「パターン欠陥検査装置」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

パターンにおける欠陥を確実かつ高速に検出可能な、撮像方法、パターン検査方法、撮像装置、及びパターン検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging method which enables the certain detection of the flaw in a pattern at a high speed, a pattern inspection method, an imaging apparatus and a pattern inspection device. - 特許庁

また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。例文帳に追加

The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor. - 特許庁

欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection. - 特許庁

従来のレジストパターンの欠陥検査装置では検出不可能となるほど微細な欠陥の起因となる薬液中の異物の検出が可能な、薬液起因の欠陥検出方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a detection method of a defect caused by chemical solution capable of detecting foreign matter in the chemical solution causing such a fine defect undetectable by a conventional defect inspection device of a resist pattern. - 特許庁

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。例文帳に追加

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability. - 特許庁

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted. - 特許庁

繰り返しパターン領域に発生した比較的大きな欠陥を正確に検出することができるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a pattern inspection apparatus that can accurately detect relatively large defects generated in a repetition pattern region, and to provide a pattern inspection method. - 特許庁

ＳＥＭ画像では目視による識別が困難な欠陥を有するパターンを自動検出可能なパターン検査装置及びパターン検査方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a pattern inspection device capable of automatically detecting a pattern having a flaw difficult to visually discriminate in an SEM image, and to provide a pattern inspection method. - 特許庁

パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。例文帳に追加

To implement a highly sensitive defect inspection method in a pattern inspection apparatus by reducing the effect of the unevenness of the brightness of a pattern generated from the variation of the film thickness and the scattering of the pattern width. - 特許庁

ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern inspection apparatus and pattern inspection method for detecting with high sensitivity line width defect that generates error of line width in pattern transferred on a wafer. - 特許庁

この欠陥の検出された箇所のみのパターンデータは、検査装置１００から外部装置に出力可能である。例文帳に追加

The pattern data only of a place where this defect is detected can be output to an external device from the inspection device 100. - 特許庁

高精度の検査が必要なエリアをきめ細かく設定し、かつ擬似欠陥の検出を抑制しつつ、迅速にパターン検査をすることが可能なパターン検査装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern inspection apparatus and a method for it which can finely set an area where a high accuracy inspection is required, suppress detection of untrue defects and rapidly inspect a pattern. - 特許庁

検査対象である回路パターンの構造または材質に応じて、帯電状態を制御することで、欠陥検査性能が向上した回路パターンの検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection instrument of a circuit pattern whose defective inspection performance is improved by controlling the electrification status according to a structure or a material of the circuit pattern which is an inspection object. - 特許庁

銅の飛び散りに影響されず，欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法およびその方法により検査されたプリント配線板を提供すること。例文帳に追加

To provide a pattern inspection device and a pattern inspection method capable specifying a defect shape precisely without being affected by the spattering of copper, and to provide a printed circuit board inspected by the method. - 特許庁

パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において，実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。例文帳に追加

To improve an operation rate of an inspection device by setting an inspection condition, in a state where an actual inspection object does not exist, in defect inspection that uses a substrate with a pattern as the inspection object. - 特許庁

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method. - 特許庁

画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation. - 特許庁

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。例文帳に追加

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect. - 特許庁

半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof. - 特許庁

印刷物の欠陥検査において、複数の欠陥検出信号に対し、欠陥を検出した検査装置の判別が可能なパターンを、ラベルにマーキングし印刷物に貼付、あるいは印刷物にマーキングするマーキング制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a marking controller which marks a label with a pattern for identifying an inspecting device which has detected a defect in response to a plurality of defect detection signals in defect inspection of printed matter and attaches it onto the printed matter, or puts a mark on the printed matter. - 特許庁

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。例文帳に追加

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device. - 特許庁

パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。例文帳に追加

A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4). - 特許庁

同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。例文帳に追加

In the defect inspection apparatus for determining an inconsistency part as the defect by comparing the image of a pattern formed to be the same pattern, the amount of the characteristics of the image of a region where a plurality of the optical conditions are dealing is plotted to the characteristic space and an aberrant value in the characteristic space is detected as a defect. - 特許庁

パターン検査装置ではステージ走査を繰返して画像を取得し、検出した順に検出画像を記憶しておいた同一のパターンが期待できる場所同士の画像を比較して異なる場所を欠陥候補とし、２回欠陥候補となった場所を真の欠陥とする。例文帳に追加

To present only true defects to a user by inspecting the whole surface of the substrate of an object with uniform sensitivity so as to detect the true defects. - 特許庁

ダイ比較方式を用いた光学式半導体欠陥検査方法及び検査装置に関して、より微細な欠陥や回路パターンに対して致命性の高い検出を、より高い感度で検出する検査方法及び検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an inspection method and an inspection apparatus for detecting finer defects and high fatal damages to a circuit pattern, with higher sensitivity, in the optical semiconductor defect inspection method, and to provide an inspection apparatus that uses die comparison method. - 特許庁

欠陥検査装置及び方法、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、並びに半導体ウェハの製造方法例文帳に追加

