例文 (738件) |
窒化ふん囲気の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 738件
窒化ケイ素粉末と窒化鉄粉末とを含む混合粉末を成形し、非酸化性雰囲気下で焼成する窒化ケイ素質多孔体の製造方法。例文帳に追加
This method for producing a silicon nitride-based porous body comprises forming a mixed powder containing a silicon nitride powder and an iron nitride powder and firing the formed body under a non-oxidizing atmosphere. - 特許庁
RTA処理は窒化雰囲気または酸化性雰囲気中で行うことが望ましい。例文帳に追加
The RTA process is preferably executed in a nitriding atmosphere or an oxidizing atmosphere. - 特許庁
第1の濃度範囲の窒化ガス雰囲気で窒化処理を施し、その後、それよりも低濃度である第2の濃度範囲の窒化ガス雰囲気で窒化処理を施す。例文帳に追加
After carrying out nitriding treatment in a nitrogen gas atmosphere within a first concentration range, another nitriding treatment is carried out in a nitrogen gas atmosphere within a second concentration range which is lower than the first. - 特許庁
「酸窒化鉄」とは、鉄を酸素、並びに窒素を含む気体雰囲気中で加熱溶融して得られるものをいう。例文帳に追加
The "iron oxynitride" comprises substance obtained by fusing iron in gaseous atmosphere containing oxygen and nitrogen. - 特許庁
酸化および還元雰囲気中で窒素酸化物を還元する触媒例文帳に追加
CATALYST FOR OXIDIZING NITROGEN OXIDE IN OXIDATIVE AND REDUCTIVE ATMOSPHERE - 特許庁
また、さらには上記溶接管を窒素ガス雰囲気または酸化雰囲気で加熱して軽窒化または軽酸化の熱処理を実施するものである。例文帳に追加
Furthermore, the heat treatment for mild nitriding or mild oxidation is carried out by heating the welded pipe in a gaseous nitrogen atmosphere or an oxidizing atmosphere. - 特許庁
また、さらには上記溶接管を窒素ガス雰囲気または酸化雰囲気で加熱して軽窒化または軽酸化の熱処理を実施するものである。例文帳に追加
The welded pipe may be heated in a nitrogen gas atmosphere or an oxidation atmosphere for light nitriding or light oxidation. - 特許庁
好ましくは、紫外線硬化型樹脂を塗布するときに、雰囲気を窒素雰囲気とする。例文帳に追加
Preferably, atmosphere is set to a nitrogen atmosphere, when the ultraviolet-curing type resin is to be coated. - 特許庁
非酸化性雰囲気としては、Arガスあるいは窒素ガスからなる雰囲気とすることが好ましい。例文帳に追加
It is preferable that the non-oxidizing atmosphere is an atmosphere consisting of argon gas or nitrogen gas. - 特許庁
還元雰囲気では金属微粒子が、酸化雰囲気では金属酸化物微粒子が、還元雰囲気かつ窒化雰囲気で金属窒化物微粒子が得られる。例文帳に追加
In a reducing atmosphere, metal particulates can be obtained, in an oxidizing atmosphere, metal oxide particulates can be obtained, and, in a reducing-nitriding atmosphere, metal nitride particulates can be obtained. - 特許庁
また、上記の酸化物薄膜は好ましくは窒素雰囲気中で成膜される。例文帳に追加
In this case, the oxide thin film is formed desirably in a nitrogen atmosphere. - 特許庁
Ti膜及び貴金属膜を窒化雰囲気中で熱処理を行う。例文帳に追加
The Ti film and the noble metal film are heat-treated in nitriding atmosphere. - 特許庁
非酸化性雰囲気は窒素ガスを含有するものであることが好ましい。例文帳に追加
It is preferable that gaseous nitrogen is contained in the non-oxidizing atmosphere. - 特許庁
(c)工程bの後、第1の絶縁膜を窒化性雰囲気に晒す。例文帳に追加
(c) The first insulating film is exposed to a nitrogenous atmosphere after a process (b). - 特許庁
窒化処理温度への昇温過程で、かつ、硫化水素を含む窒素ガス雰囲気中で不動態被膜を有する鋼材を加熱して硫化処理した後、窒化雰囲気中で所定時間加熱保持して窒化処理する。例文帳に追加
In a temp. rising stage to a nitriding treating temp. and also in a gaseous nitrogen atmosphere contg. hydrogen sulfide, steel having a passive film is heated, is subjected to sulfurizing treatment, is thereafter held under heating for a prescribed time in a nitriding atmosphere and is subjected to nitriding treatment. - 特許庁
