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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 加温板の意味・解説 > 加温板に関連した英語例文

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加温板の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2675



例文

加温板及び並びに棚と保陳列器例文帳に追加

HEATING PLATE AND HEATING SHELF BOARD, AND HEATING RACK AND HEAT INSULATING DISPLAY DEVICE - 特許庁

熱・保及び熱・保ケース例文帳に追加

HEATING/HEAT INSULATING BOARD AND HEATING/HEAT INSULATING CASE - 特許庁

模擬測及び縦型熱炉用度測定装置例文帳に追加

SIMULATED TEMPERATURE SENSING PLATE AND TEMPERATURE MEASURING DEVICE FOR VERTICAL HEATING FURNACE - 特許庁

を第1度より高い第2度で熱する。例文帳に追加

The substrate is heated at a higher second temperature than the first temperature. - 特許庁

例文

次に、必要に応じて、基をメッキ浴度とほぼ同等の度にする(前処理工程)。例文帳に追加

Subsequently, if necessary, the substrate is heated to a temperature approximately equal to the plating bath temperature (heating pretreatment process). - 特許庁


例文

を載置して熱するためのと、調媒体の度に応じて前記調するための調部と、制御部と、を備え、前記制御部は、度を任意の度からその度よりも高い第1の度に変更するために、調部の流路にその第1の度よりも高い度に調された調媒体を供給する一方で、度を任意の度からその度よりも低い第2の度に変更するために、調部の前記流路にその第2の度よりも低い度に調された調媒体を供給するように媒体調手段と及び供給手段の動作を制御する。例文帳に追加

The heat treatment apparatus includes: the hot plate for placing a substrate for heating; a hot plate temperature-controlling section for controlling the temperature of the hot plate according to the temperature of a temperature-controlled medium; and a control section. - 特許庁

熱する熱手段を外側熱手段と内側熱手段とで構成し、度検知手段の近傍に内側熱手段を配置した。例文帳に追加

A heating plate heating means for heating the heating plate consists of a heating plate outside heating means and a heating plate inside heating means, which is arranged in the vicinity of a heating plate temperature detection means. - 特許庁

度を上げて高処理能力を向上させる。例文帳に追加

To raise heating temperature of a substrate and improve high temperature processing capability. - 特許庁

熱回路基度管理方法および度管理装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF CIRCUIT BOARD TO BE HEATED - 特許庁

例文

この発明は、固有の上限度を有する熱シートを使用した加温板及び棚を目的としたものであって、安全性、自動度制御及び熱シートをより薄く収容することを目的としたものである。例文帳に追加

To provide a heating plate, a heating shelf board and a heating rack using a heating sheet having a specific upper limit temperature, securing safety, automatically controlling the temperature and storing the heating sheet as thin as possible. - 特許庁

例文

通電熱中の金属度推定方法例文帳に追加

METHOD OF ESTIMATING TEMPERATURE OF METAL SHEET HEATED BY ELECTRIFICATION - 特許庁

ラジアントチューブ式熱帯の制御方法例文帳に追加

SHEET TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR RADIANT TUBE TYPE HEATING ZONE - 特許庁

リフロー熱工程時の基度予測方法例文帳に追加

METHOD FOR PREDICTING SUBSTRATE TEMPERATURE AT REFLOW HEATING - 特許庁

熱炉の制御方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING PLATE TEMPERATURE IN HEATING FURNACE - 特許庁

熱用清浄超高ヒータ例文帳に追加

CLEANING SUPER-HIGH TEMPERATURE HEATER FOR SUBSTRATE HEATING - 特許庁

乾燥機能付きフィルタプレス装置用の加温板例文帳に追加

HEATING PLATE FOR FILTER PRESS EQUIPMENT HAVING DRYING FUNCTION - 特許庁

熱処理装置および度制御方法例文帳に追加

SUBSTRATE HEAT TREATMENT SYSTEM AND METHOD OF TEMPERATURE CONTROL - 特許庁

および間での深絞り性に優れた高強度鋼およびその工方法例文帳に追加

HIGH-STRENGTH STEEL SHEET EXERTING EXCELLENT DEEP DRAWABILITY AT ROOM TEMPERATURE AND WARM TEMPERATURES, AND METHOD FOR WARM WORKING SAME - 特許庁

