例文 (120件) |
厚膜試料の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 120件
膜厚測定方法及び試料作製方法、並びに、膜厚測定装置及び試料作製装置例文帳に追加
COATING THICKNESS MEASURING METHOD AND DEVICE, AND SAMPLE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE - 特許庁
そして正範囲のピークで極小を与える膜厚をその試料膜の膜厚とする(S10)。例文帳に追加
Then, the film thickness showing the minimal point with a peak in the positive range is adopted as the thickness of the sample film (S10). - 特許庁
そして、最小二乗誤差の極小点を与える膜厚をその試料膜の膜厚とする。例文帳に追加
The thickness of the film which gives the minimum point in the graph of the least square error, is regarded as the thickness of a sample film. - 特許庁
試料周りの構造が単純な装置で、蒸着による成膜中の試料膜厚を高精度かつ迅速に測定かつ制御する。例文帳に追加
To highly precisely and quickly measure and control the film thickness of a specimen in film production due to deposition by a device in which a structure around the specimen is simple. - 特許庁
分析試料を支持基板に固定した後、分析試料と支持基板表面に目的の分析深さと同等の厚さの均一な薄膜を形成し、支持基板上の薄膜が研磨される厚さまで分析試料を薄片化する。例文帳に追加
After an analytical sample is fixed to a support substrate, a uniform thin film having a thickness equal to an intended analysis depth is formed on the analytical sample and the support substrate surface, and the analytical sample is thinned up to a thickness where the thin film on the support substrate is ground. - 特許庁
CMP加工後、膜厚を計測する際、試料を移動し、移動中の試料からの反射光の分光波形を連続的に検出することにより、短時間で比較的詳細な試料面内の膜厚分布を求める。例文帳に追加
At the time of measuring the film thickness of the sample after CMP processing, the relatively detailed in-plane film thickness distribution of the sample is found in a short time by moving the sample and continuously detecting the spectroscopic waveform of reflected light from the moving sample. - 特許庁
薄膜試料の膜厚測定を精度良く行うことができる膜厚モニタおよび膜厚測定方法を提供する。例文帳に追加
To provide a film thickness monitor and a method for measuring thickness of film which can accurately measure the thickness of thin film sample. - 特許庁
面分析において、試料上に形成された薄膜の膜厚をマップ画像表示する。例文帳に追加
To display the thickness of a thin film formed on a sample as a map image in a face analysis. - 特許庁
膜厚測定に用いる標準試料中のLaを含む膜の保管時の安定性を向上させる。例文帳に追加
To improve stability of a film containing La, of a standard sample used for a film thickness measurement, during storage. - 特許庁
電子線の試料への入射エネルギーは試料の膜の厚さの2.5倍以上の飛程を有する。例文帳に追加
The impinging energy of the electron beam to the sample has a range of 2.5 times or more of the thickness of the film of the sample. - 特許庁
最小限の標準試料及び観察対象となる試料からそれぞれ得られる二次信号に関する最小限の検出結果から観察対象となる試料の膜厚を正確にかつ安定して測定することが可能な膜厚測定方法及び膜厚測定装置並びに試料作製方法及び試料作製装置を提供する。例文帳に追加
To provide a method and device for measuring a coating thickness capable of accurately and stably measuring the coating thickness of a sample to be observed from the minimum detection results related to a secondary signal obtained from the minimum standard samples and samples to be observed, and to provide a method and device for manufacturing the samples. - 特許庁
同一基板上に温度、組成、膜構成、膜厚などの製造因子が異なる微小形状試料が同時に多数形成されてなる薄膜試料において、個々の試料を切り離すことなく瞬時に微小試料の特性測定を行うことを目的とする。例文帳に追加
To instantaneously measure a characteristic of a microscopic sample without disengaging individual samples in a thin film sample simultaneously formed with a plurality of microscopic shape samples with different manufacturing factors such as temperature, composition, film composition, and film thickness on the same substrate. - 特許庁
多層薄膜が表面に形成された試料に対して、試料調整を行わず、同一元素が複数の層に含まれていても多層薄膜標準試料を用いず、試料の各層の組成と膜厚を算出する分析方法および装置を提供すること。例文帳に追加
To provide an analysis method and an analyzer for calculating the composition and thickness of each layer in a sample by neither adjusting the sample, where a multilayer thin film is formed on the surface, nor using multilayer thin-film standard samples, even if the same element is include in a plurality of layers. - 特許庁