窒素ガス雰囲気中で珪素粉末を加熱することにより窒化珪素ナノワイヤーを合成し、窒素ガス及びアンモニアガスの混合ガス雰囲気中で、ホウ素と窒素と酸素とから成る化合物及び酸化ホウ素の混合物を加熱することによって、窒化珪素ナノワイヤーを窒化ホウ素ナノシートで被覆する。例文帳に追加
The silicon nitride nano-wire is synthesized by heating silicon powder in a nitrogen gas atmosphere, and the silicon nitride nano-wire is coated with the silicon nitride nano-sheet by heating a mixture of a compound composed of boron, nitrogen and oxygen and boron oxide in a mixed gas atmosphere of gaseous nitrogen and gaseous ammonia. - 特許庁
本発明の窒化アルミニウムの製造方法は、アルミニウム粉末を460℃以上の窒素ガス雰囲気中に10分以上保持しアルミニウム粉末に窒素を吸蔵させる窒素吸蔵工程と、窒素を吸蔵したアルミニウム粉末を窒素ガス圧が80〜300KPaの範囲の窒素ガス雰囲気中に保持しつつ、500〜1000℃で窒化反応を進める窒化工程と、を有することを特徴とする。例文帳に追加
The method for producing aluminum nitride has a nitrogen occluding step in which aluminum powder is held in an atmosphere of gaseous nitrogen at ≥460°C for ≥10 min to occlude nitrogen in the aluminum powder and a nitriding step in which a nitriding reaction is made to proceed at 500-1,000°C while holding the nitrogen occluded aluminum powder in an atmosphere of gaseous nitrogen under 80-300 kPa pressure of gaseous nitrogen. - 特許庁
窒素雰囲気下で、金属リチウムを切削具を用いて切削しながら窒化反応を行わせる工程を有する粒状窒化リチウムの製造方法。例文帳に追加
The method for manufacturing granular lithium nitride comprises a process in which nitride reaction is carried out while metallic lithium is cut with a cutting tool under nitrogen atmosphere. - 特許庁
このようにして、成型体13を窒素雰囲気中で焼結して、窒化チタン部材(窒化金属部材)14を形成する。例文帳に追加
The formed body 13 is sintered in a nitrogen atmosphere in this way to form the titanium nitride member (metallic nitride member ) 14. - 特許庁
試料をグローブボックス1内で、高純度の窒素雰囲気中にさらし、窒素と常温で反応させることによって窒化リチウムを生成させる。例文帳に追加
The sample is exposed to the high-purity nitrogen atmosphere in the glove box 1, thereby producing the lithium nitride through reacting with the nitrogen at a normal temperature. - 特許庁
その後、酸化雰囲気中にて、熱処理をすることで、窒化膜4上に熱酸化膜5を形成する。例文帳に追加
A thermal oxide film 5 is formed on the nitride film 4 by conducting heat treatment under an oxidation atmosphere. - 特許庁
アルミニウム塩と窒素化合物との混合物を非酸化性雰囲気下で加熱する窒化アルミニウム系粉末の製造方法。例文帳に追加
The aluminum nitride base powder is manufactured by heating a mixture of an aluminum salt and a nitrogen compound under a non-oxidizing atmosphere. - 特許庁
窒化アルミニウムの素材を窒素ガス雰囲気中で1100乃至1200℃の温度に昇温した後、雰囲気を酸化性雰囲気に変更して前記素材の表面に酸化膜を生成する。例文帳に追加
An oxide film is formed on the surface of a base material of aluminum nitride by heating the base material of aluminum nitride to 1,100-1,200°C under a gaseous nitrogen atmosphere and after that, changing the atmosphere to an oxidative atmosphere. - 特許庁
又は、窒化アルミニウムの素材を窒素ガス雰囲気中で1100℃以上の温度に昇温した後、雰囲気を酸化性雰囲気に変更して1100乃至1200℃の温度で前記素材の表面に酸化膜を生成する。例文帳に追加
Or the oxide film is formed on the surface of the base material of the aluminum nitride by heating the base material of the aluminum nitride to ≥1,100°C under the gaseous nitrogen atmosphere and after that, changing the atmosphere to the oxidative atmosphere and treating at 1,100-1,200°C. - 特許庁
