「自然酸化～」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ＨＣｌ溶液中で、Ｃｕ層上に存在する自然酸化物を除去する。例文帳に追加

A natural oxide present on a Cu layer is removed in HCl solution. - 特許庁

自然酸化膜の除去方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

NATURAL OXIDE FILM REMOVING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

溶存酸素濃度が極めて小さいので、自然酸化が生じない。例文帳に追加

Since the dissolved oxygen concentration is considerably low, natural oxidation can be prevented. - 特許庁

自然酸化物層が自然生成された半導体基板を、炉内またはＲＴＯ室（急速熱酸化室）に入れ、高温水素ガスを室内に導入して自然酸化物層を脱酸する。例文帳に追加

A semiconductor substrate 100, wherein a natural oxide layer 102 is naturally generated is put in a furnace or an RTO chamber (rapid thermal oxidation chamber) and a hot hydrogen gas is introduced into the chamber so that the natural oxide layer 102 is deoxidized. - 特許庁

この酸化膜の厚みは、自然酸化膜よりは大きく８０ｎｍ以下の範囲である。例文帳に追加

The oxide film is thicker than a native oxide but not thicker than 80 nm. - 特許庁

自然酸化膜を除去したウェーハの炉外への取り出しによる自然酸化膜の再形成を防ぎ、しかも自然酸化膜に含まれた不純物に起因する酸化膜の面内膜厚均一性の低下を解消する半導体ウェーハの酸化膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an oxide film on a semiconductor wafer preventing the reformation of a natural oxide film due to an extraction to the outside of the oven of the wafer from which the natural oxide film is removed, and solving the deterioration of the in-plane film-thickness uniformity of the oxide film resulting from impurities contained in the natural oxide film. - 特許庁

水系に浸漬した金属の自然電位を測定する第１自然電位測定工程と、該第１自然電位測定工程において測定した前記自然電位に基づいて、前記水系に酸化剤を発生させる酸化剤発生工程と、を少なくとも行う水系における酸化剤濃度の制御方法を提供する。例文帳に追加

The method of controlling the concentration of the oxidizing agent in the water base includes at least: performing a first natural potential measuring step of measuring the natural potential of a metal dipped in the water base; and performing an oxidizing agent generating step of generating the oxidizing agent in the water base. - 特許庁

金属の自然電位は、酸化剤濃度と正の相関性を有するため、金属の自然電位を測定し、この自然電位を一定に保つことで、酸化剤濃度を所定の範囲に制御することが可能である。例文帳に追加

The natural potential of the metal has a positive correlation with the concentration of the oxidizing agent and then, the concentration of the oxidizing agent is controllable in a prescribed range by measuring the natural potential of the metal and keeping the natural potential constant. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。例文帳に追加

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer. - 特許庁

このようにすると、シリコン酸化膜３ａの下には自然酸化膜がほとんど存在しない為、シリコン酸化膜３ａの膜質が向上する。例文帳に追加

Since the native oxide layer hardly exist under the silicon oxide film 3a, film quality of the silicon oxide film 3a is enhanced. - 特許庁

酸化処理前における基板表面の初期酸化を抑えることができるとともに、自然酸化膜を除去できるようにする。例文帳に追加

To remove a naturally oxidized film and to suppress initial oxidization of a substrate surface before oxidization processing. - 特許庁

その結果、ウェーハの炉外取り出しによる自然酸化膜の再形成を防ぎ、この自然酸化膜に含まれる不純物に起因した酸化膜の面内膜厚均一性の低下を解消できる。例文帳に追加

Consequently, the reformation of the natural oxide film due to the extraction to the oven of the wafer is prevented, and the deterioration can be solved in the in-plane film-thickness uniformity of the oxide film resulting from impurities contained in the natural oxide film. - 特許庁

黄鉄鉱の酸化と石膏生成プロセスが長期間起こり続けると考えるのが自然だ。例文帳に追加

It is reasonable to expect that the process of pyrite oxidation and gypsum formation will continue to occur for a long time period. - 英語論文検索例文集

再生不可能で、自然保護や二酸化炭素排出から問題視されている。例文帳に追加

Therefore, it is unrenewable and seen as an issue from the viewpoints of environmental protection and CO2 emissions.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

還元剤、活性水素の存在により金属薄膜に自然酸化を生じさせない。例文帳に追加

With the presence of a reductant or active hydrogen, natural oxidation of the metal film can be prevented. - 特許庁

