain an organic electroluminescent device with excellent gas-barrier properties and high light extraction efficiency by using the resin base material for an organic electroluminescent device. - 特許庁

樹脂基板１の片面または両面に珪素原子と窒素原子とを含む薄膜２を有する透明ガスバリアフィルム１０であって、前記薄膜２に含まれる珪素原子と窒素原子との割合がＳｉＮｘ（ただし、０．５≦ｘ≦１．４）であり、かつ、前記薄膜２の膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム１０。例文帳に追加

The transparent gas barrier film 10 has a thin film 2 containing silicon atoms and nitrogen atoms on one side face or both side faces of a resin substrate 1, wherein a ratio between the silicon atoms and the nitrogen atoms contained in the thin film 2 satisfies SiNx (wherein, 0.5≤x≤1.4), and also the film thickness of the thin film 2 is 20 to 50 nm. - 特許庁

基材の少なくとも片側に、金属酸化物層が１層以上積層されており、最表面の金属酸化物上に有機物を主成分とする耐薬品層を設けたバリアフィルムにおいて、該耐薬品層の厚さが０．０５μｍ以上５μｍ以下の範囲内であり、かつシリコーン系化合物、フッ素系化合物などの撥水性化合物を含むことを特徴とするバリアフィルム。例文帳に追加

The barrier film at least one side of its backing member is laminated with one or more layers of metal oxide and the outermost metal oxide is covered with a chemical-resistant layer comprising mainly organic materials wherein said chemical-resistant layer has a thickness of from 0.05 μm to 5 μm and contains a water repellent compound such as a silicone compound, a fluorinated compound or the like. - 特許庁

基材上に、少なくとも１層のケイ素を含む無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有するガスバリアフィルムであって、有機層が、（メタ）アクリレート系化合物と、分子内にチオール基を２つ以上有する化合物と、ラジカル重合開始剤を含む重合性組成物を硬化して得られる、ガスバリアフィルム。例文帳に追加

In the gas barrier film having at least one inorganic layer, containing silicon, and an organic layer, arranged on the surface of the inorganic layer, on the base material, the organic layer is obtained by solidifying a polymerizable composition containing a (meth)acrylate based compound, a compound having two or more of thiol groups in molecule, and a radical polymerization initiator. - 特許庁

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、厚さ０．５〜１０ｎｍのカーボン蒸着層を有し、その上に厚さ３〜５００ｎｍの酸化アルミ層を積層した透明バリアフィルムや上記基材のカーボン蒸着面がリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した処理済みの面である透明バリアフィルムおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

The transparent barrier film including a carbon deposition layer having a thickness of 0.5 to 10 nm at least on one face of the substrate comprising a plastic material and laminating an aluminium oxide layer having a thickness of 3 to 500 nm thereon, the transparent barrier film in which the carbon deposition face of the substrate is a treated face utilizing plasma of a reactive ion etching (RIE) mode, and its production method are provided. - 特許庁

無機酸化物層とヒートシール性樹脂層を有する透明ガスバリアフィルムロールにおいて、無機酸化物層、該無機酸化物層のベースフィルム及びヒートシール性樹脂層の３者の位置関係において、ヒートシール性樹脂層がすくなくとも、無機酸化物層側にあり、かつ、該無機酸化物層の膜厚の最大値が最小値の１．５倍以下であることを特徴とするガスバリアフィルムロール。例文帳に追加

In the transparent gas-barrier film roll having an inorganic oxide layer and a heat-sealable resin layer, in the positional relationship among the oxide layer, the base film of the oxide layer, and the resin layer, the resin layer is arranged at least on the side of the oxide layer, and the maximum film thickness of the oxide layer is 1.5 times or below as large as the minimum film thickness. - 特許庁

ポリアミド系樹脂基材フィルムの片面に、無機化合物からなる蒸着層を設けたバリアフィルムにおいて、前記ポリアミド系樹脂基材フィルムの蒸着膜を設けない側の表面は、Ｘ線光電子分光法によるＸ線源ＭｇＫαおよびＸ線出力１００Ｗの測定条件での測定で得られる元素比率Ｏ（酸素）／Ｃ（炭素）が０．１６〜０．２６であることを特徴とするバリアフィルム。例文帳に追加

The barrier film has a vapor-deposited layer of an inorganic compound on one surface of a polyamide type resin substrate film, and the other surface without the vapor deposition layer has an O(oxygen)/C(carbon) elemental ratio of 0.16-0.26, measured by the X-ray photoelectron spectroscopy with an X-ray source of MgKα and an X-ray output of 100W. - 特許庁

無機酸化物層とヒートシール性樹脂層を有する透明ガスバリアフィルムロールにおいて、無機酸化物層、該無機酸化物層のベースフィルム及びヒートシール性樹脂層の３者の位置関係において、ヒートシール性樹脂層がすくなくとも、ベースフィルム側にあり、かつ、該無機酸化物層の膜厚の最大値が最小値の１．５倍以下であることを特徴とするガスバリアフィルムロール。例文帳に追加

In the transparent gas-barrier film roll having an inorganic oxide layer and a heat-sealable resin layer, in the positional relationship among the oxide layer, the base film of the oxide layer, and the resin layer, the resin layer is arranged at least on the side of the base film, and the maximum film thickness of the oxide layer is 1.5 times or below as large as the minimum film thickness. - 特許庁