金属クロム粉または窒化クロム粉を、常圧下、窒素雰囲気下で加熱処理する際に、加熱温度を1050℃未満、または1050℃以上〜1500℃以下に制御し、また加熱処理後の冷却雰囲気を窒素雰囲気または非窒素雰囲気に調整することによって、窒素含有量の異なる窒化クロム粉を製造する。例文帳に追加
The chromium nitride powder having a difference in nitrogen contents is manufactured by controlling the heating temperature to <1050°C or ≥1050°C to ≤1500°C at the time of heating metal chromium powder or chromium nitride powder under a normal pressure and a nitrogen atmosphere and adjusting the cooling atmosphere after heating to a nitrogen atmosphere or a non-nitrogen atmosphere. - 特許庁
雰囲気空気中等に含まれる低濃度の窒素化合物を、迅速に精度よく測定する。例文帳に追加
To quickly and precisely measure a nitrogen compound of low concentration contained in the atmospheric air. - 特許庁
前記シリコン窒化膜を有する半導体基板をアンモニア(NH_3)気体雰囲気で熱処理して前記シリコン窒化膜内の不純物を除去する。例文帳に追加
The semiconductor substrate, comprising the silicon nitride film, is heat-treated in ammonia (NH_3) gas atmosphere, and impurities are removed. - 特許庁
窒化雰囲気をアンモニア0.5〜50%、窒素20%以上、水素1.0%以上とし、窒化温度を580〜700℃、露点を−10℃以上とし、窒化中においてFe窒化物の形成を抑制しフェライト相およびオーステナイト相であるFeとの窒化反応により窒化を進行させる方法。例文帳に追加
The method makes a nitriding atmosphere comprise 0.5-50% ammonia, 20% or more nitrogen, and 1.0% or more hydrogen, controls a nitriding temperature to 580-700°C and a dew point to -10°C or higher, and proceeds nitriding by a nitriding reaction of Fe in a ferrite phase and an austenite phase, while preventing the surface part from forming nitrides of Fe during nitriding. - 特許庁
また、その製造方法は、酸化雰囲気中または窒化雰囲気中または酸化且つ窒化雰囲気中で加熱して酸化膜または窒化膜を表面に形成したチタン材を曲げあるいは引っ張った後に、金属チタンが可溶な酸水溶液で溶削することを特徴とする。例文帳に追加
Also, in the production method thereof, the titanium material formed with the oxide film or the nitride film on the surface by heating the material in an oxidizing atmosphere or nitriding atmosphere or in the oxidizing/nitriding atmosphere is bent and drawn, and then dissolved/shaved off with an aqueous acid solution in which metal titanium is soluble. - 特許庁
窒化処理は、時効処理後直ちに、リング4を予め窒化処理温度に加熱されたアンモニアガス雰囲気下またはアンモニアガスとRXガスとの混合雰囲気下、該窒化処理温度に所定時間保持して行う。例文帳に追加
The nitriding treatment is executed in such a manner that, directly after the aging treatment, the rings 4 are held in an atmosphere of gaseous ammonia previously heated to a nitriding temperature or in a mixed atmosphere of gaseous ammonia and gaseous RX under holding to the nitriding temperature for a prescribed time. - 特許庁
この窒化アルミニウム焼結体は、炭素繊維と窒化アルミニウムを混合し、混合粉を得た後、これを成形し、さらにこの成形体を真空雰囲気、不活性雰囲気または還元雰囲気で加熱し、焼成を行うことで得られる。例文帳に追加
It is obtained by mixing the carbon fiber and aluminum nitride to obtain a mixed powder, molding the resulting mixed powder, and heating this molded body in a vacuum atmosphere, an inert atmosphere, or a reducing atmosphere to sinter it. - 特許庁
リッチ定常雰囲気下でのNO_x(窒素酸化物)浄化能を向上させる。例文帳に追加
To improve a NOx (nitrogen oxides) purifying capacity under a richly stationary atmosphere. - 特許庁
鋼を窒化処理した後、酸素を含む雰囲気中で加熱する不動態化処理を施す。例文帳に追加
After subjected to nitriding, steel is subjected to a passivation treatment by heating in an oxygen-containing atmosphere. - 特許庁