この発明は、ファイバー試料の膜厚分布の精度を向上させることを目的としたものである。例文帳に追加
To improve the precision of the distribution of the film thickness of a fiber sample. - 特許庁
先ず未知試料表面に形成された導電性膜の厚さの近似値を求める。例文帳に追加
First, the approximate value of the thickness of the conductive film formed on the surface of an unknown sample is calculated. - 特許庁
膜厚の確率分布を求めることにより、試料膜の膜厚の均一性の評価を容易に行えるようにする。例文帳に追加
To easily evaluate uniformity of the film thickness of a sample film by finding a probability distribution of the film thickness. - 特許庁
膜厚測定用標準試料ならびにそれを使用したカーボン膜厚の測定方法及び測定装置例文帳に追加
STANDARD SAMPLE FOR MEASUREMENT OF FILM THICKNESS AND METHOD AND DEVICE FOR MEASUREMENT OF CARBON FILM THICKNESS BY USING THAT SAMPLE - 特許庁
従来方法では測定が不可能であるような薄い膜厚の試料に対する膜厚測定を高精度で行う。例文帳に追加
To measure highly accurately the film thickness relative to a sample having the thin film thickness which is impossible to be measured by a conventional method. - 特許庁
得られた膜厚分布を基に次の試料のCMP加工条件を設定することにより、CMP加工の膜厚の均一性を図れる。例文帳に追加
The thicknesses of films subjected to CMP processing can be made uniform by setting the CMP processing condition of the next sample based on the found film thickness distribution. - 特許庁
薄膜試料厚さをサブナノメートルオーダーの精度で測定することを可能とし、薄膜の各種測定結果の解析を、試料厚さを考慮して測定できる機構を提供する。例文帳に追加
To provide a mechanism capable of measuring the thickness of a thin film sample with an accuracy of subnanometer order and capable of measuring the analysis of various measuring results of a thin film, taking into consideration the thickness of the thin film sample. - 特許庁
微小な膜厚を有する解析対象膜を含む解析用試料を、その解析対象膜の結晶構造を変化させることなく高精度に形成することのできる試料作製方法を提供する。例文帳に追加
To provide a sample preparing method capable of forming an analytical sample containing a film to be analyzed having a minute film thickness without changing the crystal structure of the film to be analyzed. - 特許庁
観察対象となるモデル合金1から、透過型電子顕微鏡で観察可能な厚さまで薄膜化された薄膜試料2が作製され、薄膜試料2にマーク3の作製が行なわれる。例文帳に追加
A thin-film sample 2 thinned down to allow for observation by a transmission type electron microscope is made from a model alloy 1 to be observed, and a mark 3 is manufactured on the thin-film sample 2. - 特許庁
QCM(Quartz-Crystal Microbalance)の電極上に、物性を測定しようとする試料液体の液滴を吐出して、該試料液体による所定膜厚の液膜を形成する。例文帳に追加
On a QCM (Quartz-Crystal Microbalance) electrode, a droplet of a sample liquid for the measurement of the physical properties is discharged and a liquid film with a predetermined film thickness is formed by this sample liquid. - 特許庁
蛍光X線分析装置による固体試料の分析の際に、原子番号8以下の元素のみから構成され、膜の厚みが400μm以下である有機膜で、当該試料の表面を覆う。例文帳に追加
When the solid sample is analyzed by using the X-ray fluorescence analysis system, the surface of the solid sample is covered by an organic film with the thickness of not more than 400 μm which is composed of only elements whose atomic number is not more than eight. - 特許庁
薄膜試料の膜厚情報を簡単に得ることができて、観察及び又は分析に適した視野を迅速に選択できるようにする。例文帳に追加
To simply obtain the membrane thickness data of a membrane sample and to rapidly select a visual field suitable for observation or analysis. - 特許庁
分光器18および受光器20の出力をデータ処理用コンピュータ22で処理し、試料膜の膜厚を算出する。例文帳に追加
The outputs of the spectroscope 18 and the receiver 20 are processed by a data processing computer 22 to calculate the thickness of the sample film. - 特許庁
干渉膜厚測定装置10は白色光源12を含み、白色光源12から試料膜16に光を照射する。例文帳に追加
The interference film thickness measuring apparatus 10 includes a white light source 12 and applies light from the white light source 12 to the sample film 16. - 特許庁
