「パルスエネルギー」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

レーザ光出力およびレーザパルスエネルギーの精密な制御が可能なレーザ装置を得る。例文帳に追加

To obtain a laser device which precisely controls a laser light output and laser pulse energy. - 特許庁

放射線パルスエネルギー制御システム、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

RADIATION PULSE ENERGY CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

これは、パルス列が出射しているときパルスエネルギーを一定に保つことを含んでいる。例文帳に追加

This also includes keeping the pulse energy constant when a pulse train is emitted. - 特許庁

２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び２ステージレーザシステム例文帳に追加

PULSE ENERGY CONTROLLER OF TWO-STAGE LASER AND TWO-STAGE LASER SYSTEM - 特許庁

改良された放射線パルスエネルギー濃度で露光に用いるのに適した放射線パルスを提供する。例文帳に追加

To provide radiation pulses suitable for the exposure in an improved radiation pulse energy density. - 特許庁

レーザの高出力化及び高繰り返し化を実現する２ステージレーザのパルスエネルギー制御を高精度に行い、パルスエネルギーを安定化させる。例文帳に追加

To stabilize pulse energy by performing pulse energy control of a two-stage laser achieving high output and high iteration of laser with high precision. - 特許庁

エキシマレーザ装置において、高繰り返し周波数（たとえば４０００Ｈz）でのパルスエネルギー低下を抑制して、安定したパルスエネルギーが得られるようにする。例文帳に追加

To obtain stabilized pulse energy by suppressing the reduction of pulse energy at high repeated frequency (for example 4,000 Hz) in an excimer laser device. - 特許庁

少なくとも１０ｍＪ／ｓｒのパルスエネルギーで、５ｋＨｚよりも大きい反復率でＥＵＶパルスを連続的に発生させる。例文帳に追加

To consecutively generate EUV pulses at a repetition rate larger than 5 kHz with a pulse panel of at least 10 mJ/sr. - 特許庁

１５７ｎｍの単一パルスエネルギーを検出し、それに基づいて動作制御可能なフッ素分子（Ｆ_2）レーザシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a fluorine molecule (F2) laser system which can be controlled, based on the detection of a single pulse energy of 157 nm. - 特許庁

光増幅された光パルスの平均パルスエネルギーが一定になるように、光ファイバ増幅器３０２の励起を制御する。例文帳に追加

The excitation of the optical fiber amplifier 302 is so controlled that the mean pulse energy of the optically amplified light pulses becomes constant. - 特許庁

また、パルスエネルギーは数mJでも明確な線スペクトルを得ることができるため、固体表面に与えるダメージも少ない。例文帳に追加

Further, a clear linear spectrum can be obtained even in pulse energy of several mJ and the damage to the surface of the solid is reduced. - 特許庁

MOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバレーザシステムの略2倍のパルスエネルギーを出力することができる。例文帳に追加

A MOPA system allows outputting pulse energies approximately double the comparable single chamber laser system with greatly improved beam quality. - 特許庁

同じレーザ光源装置を用いて、加工精度を良好に保ちつつ、レーザ光のパルスエネルギーおよび繰返し周波数を変化させる。例文帳に追加

To change the pulse energy and the repetition frequency of laser light while maintaining superior processing accuracy by using a single laser light source apparatus. - 特許庁

ＸｅＣｌエキシマレーザを用いて非晶質膜１４に対して一様に１５０回のパルス（エネルギービームＥ_1）照射を行う。例文帳に追加

A noncrystalline film 14 is irradiated with pulses (energy beam E_1) uniformly 150 times by using an XeCl excimer laser. - 特許庁

スイープ処理は、Ｑスイッチ発振の周波数を変化させ、Ｑスイッチのピークパワーとパルスエネルギーを制御する処理である。例文帳に追加

The sweep treatment is specified as a treatment which stepwise changes the frequency of Q-SW oscillation and in which, as the frequency is getting shorter, the Q-SW pulse energy and a peak power are stepwise decreased. - 特許庁