前述の構成によれば、ＳｉＧｅ結晶膜４ａがＳｉ結晶膜４ｂの自然酸化を抑制する。例文帳に追加

Thus, the SiGe crystal film 4a suppresses the natural oxidization of the Si crystal film 4b. - 特許庁

二次元酸化物自然超格子を用いた熱電材料とその熱電特性の調整方法例文帳に追加

THERMOELECTRIC MATERIAL USING TWO-DIMENSIONAL OXIDE NATURAL SUPERLATTICE, AND METHOD FOR ADJUSTING ITS THERMOELECTRIC CHARACTERISTIC - 特許庁

プラズマ中に生じたカチオン種はウェハＷ上に供給され、自然酸化膜が除去される。例文帳に追加

Cation seeds generated in plasma are supplied on wafer W, and natural oxide film is removed. - 特許庁

その後、下部電極表面に自然酸化膜の発生を阻止するための表面処理を行う。例文帳に追加

After that, a surface treatment for preventing generation of a natural oxide film is performed on the surface of the electrode 40. - 特許庁

自然酸化法を用いて、酸素界面活性層を含むＭｇＯトンネルバリア層を形成する。例文帳に追加

An MgO tunnel barrier layer is formed by using natural oxidation, the barrier layer containing an oxygen surfactant layer. - 特許庁

自然酸化膜除去機能を備えたＣＶＤ設備、及び同ＣＶＤ設備を利用した薄膜形成方法例文帳に追加

CVD FACILITY HAVING FUNCTION OF REMOVING NATURAL OXIDE FILM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD UTILIZING CVD FACILITY - 特許庁

ガス導入で基板Ｗ上の自然酸化膜が最終生成物に変化する。例文帳に追加

A natural oxide film on the substrate W changes into a final product by gas introduction. - 特許庁

ＭｇＯ層２６は、下部Ｍｇ層２５の表面を自然酸化させて形成する。例文帳に追加

The MgO layer 26 is formed by naturally oxidizing a surface of the lower Mg layer 25. - 特許庁

ＴｉＮ膜と半導体基板１００界面との反応を起こさせて自然酸化膜を還元する。例文帳に追加

A reaction between the TiN film and the interface of the silicon substrate 100 occurs, resulting in the reduction of the natural oxide film. - 特許庁

装置内搬送期間に基板が自然酸化膜等により汚染されてしまうことを防止する。例文帳に追加

To prevent substrates from being contaminated with natural oxide films, etc., while the substrates are transferred in a substrate treating device. - 特許庁

自然酸化膜除去工程を経て、処理Ｓ１０３の酸素のイオン注入工程に移行する。例文帳に追加

A natural oxide film removing process is applied and, thereafter, the process is shifted to an oxygen ion pouring process of a treatment S103. - 特許庁

酸化ウランと珪酸塩の粘着性のオレンジ色の混合物で、瀝青ウラン鉱の水和と酸化で自然に発生する例文帳に追加

a gummy orange mixture of uranium oxides and silicates occurring naturally in the hydration and oxidation of pitchblende  - 日本語WordNet

また、前記酸化工程は、酸素を含む雰囲気中で、自然酸化、加熱、放電により行なうことを特徴とする。例文帳に追加

The oxidation process is carried out through natural oxidation, heating, and electrical discharge in an oxygen-containing atmosphere. - 特許庁

シリコン基板１０上に、自然酸化膜１３と酸化ハフニウム１４とにより構成されるゲート絶縁膜を形成する。例文帳に追加

A gate insulating film constituted of a natural oxide film 13 and a hafnium oxide 14 is formed on a silicon substrate 10. - 特許庁

次いで自然酸化膜２をバッファードフッ酸等を用いたウエット処理により除去し、このとき同時に上記金属酸化物を除去する。例文帳に追加

Then the natural oxide film 2 is removed in a wet process, which uses a buffered hydrofluoric acid, etc., while the metal oxide is removed at the same time. - 特許庁

これにより、自然酸化膜であるシリコン酸化膜を、２つの処理装置を用いることなく１つの処理装置で効率的に除去する。例文帳に追加

Thereby, the silicon oxide film being a natural oxide film is efficiently removed by one processing device without using two processing devices. - 特許庁

