「自然酸化～」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

過酸化水素を含有する用水、特に薬剤処理のために過酸化水素を添加し、その処理後に過酸化水素が残存する用水中の過酸化水素を短時間で効率良く自然界レベルにまで分解し得る過酸化水素分解用固体触媒を提供することを課題とする。例文帳に追加

To produce a solid catalyst for decomposing hydrogen peroxide, capable of efficiently decomposing hydrogen peroxide of water which contains hydrogen peroxide, especially, water in which hydrogen peroxide added for chemical treatment remains after treatment, up to a natural world level for a short time. - 特許庁

また、水のＯＲＰにより構築される自然浄化システムの法則をもとに、人工的に抗酸化優位にすることで自然浄化機能を修復し、水環境生態系を活性化する例文帳に追加

Also, based on the law of a nature purification system constructed by the ORP of water, this sterilization method restores a nature purification function by artificially dominating antioxidation to activate an aqueous environmental ecology. - 特許庁

従来の人為的な反応ガス条件で生成した酸化マグネシウムを含む保護膜と異なって、大気中で自然酸化して形成した酸化マグネシウムを利用して形成した保護膜である。例文帳に追加

Unlike conventional protective films containing magnesium oxide that are produced under artificial reaction gas conditions, the protective film is formed using magnesium oxide formed through natural oxidation in the atmosphere. - 特許庁

半導体膜表面に形成された自然酸化膜を除去した後、有機物除去効果のある酸化処理を施して清浄な酸化膜を形成してからレーザーアニールを行うことで半導体膜への汚染を低減させる。例文帳に追加

Contamination of a semiconductor film is suppressed by performing oxidation having an effect of removing organic matters following to removal of a native oxide formed on the surface of the semiconductor film, thereby forming a clean oxide film and then performing laser annealing. - 特許庁

次に、自然酸化膜やアッシング酸化膜を除去後、アンモニア過酸化水素水などでＨＳＧ粒の粒間隔をウェットエッチングし、所定の粒間隔を有する下部電極を形成する（図１（Ｆ）〜（Ｇ））。例文帳に追加

Next, after removing a natural oxide film and an ashing oxide film, a lower electrode having a designated grain spacing is formed, by processing the grain spacing of the HSG grains for wet etching with ammonia hydrogen peroxide or the like (Fig.(F)-(G)). - 特許庁

自然酸化膜であるシリコン酸化膜を、２つの処理装置を用いることなく１つの処理装置で効率的に除去することが可能なシリコン酸化膜の除去方法を提供する。例文帳に追加

To provide a removing method for a silicon oxide film capable of efficiently removing a silicon oxide film being a natural oxide film by one processing device without using two processing devices. - 特許庁

従って、二酸化炭素回路の二酸化炭素冷媒は、その液化及び気化により自然循環し、二酸化炭素回路にポンプ等の駆動手段を設ける必要はない。例文帳に追加

As a result, a carbon dioxide refrigerant in a carbon dioxide circuit is naturally circulated by liquefying and vaporizing the dioxide carbon refrigerant, thus eliminating the need for providing a driving means such as a pump at the carbon dioxide circuit. - 特許庁

アリや多くの植物で自然に存在する、または一酸化炭素と蒸気から触媒的に作られる無色で刺激性の発煙液体酸HCOOH例文帳に追加

a colorless pungent fuming vesicatory liquid acid HCOOH found naturally in ants and many plants or made catalytically from carbon monoxide and steam  - 日本語WordNet

触媒光反応による酸化プロセスによって，広範囲の自然態物質や人工有機化合物を無機物に変化させることができることが示されてきた。例文帳に追加

Photocatalytic oxidation processes have been shown capable of mineralizing a wide range of naturally occurring and anthropogenic organic compounds. - 英語論文検索例文集

触媒光反応による酸化プロセスによって，広範囲の自然態物質や人造有機化合物を無機物に変化させることができることが示されている。例文帳に追加

Photocatalytic oxidation processes have been shown capable of mineralizing a wide range of naturally occurring and anthropogenic organic compounds. - 英語論文検索例文集

また、熱処理前に、フッ素イオン含有水溶液に浸漬して、前記単結晶表面の自然酸化膜を除去しておくと良い。例文帳に追加

Further, it is recommended to remove a natural oxidation film on the monocrystal surface by immersing it in a fluorine-ion containing aqueous solution before the heat treatment. - 特許庁

この熱処理によって、金属層１７のニッケルが非極性主面１３ａの自然酸化物中の酸素の少なくとも一部分が除かれる。例文帳に追加

By this heat treatment, the nickel of the metal layer 17 removes at least a part of oxygen in natural oxide of the nonpolar main surface 13a. - 特許庁