簡単な構成でパルスエネルギーを所望のように調整することのできるレーザ発振装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a laser oscillator that allows desired adjustment of pulse energy by a simple configuration. - 特許庁

約4,000Hz又はそれを超えるパルス速度及び約5mJ又はそれを超えるパルスエネルギーで高品質パルスレーザビームを生成する。例文帳に追加

To generate high quality pulsed laser beams at a pulse rate of about 4,000 Hz or greater and at a pulse energy of about 5 mJ or greater. - 特許庁

ＸｅＣｌエキシマレーザを用いて非晶質膜１４に対して一様に１５０回のパルス（エネルギービームＥ１）照射を行う。例文帳に追加

A noncrystalline film 14 is irradiated with pulses (energy beam E1) uniformly 150 times by using an XeCl excimer laser. - 特許庁

共鳴器サイクルにわたって平均化されたパルスパワーｐ（ｔ）又はパルスエネルギーに比例した第一信号μが、レーザー発光に対して測定される。例文帳に追加

A first signal μ in proportion to pulse power p(t) or pulse energy averaged over a resonator cycle is measured for the laser emission. - 特許庁

本発明は、パルス速度約４，０００Ｈｚ、パルスエネルギー約５ｍＪ以上で高品質パルスレーザービームを発生させることができるエキシマレーザーを提供する。例文帳に追加

The excimer laser can generate a high-quality pulsed laser beam at a pulse rate of about 4,000 Hz with pulse energy of about ≥5 mJ. - 特許庁

特別なソフトウェアを備えた改良型波長計は出力ビームパラメータを監視し、高速ＰＺＴ駆動チューニングミラー及びパルスパワー充電電圧を制御して、波長及びパルスエネルギーを所定限度内に維持する。例文帳に追加

An improved wavemeter provided with special software maintains the wavelength and pulse energy of the laser beam within prescribed limits by controlling a high-speed PZT driving tuning mirror and a pulse power charging voltage. - 特許庁

これらの放電室は、主発振器の波長パラメータの個別最適化及び増幅室のパルスエネルギーパラメータの最適化を可能にするように、個別に制御することができる。例文帳に追加

The chambers can be controlled individually permitting individual optimization of wavelength parameters in the master oscillator and the optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. - 特許庁

さらにパルスエネルギー、パルス幅、および穴１０の底部１５でチャネルの形成を回避するのに十分なフルエンスを有する少なくとも１つの後続のレーザパルスを放射するステップを有している。例文帳に追加

The method still further comprises a step of radiating at least one subsequent laser pulse having the pulse energy, the pulse width and the fluence sufficient to avoid formation of the channel at the bottom part 15 of the hole 10. - 特許庁

ピコ秒レーザは、パルス幅が１０^−１０〜１０^−１５秒の範囲であり、波長が２６６ｎｍ〜１０６４ｎｍであり、パルスエネルギーが１μＪ〜３００μＪである。例文帳に追加

In the picosecond laser, pulse width is 10^-10-10^-15 sec, wavelength is 266-1,064 nm, and pulse energy is 1-300 μJ. - 特許庁

光学結晶ファイバパルスコンプレッサ内で偏光モード分散と色分散とを補償することにより、全ファイバ型チャープパルス増幅システムから高いパルスエネルギーを得ることができる。例文帳に追加

By compensating polarization mode dispersion and chromatic dispersion in photonic crystal fiber pulse compressors, high pulse energies can be obtained from all-fiber chirped pulse amplification systems. - 特許庁

光ファイバー通信や光情報処理に用いる物質や素子の低パルスエネルギー領域での光パルス相関による応答の時間波形およびスペクトルを、繰り返し表示しかつ積算、平均化あるいは平滑化処理を施す。例文帳に追加

To repeat indication, integration, averaging or smoothing of response time waveform and spectrum through light pulse correlation in low pulse energy region of a substance or an element being employed in optical fiber communication or optical information processing. - 特許庁