過程11は、一定膜厚、一定面積の絶縁膜試料を複数用意し、それらの絶縁破壊電圧を測定する。例文帳に追加
In this predictive method, in a process 11, plural insulating film samples having a fixed thickness and a fixed area are prepared, and dielectric breakdown voltages thereof are measured. - 特許庁
積層体を長手方向に複数接続した帯状試料が、長手方向に走行する際に、該帯状試料の1層の厚さを、接続部の前後で連続的且つ正確に求め得る、簡便な膜厚測定方法および膜厚測定装置を提供する。例文帳に追加
To provide a simple film thickness measuring method and a thin film measuring device, capable of continuously and accurately finding the thickness of one layer of a strip specimen in front and in the rear of a connecting part, when the strip specimen formed by longitudinally connecting plural layered products longitudinally travels. - 特許庁
このような膜厚測定用標準試料100を用いて、Laを含む膜の膜厚の測定値を補正するステップを含む、膜厚測定方法。例文帳に追加
A method of measuring the film thickness is also provided including the step of correcting a measured value of the film thickness of the film containing La using such the standard sample for film thickness measurement 100. - 特許庁
膜厚測定装置18は、標準試料における膜厚と基板電流との関係を示す参照データを取得し、参照データを考慮して、補正された基板電流値から測定対象の薄膜の膜厚を算出する。例文帳に追加
Furthermore, the device 18 acquires a reference data that shows a relationship between film thickness and substrate current in a reference sample, takes the reference data into consideration, and calculates the film thickness of the thin film on the basis of the corrected board current value. - 特許庁
光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を従来よりも少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。例文帳に追加
To provide a thin film evaluation method capable of evaluating the thickness and/or the optical constant of a thin film in a sample with a smaller dispersion than hitherto, even when using a sample wherein the thin film is formed on a transparent polymer film having a layer functioning as an optical film. - 特許庁
光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および/または光学定数を従来よりも正確かつ少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。例文帳に追加
To provide a thin film evaluation method capable of evaluating the thickness and/or the optical constant of a thin film in a sample more accurately with a smaller dispersion than hitherto, even when using a sample wherein the thin film is formed on a transparent polymer film having a layer functioning as an optical film. - 特許庁
自己較正エリプソメータならびに組合わせシステムは、膜厚および試料により引き起こされた放射の偏光解消さなどの試料特性を測定するために用い得る。例文帳に追加
The self-calibrating ellipsometer and the combined system may be used for measuring sample characteristics such as film thickness and depolarization of radiation caused by the sample. - 特許庁
TEM観察に用いる薄膜部の厚さが極めて薄くても試料本来の構造を示す明確なTEM像が得られるTEM試料の作製方法を提供する。例文帳に追加
To provide a preparing method of a TEM sample capable of acquiring a clear TEM image showing the intrinsic structure of the sample even if the thickness of a membrane part used for TEM observation is extremely thin. - 特許庁
次に、試料20の裏面側を研磨してX線が透過する厚さにした後、試料20の裏面にAu等の金属からなるX線吸収膜23を形成する。例文帳に追加
Then, the back surface side of the sample 20 is polished to provide a thickness through which X-rays is transmitted, then an X-ray absorption film 23 made of metal such as Au is formed on the back surface of the sample 20. - 特許庁
CMP加工後、膜厚を計測し面内膜厚分布を求める際、試料上の測定個所及び、特定パターンの位置決めすることなしに高速に膜厚分布を求める。例文帳に追加
To find the film thickness distribution of a sample at a high speed without positioning points of measurement and a specific pattern on the sample in finding the in-plane film thickness distribution of the sample by measuring the film thickness of the sample after CMP processing. - 特許庁
生産ラインに組込むことができ、インラインで試料の全数の検査および管理を自動で行うことができる膜厚モニターを提供する。例文帳に追加