その後、多結晶シリコン膜３、自然酸化膜４及び多結晶シリコン膜５をパターニングしてゲート電極部１１を形成する。例文帳に追加

Thereafter, a gate electrode 11 is formed by patterning the polycrystal silicon film 3, the naturally oxidized film 4 and polycrystal silicon film 5. - 特許庁

基板処理装置で密閉式カセット内のウェーハ又は処理済ウェーハの自然酸化、或はパーティクル汚染を防止する。例文帳に追加

To prevent natural oxidation or pollution by particles of a processed wafer or a water within a sealed type cassette with a board processor. - 特許庁

ＳｉＧｅ−ＨＢＴとして機能する半導体装置において、自然酸化膜の不均一性に起因する電流増幅率のばらつきを低減する。例文帳に追加

To reduce variation in current amplification factor caused by an ununiformity in a natural oxide film in a semiconductor device which functions as an SiGe-HBT. - 特許庁

半導体基板を酸素含有雰囲気にさらすことがないので、自然酸化物層の再生成を防ぐことができる。例文帳に追加

Re generation of natural oxide layer is prevented, since no semiconductor substrate is exposed to an oxygen-contained atmosphere. - 特許庁

その後、多結晶シリコン膜３上に自然酸化膜４を形成した後、多結晶シリコン膜５を形成する。例文帳に追加

After naturally oxidized film 4 is formed on the polycrystal silicon film 3, a polycrystal silicon film 5 is formed. - 特許庁

この活性化された塩素が半導体ウエハＷに供給されることにより、半導体ウエハＷに形成された自然酸化膜が除去される。例文帳に追加

The activated chlorine is supplied to the semiconductor wafer W to remove the natural oxide film formed on the semiconductor wafer W. - 特許庁

次に、開口部４、６を介して露出された接続パッド２の上面に形成された自然酸化膜をアルゴンプラズマエッチングにより除去する。例文帳に追加

Then a natural oxide film formed on the top surface of the connection pad 2 exposed through openings 4 and 6 is removed by argon plasma etching. - 特許庁

これにより自然酸化膜の形成を防止することができ、金属リチウム層２１Ｄの表面を平準化することができる。例文帳に追加

By the above, formation of natural oxide film is prevented, and the surface of the metallic lithium layer 21D is levelled. - 特許庁

ウエハ表面に形成された薄膜または自然酸化膜をフッ酸気相中で分解する（１ａ、１ｂ）。例文帳に追加

The thin film or natural oxidation film formed on the surface of a wafer is decomposed in a hydrofluoric acid gaseous phase (1a and 1b). - 特許庁

二酸化炭素 を排出しないクリーンな再生自然エネルギーである水力によって、安定して電気を生産できる。例文帳に追加

To stably produce electricity by hydraulic power serving as clean renewable natural energy that emits no carbon dioxide. - 特許庁

基板の自然酸化膜を完全に除去し得ると共に、水素ガスの使用量、処理時間をを減少させて所望の厚さの膜の形成できる。例文帳に追加

To completely remove a natural oxide film from a substrate, and also lessen hydrogen gas in consumption and reduce a processing time, thus forming a film of required thickness. - 特許庁

高湿の自然環境下でも炭酸化の進行が可能なγビーライト含有セメント系材料を提供する。例文帳に追加

To provide a γ-belite-containing cement-based material capable of being carbonated in a natural environment of high humidity. - 特許庁

自然酸化膜３２が形成されているシリコンウエハ３１を、構成元素にイオウを含まないフッ素化合物ガス雰囲気中に配置する。例文帳に追加

A silicon wafer 31 wherein a natural oxide film 32 is formed is placed in a fluorine compound gas atmosphere containing no sulfur as a constituent element. - 特許庁

積層膜２０Ｆは、主出射側端面１０Ｆに生じている自然酸化物をプラズマエッチングにより除去したのちに形成する。例文帳に追加

The lamination film 20F is formed after removing a natural oxide generated on the main emission side end face 10F by plasma etching. - 特許庁

ＡｌＮ層（１１２）は、ＮＨ_3又はＮ_2雰囲気のプラズマを用いて自然アルミニウム−酸化物層をＡｌＮに変換することによって形成される。例文帳に追加

The AIN layer 112 is formed by converting natural aluminum/oxide layer into the AIN by using the plasma of an NH3 or N2 atmosphere. - 特許庁

熱処理装置１の制御部１００は、自然酸化膜が形成された半導体ウエハＷを収容した反応管２内を４００℃に加熱する。例文帳に追加

A control unit 100 of a thermal processing apparatus 1 heats the inside of a reaction tube 2 stored with a semiconductor wafer W having the natural oxide film formed to 400°C. - 特許庁