レーザ光発生装置の出力パルスエネルギーを高めることなく反応容器の容積に占める反応領域の割合を大きくすることができるレーザ光照射反応装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam irradiation reaction device capable of enlarging the rate of reaction region in the volume of a reaction vessel without raising the output pulse energy of a laser beam generator. - 特許庁

Ａg^+を含有するガラスの内部の所定の位置にパルス幅が約７０〜５００フェムト秒のフェムト秒レーザー光パルスを照射位置におけるレーザー光パルスエネルギーが１０^9〜１０^15Ｗ／cm^2程度になるように集光照射する。例文帳に追加

The energy of the laser light pulse at the irradiation spot is made to be about 109-1015 W/cm2. - 特許庁

衝撃波発生装置が金属箔５とその一方の面５ａにその金属の蒸散・プラズマ化を行う吸収性の短パルスエネルギーを印加するエネルギー源とを有する。例文帳に追加

This apparatus for shock wave emission has a metal foil 5 and an energy source for impressing an absorbable short-pulse energy to transpire the metal to form a plasma on one face 5a of the metal foil. - 特許庁

パルスエネルギーのスパイク状パターンを消去し、露光量のバラツキを最少限にすると共に従来より少ないパルス数での露光を可能とするエキシマレーザ装置を得る。例文帳に追加

To provide excimer laser device which can minimize variations in the exposure by eliminating a spike-like pattern of pulse energy, and perform exposure with a less number of pulses than a conventional laser. - 特許庁

２つの放電室は別個に制御することができ、主発振器内の波長パラメータの最適化及び増幅室内のパルスエネルギーパラメータの最適化を可能にする。例文帳に追加

The two discharge chambers can be separately controlled, and enable the system to optimize a wavelength parameter in the master oscillator and a pulse energy parameter in an amplifying chamber. - 特許庁

成膜容器１の外で調整可能なレーザー光５のパルスエネルギーによりＳｉＯ_２膜の堆積速度を変化させ、純粋なＳｉＯ_２膜の屈折率を１０^−２オーダーで連続的に制御する。例文帳に追加

The depositing speed of the SiO_2 film is varied by the pulsed energy of a laser beam 5 that is adjustable outside a film deposition container 1, with the refractive index of the pure SiO_2 film continuously controlled in 10^-2 order. - 特許庁

そして、増幅用レーザ３００の増幅用高電圧パルス発生器３２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖampを制御し、増幅用レーザ３００のパルスエネルギーＰampを目標エネルギーＰatgtにする。例文帳に追加

A charge voltage Vamp to the main capacitor C0 disposed in an amplification high voltage pulse generator 32 of an amplification laser 300 is controlled, and the pulse energy Pamp of the amplification laser 300 is set to target energy Patgt. - 特許庁

好ましくない非線形性と利得飽和とが始まる前に、光ファイバー増幅器にエネルギーを蓄積する能力を大きくし、単一モード（ＳＭ）ファイバーで達成できるより大きいピーク強度およびパルスエネルギーを発生させること。例文帳に追加

To generate peak intensity and pulse energy larger than those achieved with a single mode (SM) fiber, by increasing capacity for accumulating energy in an optical fiber amplifier before undesirable non-linearity and gain saturation start. - 特許庁

パルスエネルギーのレーザーパルス光源を用いて通信波長帯ＣＥＯロックを実現し、ファイバレーザーアンプ段を必要としない小型化を実現した光周波数コム安定化光源を提供する。例文帳に追加

To provide an optical frequency comb-stabilizing light source which achieves communication wavelength band CEO locking by using a laser pulse light source of pulse energy, requires no fiber laser amplifier stage, and is miniaturized. - 特許庁

発振器のパルス幅と繰り返し率とが変えられるとき、増幅された出力パルスが所定のパルスエネルギーを持つように、高パワーファイバ増幅器システムの利得を制御するために、回路は使用される。例文帳に追加

The circuit is used to control the gain of the high-power fiber amplifier system such that each amplified output pulse has a predetermined pulse energy when the pulse width and repetition rate of an oscillator are changed. - 特許庁