DEFECT INSPECTION APPARATUS, DEFECT INSPECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PATTERN TRANSFERRING METHOD AND SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING METHOD - 特許庁

レシピ作成及び欠陥確認の使い勝手がよく、かつ迅速に行うことのできるパターンの検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern inspection apparatus capable of rapidly and conveniently creating a recipe and checking a defect. - 特許庁

微細な設計データとセンサデータとの差異を補完することで、擬似欠陥の発生を防止することができるパターン検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a pattern inspecting device capable of preventing the occurrence of a pseudo defect by complementing the difference between fine design data and sensor data. - 特許庁

マスタ情報担体の欠陥検査方法、マスタ情報担体利用の磁性膜パターン磁気転写方法および磁気記録再生装置例文帳に追加

MASTER INFORMATION CARRIER DEFECT INSPECTION METHOD MAGNETIC FILM PATTERN TRANSFER METHOD USING MASTER INFORMATION CARRIER, AND MAGNETIC RECORDING/REPRODUCING DEVICE - 特許庁

また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する例文帳に追加

The apparatus for inspecting pattern performs comparison between images of regions corresponding to patterns formed to be same patterns, thereby determining mismatch portions across the images to be defects. - 特許庁

欠陥検査領域の明確化と遮光領域規定パターンを縮小投影露光装置の解像限界以下とする。例文帳に追加

To define the region for inspection of defects, and to make a pattern to restrict a light-shielding region smaller than the resolution limit of a reduction stepper. - 特許庁

繰り返しパターンの複数種類の欠陥に対して十分な検出感度を確保できる表面検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a surface inspection device capable of ensuring a sufficient detection sensitivity to a plurality of kinds of flaws of a repeated pattern. - 特許庁

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness. - 特許庁

被検体上の各欠陥やパターンに対して最適な観察条件となるように入射角度を自由に設定でき、又これに加えて入射方向を自由に設定でき、精度の高い欠陥検査が可能となる表面欠陥検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a surface defect inspection device capable of freely setting an incident angle so as to form an optimum observation condition to each defect or pattern on a subject and further freely setting an incident direction to perform an accurate defect inspection. - 特許庁

基板のEBR/EEW検査、パターンの欠陥検査及びレティクルエラー検査を全部実施することができる自動化された統合基板検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an integrated substrate inspection apparatus which is automated and carries out all of EBR/EEW inspection, pattern defect inspection, and reticle error inspection on a substrate. - 特許庁

本発明は、被検査表示機器に所望の検査パターンを表示させ、表示機器の画素からの光を複数の受光素子で検出し、表示機器の画素の欠陥を検査する画素検査装置に改良を加えたものである。例文帳に追加

This device of the present invention is an improved pixel inspection device wherein a desired inspection pattern is displayed on the display equipment to be inspected, wherein light from the pixel of the display equipment is detected by a plurality of photoreceiving elements, and wherein the defect of the pixel of the display equipment is inspected. - 特許庁

半導体基板に形成されたパターンに存在する複数の欠陥を検出し、検出した複数の欠陥の中から所定数の欠陥を抽出した後、抽出した所定数の欠陥について外観検査を実施する工程において、検出した欠陥の発生状況を反映した代表的な欠陥を抽出することができる半導体装置の製造技術を提供する。例文帳に追加

To provide manufacturing technology of a semiconductor device, which can extract a representative defect that reflects an occurrence situation of a detected defect in a process for detecting a plurality of the defects existing in a pattern formed in a semiconductor substrate, extracting the prescribed number of the defects from a plurality of the detected defects and inspecting an appearance on the prescribed number of the extracted defects. - 特許庁

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed. - 特許庁

半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。例文帳に追加

To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。例文帳に追加

To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam. - 特許庁

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。例文帳に追加

To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device. - 特許庁

本発明は、カラー受像管のシャドウマスクの製造工程において、金属基体のレジストパターンをＳＮ比の高い画像で取り込みレジストパターンの孔欠陥を精度良く効率的に検出できるレジストパターンの欠陥検査装置を提供する。例文帳に追加

To take in a resist pattern of a metal base body as an image having high SN ratio to efficiently and precisely detect a hole defect of the resist pattern, in a manufacturing process for a shadow mask of a color picture tube. - 特許庁

異なる配線幅からなる配線パターンであっても、誤検出が少なく、比較的容易な欠陥検査を可能とするパターン検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern inspecting apparatus that has less erroneous detection and enables relatively easy defect inspection even in a wiring pattern having different wiring widths. - 特許庁

連結回路パターンにキャパシタセンサーが非接触式で設置されて、接触圧力による誤測定の頻度を減らし、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate circuit pattern defect inspecting device and an inspection method capable of decreasing frequency of erroneous measurement due to contact pressure and shortening the measurement time, by installing a capacitor sensor to a connecting circuit pattern in a noncontact manner. - 特許庁

光学画像のパターンと基準画像のパターンとの位置合わせを高い精度で行いつつ、且つ、高速で欠陥検出のできる検査装置および検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection device and an inspection method capable of detecting a flaw at high speed while precisely aligning the pattern of an optical image and the pattern of a reference image. - 特許庁