To perform 100% in-line inspection and management of sample by incorporating a film thickness monitor in a production line. - 特許庁
その状態で所定のサイズ(例えば、2μm×10μm)の試料片に切り取ってそれを薄膜化処理(例えば、0.1μm厚)する。例文帳に追加
A sample piece of a predetermined size (for example, 2 μm×10 μm) is cut in that state, and is thinned (for example, 0.1 μm thick). - 特許庁
筐体側面にスリットを持つ蛍光X線膜厚計において、高さのある試料であってもX線が漏れること無く測定できるようにする。例文帳に追加
To measure a thick sample which a certain height without any leakage of an X-ray in a fluorescence X-ray film thickness meter having a slit on a casing side face. - 特許庁
格子定数及び膜厚について高精度かつ迅速な測定を実現し得る、試料の評価方法及び評価装置を得る。例文帳に追加
To obtain the subject method and apparatus capable of rapidly measuring a lattice constant and film thickness with high accuracy. - 特許庁
試料の測定対象領域に亘って各層の膜厚または光学定数を容易に算出することが可能な光学測定装置を提供する。例文帳に追加
To provide an optical measuring device capable of calculating easily a film thickness or an optical constant of each layer over a measuring object domain of a sample. - 特許庁
前記第1試料Tは、前記膜厚測定器12、光沢測定器14、接触角測定器16、色測定器18による測定に供される。例文帳に追加
The first sample T is used for measurement by a film thickness measuring instrument 12, a gloss measuring instrument 14, a contact angle measuring instrument 16 and a color measuring instrument 18. - 特許庁
長尺帯状や長大な検査試料に対して簡単な構成で容易に且つ正確に膜厚を測定する。例文帳に追加
To easily and accurately measure a film thickness of a long strip-like or long-and-large inspecting sample, by simple constitution. - 特許庁
試料に交流電圧を長時間連続的に印加すると、試料に連続的に渦電流が発生し、その渦電流によるジュール損失により試料の温度が上昇してしまい、所望の温度条件下での試料の電気特性が計測できず、膜厚、傷といった物理的状況の同定にも誤差が生じる。例文帳に追加
To solve the problem that an eddy current is continuously produced in the sample and causes the temperature of the sample to be raised by the Joule loss due to the eddy current if AC voltage is continuously applied to a sample for a long time, and that the electric characteristics of the sample cannot be measured under a desired temperature condition and an error is produced even in the identification of a physical state such as film thickness or a crack. - 特許庁
ポリエステルフィルム11に導電性薄膜が形成された検査試料に対して当該導電性薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置である。例文帳に追加
This film thickness measuring instrument is constituted to measure the film thickness of a conductive thin film in the inspecting sample formed with the conductive thin film on a polyester film 11. - 特許庁
金属膜6の膜厚は、上記検出対象を含まない試料14を接触させた金属膜6に対する光ビーム13の反射率の最小値が最小となる膜厚dより薄い。例文帳に追加
The thickness of the metal film 6 is thinner than the film thickness d by which the minimum value of the reflection coefficient of the light beam 13 against the metal film in contact with the sample 14 containing no detection target is minimum. - 特許庁
又、ウェハにおけるチップのように試料上の局所的領域でパターンの密度等による膜厚分布が生じる場合、区分領域毎に分光波形を連続的に検出し、その区分領域を代表する膜厚値を求め、区分領域の膜厚を基に試料全面の膜厚分布を求める。例文帳に追加
When a film thickness distribution is caused by the density etc., of a pattern in a local area on the sample like a chip on a wafer, the film thickness distribution on the whole surface of the sample is found based on the film thicknesses of divided areas by finding the film thickness values representing the divided areas by continuously detecting the spectroscopic waveform at every divided area. - 特許庁
異方性を有する試料薄膜について、異方性部分の誘電率、膜厚及び主誘電率座標の方向、等方性部分の誘電率及び膜厚を高速で決定する。例文帳に追加
To determine the dielectric constant, film thickness and the direction of the main dielectric constant coordinates of an anisotropic portion and the dielectric constant and film thickness of an isotropic portion for an anisotropic sample thin film at a high speed. - 特許庁
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