レーザビームを走査してガラスの内部を着色させて立体像を描画する場合に、レーザビームのエネルギーであるパルスエネルギーによって描画部にクラックを発生させ難いガラスの描画方法を提供する。例文帳に追加

To provide a picture-drawing method for glass which method, in drawing a three-dimensional image by coloring the inside of glass by scanning with a laser beam, hardly causes cracks due to pulse energy, i.e. the energy of the laser beam, in a picture-drawing part. - 特許庁

約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率及び約５ｍＪ以上のパルスエネルギーで高品質パルスレーザ光を生成することができるシード光注入モジュール放電ガスレーザシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a seeded light injection module gas discharge laser system capable of generating a high quality-pulse laser beam with about 4,000 Hz of pulse repetition rate or more and pulse energy of about 5 mJ or more. - 特許庁

約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率及び約５ｍＪ以上のパルスエネルギーで高品質パルスレーザ光を生成することができるシード光注入モジュール放電ガスレーザシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a seed light injection module gas discharge laser system capable of generating a high quality-pulse laser beam with about 4,000 Hz of pulse repetition rate or more and a pulse energy of about 5 mJ or more. - 特許庁

遺伝子導入装置が、短パルスエネルギーを印加する一方の面５ａと反対側の面５ｂに、遺伝子８を付着させた微粒子９の配置部を有する。例文帳に追加

This apparatus for gene transfer has an arrangement part of fine particles 9 to which genes 8 are attached on a face 5b at the other side of the face 5a on which the short- pulse energy is impressed. - 特許庁

好ましくない非線形性と利得飽和とが始まる前に、光ファイバー増幅器にエネルギーを蓄積する能力を大きくし、単一モード（ＳＭ）ファイバーで達成できるより大きいピーク強度およびパルスエネルギーを発生させること。例文帳に追加

To generate a pulse energy having a peak intensity larger than those achieved with a single mode (SM) fiber, by increasing a capacity for accumulating energy in an optical fiber amplifier before starting undesirable non-linearity and gain saturation. - 特許庁

高パルスエネルギーの波長変換パルスレーザビームを光学素子の損傷なく、長時間安定に発生可能である波長変換レーザ装置を提供し、また、より高次の波長変換を高効率に行い、更に、高速加工可能なレーザ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wavelength conversion laser device which can generate wavelength conversion pulse laser beam of high pulse energy stably for a long time without damaging an optical element and provide a laser processing device which carries out higher wavelength conversion highly effectively and enables rapid processing. - 特許庁

パルス発生器１２から出力された光パルスは、パルス増幅器１４により増幅され、このパルス増幅器１４では、入力パルスの繰返し周波数に依らず、出力パルスエネルギーが一定となるようにその利得が制御される。例文帳に追加

An optical pulse outputted from the pulse generator 12 is amplified with the pulse amplifier 14, and in the pulse amplifier 14 the gain is controlled so as to make output pulse energy constant irrespective of the pulse repetition frequency of the input pulse. - 特許庁

発振用レーザ１００のパルスエネルギーＰoscが増幅飽和領域の下限エネルギーＥs0以上になるように、発振用レーザ１００の発振用高電圧パルス発生器１２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖoscを一定制御する。例文帳に追加

A charge voltage Vosc to a main capacitor C0 arranged in an oscillation high voltage pulse generator 12 of the oscillation laser 100 is constantly controlled so that the pulse energy Posc of the oscillation laser 100 becomes not less than lower the limit energy Es0 of an amplification saturation region. - 特許庁

１０ピコ秒から１００ナノ秒のパルス幅を持った超短パルスで、１ｍＪから５００Ｊのパルスエネルギーを持った固体レーザを用いて二重レーザ加工、カスケード加工を行うことで、さらに良好な加工面が得られる。例文帳に追加

A more superior machining surface is obtained by performing double laser beam machining and cascade machining, with an ultrashort pulse having a pulse width from 10 pico to 100 nano seconds and using a solid-state laser having a pulse energy from 1 mj to 500 J. - 特許庁