一方、アンモニア雰囲気下でのアニールを行うことにより、窒化チタン膜16aが低抵抗化される。例文帳に追加
By performing the annealing under the ammonia atmosphere, the titanium nitride film 16a is reduced in resistance. - 特許庁
リッチ定常雰囲気下でのNO_x(窒素酸化物)浄化能を向上させる。例文帳に追加
To provide a catalyst for cleaning a gas, whose capacity for removing NOx (nitrogen oxides) in an atmosphere of a rich steady-state air-fuel ratio is improved. - 特許庁
加熱炉2に窒素ガスを導入して非酸化性雰囲気とし、スチール缶を非酸化性雰囲気で550〜600℃に加熱する。例文帳に追加
A nitrogen gas is introduced to a heating furnace 2 to create a non-oxidizing atmosphere, and the steel can is heated in the non-oxidizing atmosphere at 550-600°C. - 特許庁
三酸化二ガリウムを、アンモニアガス雰囲気下で窒化反応させることを特徴とする窒化ガリウムの製造方法。例文帳に追加
In the method for producing gallium nitride, digallium trioxide is brought into a nitriding reaction in an atmosphere of gaseous ammonia. - 特許庁
アンモニア(NH_3)雰囲気中での窒化反応が金属珪酸化物のシリコン組成により異なることを利用して、絶縁膜の選択窒化を行う。例文帳に追加
Using a fact that nitriding reaction in an ammonia (NH_3) atmosphere is different depending on a silicon composition of a metal silicate, selective nitriding of the insulation film is conducted. - 特許庁
硫酸ミストを含む雰囲気4に、二酸化窒素NO_2 や三酸化窒素NO_3 などを添加することによって、伝熱管3の表面は不働態化される。例文帳に追加
The surface of the heat transfer tube 3 is passivated by adding nitrogen dioxide NO2 or nitrogen trioxide NO3. - 特許庁
次の方法ステップ:加工品を処理チャンバに導入するステップであって、処理チャンバがガス雰囲気の生成及び維持のために処理チャンバに流体を供給するための、特に水及びガスを供給するための、ガス供給手段を含むステップ;窒素及び/又は酸素ガス雰囲気内で、特に窒素ガス雰囲気内で、加工品を昇温させるステップ;第1窒化段階(N1)の間に加工品を窒化するステップ;第1窒化段階(N1)の後の第2窒化段階(N2)において窒化を継続するステップ;を含み、本発明によれば、ガス雰囲気のアンモニア含量が第1窒化段階(N1)及び/又は第2窒化段階(N2)において減らされる。例文帳に追加
The ammonium content in the gas atmosphere is reduced in the first nitriding stage (N1) and/or the second nitriding stage (N2). - 特許庁
本発明の窒化アルミニウムの製造方法は、アルミニウム粉末を窒素ガス圧が103〜200KPaの窒素ガス雰囲気中に保持し、500〜1000℃で窒化反応を進行させる窒化アルミニウムの製造方法であって、アルミニウム粉末が浮遊した状態で窒化反応を完結させることを特徴とする。例文帳に追加
The manufacturing method of aluminium nitride comprises holding aluminium powder in a nitrogen atmosphere having a nitrogen pressure of 103-200 KPa, and proceeding a nitriding reaction at 500-1,000°C, wherein the nitriding reaction is finished in a state where the aluminium powder is suspended. - 特許庁
最終焼鈍に際し、窒素ガスを含む雰囲気で加熱を行い、雰囲気中の窒素と基地のアルミニウムとを反応させて酸化皮膜中に窒化アルミニウムを形成する。例文帳に追加
At a final annealing, heating is performed in an atmosphere containing a nitrogen gas, and nitrogen in the atmosphere reacts with underlying aluminum to form the aluminum nitride in the oxide film. - 特許庁
不活性ガス雰囲気が、希ガス、二酸化炭素及び窒素から選ばれたガスの雰囲気であり、還元性雰囲気が、水素、一酸化炭素及び低級アルコールから選ばれたガスの雰囲気である。例文帳に追加
The inert gas atmosphere is an atmosphere of a gas chosen from a noble gas, carbon dioxide, and nitrogen, and the reducing atmosphere is an atmosphere of a gas chosen from hydrogen, carbon monoxide, and lower alcohol. - 特許庁
硝酸態窒素排水(2)は、アンモニア態窒素排水(4)を好気性雰囲気下に硝化細菌(5)と接触させ、該硝化細菌(5)に前記アンモニア態窒素排水(5)中のアンモニア態窒素を硝化させて得ることができる。例文帳に追加