ポリ珪素化合物を含有する塗工液をプラスチックフィルム支持体に塗布した後、該塗布されたポリ珪素化合物をＶＵＶ光によりセラミックに転化させたガスバリアフィルムであって、該ポリ珪素化合物の下記数式で定義する分散度が、３．００以上２０．００以下であることを特徴とするガスバリアフィルム及びその製造方法。例文帳に追加

There are provided: the gas barrier film which a gas barrier film produced by applying an application liquid containing a poly-silicon compound to a plastic film support and converting the applied poly-silicon compound to a ceramic by VUV light, in which the degree of dispersion of the poly-silicon compound, defined by the following expression, is 3.00-20.00; and a method of manufacturing the same. - 特許庁

本発明の透明バリアフィルムは、プラスチック基材の片面または両面に、少なくとも２層以上の酸化珪素膜を第１層から第ｎ層まで順次積層してなるバリア層を有する透明バリアフィルムであって、前記第１層目の酸化珪素膜の膜密度が、第１層目以外の酸化珪素膜の膜密度に比べて高密度であることを特徴とする。例文帳に追加

The transparent barrier film has the barrier layer made by successively laminating at least two layers of silicon oxide film from first layer to n-th layer on one surface or both surfaces of a plastic substrate, wherein a film density of the silicon oxide film of the first layer is higher as compared to the film density of the silicon oxide film other than the first layer. - 特許庁

基材の片面または両面に、プラズマＣＶＤ法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Ｓｉ原子数１００に対してＯ原子数１７０〜２００およびＣ原子数３０以下の成分割合からなっており、さらに１０５５〜１０６５ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

In the gas-barrier film having a silicon oxide film formed by a plasma CVD method at least on one side of a base material, the silicon oxide film comprises 170-200 oxygen atoms and 30 or below carbon atoms per 100 silicon atoms and has IR absorption based on Si-O-Si stretching vibration in a range of 1,055-1,065 cm-1. - 特許庁

プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が、有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

The gas barrier film having a barrier layer containing an organic layer and an inorganic layer at least on one surface of a plastic film, wherein the barrier layer is composed of the organic layer, a first inorganic layer having a film density of 1.7 or more, and a second inorganic layer whose film density is 0.5-1.5 higher than the first inorganic layer. - 特許庁

ポリアルキレンナフタレート樹脂基材フィルム上に少なくとも一層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、該ポリアルキレンナフタレート樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が７０〜１５０℃であり、かつ該水蒸気バリアフィルムが、抵抗が１０^12Ω（２５℃・相対湿度６０％）以下である導電性層を少なくとも一層有する。例文帳に追加

The steam barrier film has at least one inorganic gas barrier layer on a substrate film of a polyalkylene naphthalate resin where the glass transition point (Tg) of the polyalkylene naphthalate resin is 70-150°C, and also the steam barrier film has at least one conductive layer having the resistance of 10^12 Ω (25°C, relative humidity 60%) or lower. - 特許庁

プラスチックフィルム基材の片面に、少なくとも、金属酸化物又は無機化合物のいずれかもしくは両方をターゲットとし、これを蒸着してなるガスバリア層を積層したガスバリアフィルムであって、前記ガスバリア層に、遷移元素が混合されている構成を有する透明ガスバリアフィルムとした。例文帳に追加

The transparent gas barrier film is the gas barrier film having a gas barrier layer laminated thereon by using at least either one of or both of a metal oxide and an inorganic compound as a target to vapor-deposit the same and a transition element is mixed with the gas barrier layer. - 特許庁

イオンプレーティング法により積層体を形成した場合であっても、基材がエッチングされることがなく、ガスバリア性にムラが生じたり、基材と積層体との密着性が低下することがなく、さらに、従来のガスバリアフィルムと比べて、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a gas barrier film having an excellent gas barrier property as compared with a conventional gas barrier film since even when a laminate is formed by an ion plating method, a substrate is not etched, an irregularity is not generated in the gas barrier property and adhesion of the substrate to the laminate is not decreased. - 特許庁

プラスチック材料からなる基材１の少なくとも片面に、無機層状化合物と水溶性高分子を主たる構成成分とする複合被膜２を配したバリアフィルムにおいて、上記複合被膜２に炭酸塩または水酸化物のアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物を添加することを特徴とするガスバリアフィルム。例文帳に追加

In a barrier film wherein a composite film 2 containing an inorg. laminar compd. and a water-soluble polymer as main constituents is arranged on at least the single surface of a base material 1 comprising a plastic material, an alkali metal or alkaline earth metal cabonate or hydroxide is added to the composite film 2. - 特許庁

金属酸化物、又は無機化合物のいずれかもしくは両方をターゲットとし、これを蒸着したガスバリア層を積層したガスバリアフィルムであって、高温高湿下、例えばレトルト処理やボイル処理を施す時であっても層間密着力の低下を生じない、また透明性を維持出来る透明ガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a transparent gas barrier film which is a gas barrier film having a gas barrier layer laminated thereon by using either one of or both of a metal oxide and an inorganic compound as a target to vapor-deposit the same and causes no lowering of interlaminar adhesion and keeps transparency even if, for example, retorting or boiling treatment is applied under a high temperature and high humidity condition. - 特許庁