このシリコン膜３ｐの表面は外気に曝されるためその表面に自然酸化膜９が生成される。例文帳に追加

Since the surface of the silicon film 3p is exposed to the external air, a natural oxide film 9 is generated on its surface. - 特許庁

次に、コンタクトホールの底部に位置する半導体基板１の表面上に自然に生成した酸化膜をウェットエッチングにより除去する。例文帳に追加

Next, an oxide film formed naturally on the surface of the semiconductor substrate 1 positioned at the bottom of the contact hole is removed by wet etching. - 特許庁

ここで、ドープドポリシリコン膜２上に自然酸化膜３と飛散していた有機物４が膜上に堆積される。例文帳に追加

At this time, a natural oxide film 3 and a scattering organic substance 4 are stacked on the doped polysilicon film 2. - 特許庁

ソース領域およびドレイン領域の露出した表面上の自然酸化膜を、フッ酸を含有する洗浄液Ａで洗浄除去する。例文帳に追加

A naturally oxidized film on an exposed surface in a source region and a drain region is removed using a cleaning liquid A containing hydrofluoric acid. - 特許庁

自然酸化膜除去工程（Ｐ２）、テクスチャー形成工程（Ｐ４）、ダメージ層除去工程（Ｐ６）を同一の真空処理槽２内で行う。例文帳に追加

The natural oxide film removing step (P2), texture forming step (P4), and damaged layer removing step (P6) are carried out in the same vacuum processing tank 2. - 特許庁

第２ステップＳ２では、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）で処理して基板表面に形成された自然酸化膜を除去する。例文帳に追加

A second step S2 removes a natural oxide film formed on a substrate surface by being processed by a buffered hydrofluoric acid (BHF). - 特許庁

自然な染め上がりが得られ、シャンプー、光及び汗に対する堅牢性が良好である酸化染毛剤組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain an oxidative hair dye composition affording natural dyeing result and good in the fastness to shampoo, light and sweat. - 特許庁

波の波動という二酸化炭素の排出が全くない、無尽蔵の自然エネルギーを利用して発電する。例文帳に追加

To generate electric power by using inexhaustible natural energy without wholly exhausting carbon dioxide such as wave motion of a wave. - 特許庁

また、自然酸化膜を除去するために使用する水素の処理室への充填時間および量も低減する。例文帳に追加

A time required for filling the processing chamber with hydrogen that is used for removing a natural oxide film can be lessened, and hydrogen can be reduced in consumption. - 特許庁

Ｓｉ基板１１は、自然酸化膜を除去しない（１００）基板または（１１０）基板であるのが好ましい。例文帳に追加

It is desirable that the Si substrate 11 is a (110) substrate or a (100) substrate the natural oxide film of which is not removed. - 特許庁

その結果、自然酸化膜を形成する工程に比べ、非晶質シリコン層に付着する不純物が減少する。例文帳に追加

Consequently, impurities adhering to the amorphous silicon layer is reduced as compared with a process where a native oxide film is formed. - 特許庁

下部電極１７Ａの表面に形成される自然酸化膜を、フッ酸と水の混合液を用いた洗浄処理により除去する。例文帳に追加

A spontaneous oxide film, formed on the surface of the electrode 17A, is removed by a cleaning process using a mixed solution of hydrofluoric acid and water. - 特許庁

自然環境下において微生物等により分解されやすく、潤滑寿命や酸化安定性に優れたグリース組成物の提供。例文帳に追加

To provide a grease composition excellent in lubrication life and oxidation stability and easily decomposed by microorganisms and the like under the natural environment. - 特許庁

太陽電池基板の自然酸化膜除去処理を、太陽電池の製造工程の中で高いスループットで行うことができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of performing natural oxide film removal processing on a solar cell substrate with high throughput in a step of manufacturing a solar cell. - 特許庁

費用体効果のある二酸化炭素削減、低炭素による風力発電は、地球温暖化防止のため、自然エネルギーを摂取することで解決を図る。例文帳に追加

To provide a wind power generation which realizes carbon dioxide reduction and low carbon with cost effectiveness by taking natural energy for global warming prevention. - 特許庁

人工芝、自然芝に対して安定化二酸化塩素及びカチオン系界面活性剤を配合してなる抗菌除苔剤を撒布する。例文帳に追加

An antibacterial moss controlling agent comprising stabilized chlorine dioxide and a cationic surface active agent is spread over natural turf and artificial turf. - 特許庁

不純物を活性化又は拡散させる熱処理後の半導体基板の裏面への自然酸化膜の成長を抑制する。例文帳に追加

To suppress growth of a natural oxide film to the back surface of a semiconductor substrate after a heat treatment for activating or diffusing impurities. - 特許庁