The nitrate nitrogen wastewater (2) can be obtained by bringing ammonia nitrogen wastewater (4) into contact with the nitrifying bacterial (5) under an aerobic atmosphere and nitrifying ammonia nitrogen in ammonia nitrogen wastewater (4) by the nitrifying bacterial (5). - 特許庁
アンモニアガス雰囲気下または窒素ガス雰囲気下で、密封容器内に、粉砕用ボールと、所定の金属を含む金属酸化物から成る化合物の粉末と、アルカリ金属の窒化物の粉末とを封入する。例文帳に追加
Balls for pulverization, the powder of a compound composed of a metal oxide including a prescribed metal and the powder of the nitride of an alkali metal are sealed into a sealing vessel in an ammonia gas atmosphere or in a nitrogen gas atmosphere. - 特許庁
本発明の窒化アルミニウムの製造方法は、窒化反応が進行するときに窒素ガス雰囲気中に反応抑制ガスが含まれることとなり、窒化反応の進行が抑制され、低温で窒化反応を進行させることができるため、微細な粒径の窒化アルミニウム粉末を製造することができる。例文帳に追加
In this method of manufacturing the aluminum nitride, the reaction suppressing gas is eventually included in the gaseous nitrogen atmosphere during the progression of the nitriding reaction, by which the progression of the nitriding reaction is suppressed and the progression of the nitriding reaction at a low temperature is made possible and therefore the aluminum nitride powder of the fine grain sizes can be manufactured. - 特許庁
雰囲気16の二酸化炭素濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気15の二酸化炭素濃度よりも低く、かつ雰囲気16の窒素酸化物濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気15の窒素酸化物濃度よりも低く、かつ雰囲気16の水蒸気の濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気15の水蒸気の濃度よりも低い。例文帳に追加
The concentration of carbon dioxide in the atmosphere 16 is lower than that in an atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent, the concentration of nitrogen oxides in the atmosphere 16 is lower than that in the atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent, and the concentration of water vapor in the atmosphere 16 is lower than that in the atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent. - 特許庁
その後、酸窒化珪素膜61が堆積された炭化珪素基体10を窒化処理反応炉に導入し、窒素酸化物ガス雰囲気中で窒化処理を行う。例文帳に追加
Then, the silicon carbide base substance 10, on which the silicon oxynitride film 61 is deposited, is introduced in a nitriding process reaction furnace, and is subjected to a nitriding process in an atmosphere of nitrogen oxide gas. - 特許庁
これにより窒化チタン10の表面が強化され、窒化シリコン12形成後の酸素雰囲気中での熱処理でのストレスに対して、窒化シリコン12及び金属配線最上層の窒化チタン10のはがれを防ぐことができる。例文帳に追加
Thus, the surface of the titanium nitride 10 is strengthened and releasing of a silicon nitride 12 and the titanium nitride 10 at a metal wiring top layer is prevented under the stress of thermal process in the oxidizing atmosphere after the silicon nitride 12 is formed. - 特許庁
本発明の窒化処理方法は、窒素が含まれるガス雰囲気中で焼結体を陰極としてグロー放電を生じさせる窒化処理方法において、窒素が含まれるガス雰囲気を構成する窒素を有するガスのガス分圧が150Pa以下であることを特徴とする。例文帳に追加
In the nitriding method in which glow discharge is generated within a gas atmosphere including nitrogen by employing a sintered material as a cathode, the nitriding method of the invention is characterized in that the gas partial pressure of nitrogen-including gas, which forms the gas atmosphere including nitrogen, is equal to or less than 150 Pa. - 特許庁
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