自然酸化物による悪影響を取り除いた信頼性の高いゲート酸化膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a gate oxide film of high reliability, wherein adverse effects from a natural oxide are eliminated. - 特許庁

表面に自然酸化膜が存在しない状態でアモルファス酸化シリコン層をエキシマレーザアニールできる。例文帳に追加

The amorphous silicon oxide layer may be annealed with the excimer laser under the condition that the naturally oxidized film does not exist on the surface. - 特許庁

自然酸化膜を形成させず、漏れ電流を抑制する陽極酸化膜の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an anodic oxidation film, in which leakage current is suppressed while preventing formation of a natural oxidation film. - 特許庁

半導体基板の自然酸化膜などの酸化膜を除去する方法及びこれに用いられる半導体製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of removing an oxide film such as a natural oxide film or the like on a semiconductor substrate, and a semiconductor manufacturing device used for it. - 特許庁

アモルファス酸化シリコン層をフッ酸洗浄して表面の自然酸化膜を除去する必要がない。例文帳に追加

It is no longer required to remove the naturally oxidized film on the surface by cleaning the amorphous silicon oxide film with hydrofluoric acid. - 特許庁

この場合、シリコン酸化膜３ａを形成する工程は、自然酸化膜１０を除去する工程と同一の装置内で行われるのが好ましい。例文帳に追加

The step for forming a silicon oxide film 3a and the step for removing a native oxide layer 10 are preferably carried out in the same equipment. - 特許庁

酸化前処理工程で、シリコンウェーハをアルゴンガスの雰囲気で熱処理し、自然酸化膜を除去する。例文帳に追加

In an oxidation pre-treatment process, the silicon wafer is treated thermally in the atmosphere of an argon gas, and the natural oxide film is removed. - 特許庁

次に、希フッ酸による洗浄を行い自然酸化膜を除去した後オゾン水によって洗浄を行い表面に酸化膜１６を形成する。例文帳に追加

Then, after removing a natural oxide film by washing the substrate with dilute fluorinated acid, the substrate is washed with ozone water to form an oxide film 16 on the surface. - 特許庁

ストッカ等の半導体デバイス保管装置について、自然酸化膜防止対策を施し、半導体デバイスの自然酸化を抑制することを目的とする。例文帳に追加

To restrain natural oxidation of a semiconductor device by taking a natural oxide film preventive countermeasure in a semiconductor device storage device such as a stocker. - 特許庁

電子冷却素子５０では、Ｎ型シリコン基板５１の表面に自然酸化膜５２が形成されており、自然酸化膜５２上に金属膜５３が形成されている。例文帳に追加

In the electronic cooling element 50, the natural oxidation film 52 is formed on the n-type silicon substrate 51, and the metal film 53 is formed on the natural oxidation film 52. - 特許庁

自然酸化膜下に位置する半導体基板や金属膜がオーバエッチングされず、位置によって厚みの異なる自然酸化膜を良好に除去できる半導体装置の提供。例文帳に追加

To provide a semiconductor device by which a natural oxide film having different thicknesses by position can be removed well without over-etching a semiconductor substrate and a metal film positioned under the natural oxide film. - 特許庁

処理ユニットは、金属の自然酸化膜を溶解可能な薬液を用いたウェットエッチングユニット１４、あるいは、金属の自然酸化膜を還元可能またはエッチング可能なガスを用いたドライエッチングユニット２０６とする。例文帳に追加

The processing unit is a wet etching unit 14 using a chemical liquid capable of dissolving the native oxide of the metal or a dry etching unit 206 using a gas capable of reducing or etching the native oxide of the metal. - 特許庁

洗浄装置２では、例えば、ＤＨＦやＢＨＦといった自然酸化膜を除去可能な薬液洗浄によって、ウエハ表面の自然酸化膜が除去される。例文帳に追加

In the cleaning device 2, a natural oxide film on the surface of the wafer is removed by chemical cleaning which can remove the natural oxide film such as DHF and BHF, for example. - 特許庁

自然酸化を受けない高導電性のコバルト酸化物を水酸化ニッケル粒子表面にアルカリ処理により被覆した水酸化ニッケル粉末を、解砕工程を経ることなく製造する方法を提供する。例文帳に追加

To manufacture nickel hydroxide powder coated with non-autoxidative cobalt oxide having high conductivity on a particle surface of a nickel hydroxide particle by alkali treatment, without passing through a cracking process. - 特許庁