度リップル、度むらを小さくして、炊飯性能、保性能を向上させる。例文帳に追加

To improve rice cooking performance and warming performance by reducing temperature ripples and temperature variance of a heating plate. - 特許庁

熱中又は熱後の金属度分布を計測する(ステップI)。例文帳に追加

The temperature distribution of the metallic sheet during heating or after heating is measured (Step I). - 特許庁

処理前熱装置の基熱面の度分布を測定する(S107)。例文帳に追加

Temperature distribution on the substrate heating face of the heater is measured before treatment (S107). - 特許庁

幅方向の均性に優れた金属帯熱装置例文帳に追加

HEATING DEVICE OF METAL BELT PLATE HAVING EXCELLENT UNIFORM HEATING IN WIDTH DIRECTION - 特許庁

幅方向の均性に優れた金属帯熱装置例文帳に追加

HEATING ARRANGEMENT OF METAL STRIP EXCELLENT IN UNIFORMITY OF TEMPERATURE IN STRIP WIDTH DIRECTION - 特許庁

成形性に優れた高強度鋼工方法、および工された自動車部品例文帳に追加

HIGH-STRENGTH STEEL PLATE WITH EXCELLENT FORMABILITY, WARM WORKING METHOD, AND WARM-WORKED AUTOMOTIVE PART - 特許庁

Ge基2が室まで達した後に前記熱を遮断して当該基度を室よりも低に降下させるとよい。例文帳に追加

It is preferred that the temperature of the substrate is lowered to a temperature lower than the room temperature by stopping the heating after the Ge substrate 2 reaches the room temperature. - 特許庁

面ヒーターの熱を有効にに伝え、効率よく熱し、裏面の度を正確に測定して、度制御を容易とする。例文帳に追加

To easily control temperature by effectively transmitting heat of a surface heater to a heating panel, efficiently heating the heating panel, and accurately measuring the temperature of the rear surface of the heating panel. - 特許庁

移載アーム27に保持した基12をする熱31を備え、基12を、薬液と略同じ度に均一に熱する。例文帳に追加

A hot plate 31 heating the substrate 12 held to the transfer arm 27 is provided, which uniformly heats the substrate 12 to the temp. approximately same as that of the chemical. - 特許庁

この度の推定においては、基度に、電動モータ15の雰囲気度と回路基30の雰囲気度との差分値をえた度を所定の短時間ごとに算してオフセット度とする。例文帳に追加

In the estimation of that temperature, difference of the atmospheric temperature of the motor 15 and the atmospheric temperature of the circuit board 30 is added to the board temperature every short predetermined time to obtain an offset temperature. - 特許庁

熱工程では折の表面度が100℃〜140℃になるまで当該折熱する。例文帳に追加

In the heating process, the folded plate is heated until the surface temperature of the folded plate is set at 100-140°C. - 特許庁

は第1の熱手段68により熱され、基度をコントローラ50が制御する。例文帳に追加

The substrate is heated by a first heating means 68, and the temperature of the substrate is controlled by a controller 50. - 特許庁

熱装置において熱処理される基度分布を均一化する。例文帳に追加

To provide an apparatus for heating substrates for uniformizing the temperature distribution of a substrate that is subjected to heat processing. - 特許庁

第1の熱では基1aを水の沸点より低い度で熱し、第2の熱では基1aを第1の熱の度よりも高い度で熱する。例文帳に追加

In the first heating, the substrate 1a is heated at a heating temperature lower than a boiling point of water, and in the second heating, the substrate 1a is heated at a temperature higher than the first heating temperature. - 特許庁

被処理基の上流側に高熱した高熱体を設けた反応室に反応ガスを供給して被処理基を処理する基処理装置において、高熱体の度制御性改善する。例文帳に追加

To improve a temperature controlability of a hot body for heating a reactant gas supplied to a reaction chamber, in a substrate treatment apparatus for treating a substrate with the gas, which arranges the hot body in the upstream of the substrate to be treated. - 特許庁

対向配置された第1基および第2基を高領域まで昇した後、降して熱処理し、高領域において、一方の基よりも他方の基を高熱する。例文帳に追加

The first substrate and the second substrate disposed facing each other are heat-treated by being heated to a high temperature area and cooled down, and one substrate is heated at higher temperature than the other substrate in the high temperature area. - 特許庁

処理装置、基処理装置の度制御方法、及び基処理装置の熱方法例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, TEMPERATURE CONTROL METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND HEATING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS - 特許庁

次にリン拡散度よりも低い度で熱し、しかる後、これよりも高い度で熱してリンを半導体基1に拡散する。例文帳に追加

The substrate 1 is heated at a temperature lower than the phosphorus diffusion temperature and the phosphorus is diffused in the semiconductor substrate 1. - 特許庁

次にリン拡散度よりも低い度で熱し、しかる後、これよりも高い度で熱してリンを半導体基11に拡散する。例文帳に追加

Next, the film 11 is heated at a temperature lower than the phosphorous diffusion temperature, and it subsequently is heated at a temperature higher than the phosphorous diffusion temperature to diffuse phosphorous in the semiconductor substrate 11. - 特許庁

スピンコーティング法を用いて所定の塗液が塗布された基を載置して該基熱する熱プレートを有する基熱装置であって、基外周部の基度を、基外周部より内側の基内部の基度より低くする手段を有することを特徴とする基熱装置である。例文帳に追加

A substrate heating apparatus having a heating plate on which a substrate on which a predetermined applied liquid is applied using a spin coating method is mounted to heat the substrate, has a means of lowering a substrate temperature of a substrate outer periphery below a substrate temperature of a substrate interior inside the substrate outer periphery. - 特許庁

を均一性高く熱することができ、基ごとに度を速やかに変更することができる基熱装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate heating device which is able to heat a substrate with high uniformity and to quickly change the heating temperature for each substrate. - 特許庁

をドーピングガスに露出させる間に、基を第1度から第2度まで熱してHSGシリコン膜にドーパントを追する。例文帳に追加

While the substrate is exposed to a doping gas, the substrate is heated from a first temperature to a second temperature and the dopant is added to the HSG silicon film. - 特許庁

液晶パネル1の製造時に、対向基31を、アレイ基2の被熱時の最高度と略等しい度に熱する。例文帳に追加

When manufacturing the liquid crystal panel 1, the counter substrate 31 is heated to a temperature nearly equal to the highest temperature of an array substrate 2 during heating. - 特許庁

ボンドヘッドをTmより高いボンドヘッド設定度T1に熱し、基をTmより低い基設定度T2に熱する。例文帳に追加

A bond head is heated to a bond head setting temperature T1, which is higher than Tm, and a substrate is heated to a substrate setting temperature T2, which is lower than Tm. - 特許庁

の厚みを薄くするとともに、均性や昇降度効率のよい熱媒体通流を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat medium conduction heating plate capable of reducing a thickness of the heating plate and having high temperature uniformity and temperature rising/falling efficiency. - 特許庁

電気調理器の1を度幅の狭い正確な度に制御するとともに、使用の上限度があるサーモスタットを用い、1の度をより高に設定して使用できるようにする。例文帳に追加

To set the temperature of a heating plate to a high temperature for use, using a thermostat controlling the heating plate of an electric cooker to an accurate temperature within a narrow temperature range and having the upper limit of working temperature. - 特許庁

間での深絞り性に優れた高強度鋼およびその工方法例文帳に追加

HIGH-STRENGTH STEEL SHEET EXERTING EXCELLENT DEEP DRAWABILITY AT WARM TEMPERATURES, AND METHOD FOR WARM WORKING SAME - 特許庁

雰囲気度よりした薬液を用いた場合の基処理を均一にする。例文帳に追加

To uniformize substrate treatment in the case a chemical heated to more than the atmospheric temp. is used. - 特許庁

これにより、熱される基Wと度補償リング11との度が近似するようになる。例文帳に追加

Therefore, the temperatures of the heated substrate W and ring 11 become closer to each other. - 特許庁

度測定方法、それに用いる度測定用基及びランプ熱装置の評価方法例文帳に追加

METHOD OF MEASURING TEMPERATURE AND SUBSTRATE USED THEREFOR, AND METHOD OF EVALUATING LAMP HEATING APPARATUS - 特許庁

支持部材11は蒸着時の基度の 0.5倍以上 1.3倍以下の度に熱する。例文帳に追加

The supporting members 11 are heated in the temp. range from 0.5 times to 1.3 times of the temp. of the substrate at the time of vapor deposition. - 特許庁

例文

ヒータ37,38によって昇され、その各区画室内の各基を所定度に熱処理する。例文帳に追加

A temperature is increased by heaters 37, 38, and each board in each compartment is heated to a prescribed temperature. - 特許庁

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