「自然酸化～」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

自然酸化膜などの不純物の除去が完了したら、ガス導入管１７からモノゲルマン（ＧｅＨ４）とモノシラン（ＳｉＨ４）を導入し圧力を調節しながらシリコンゲルマニウム（ＳｉＧｅ）を５００℃で成膜する。例文帳に追加

After the removal of the impurities, such as the native oxide layer and the like, is completed, mono germane (GeH4) and mono silane (SiH4) are introduced from a gas introducing tube 17 to form a film of silicon germanium (SiGe) at 500°C, adjusting pressure. - 特許庁

かかる構成によれば、低温でも反応活性が優秀であるだけではなく、非自然発火性を有するので、燃料から一酸化炭素をさらに効率的に除去できる。例文帳に追加

The non-pyrophoric shift reaction catalyst has an excellent reaction activity even at a low temperature and can efficiently remove carbon monoxide in fuel using its non-pyrophoric property. - 特許庁

本発明は、渓流水を備長炭を敷いた貯水槽を通してミクロフィルターで濾過して自然水を造り竹れきをブレンドして抗酸化飲料水を造る方法である。例文帳に追加

Torrent water is passed through a water tank filled with Bincho charcoal to be filtered by a microfilter to make natural water and this water is blended with bamboo particles to make anti-oxidizing drinking water. - 特許庁

自己整合シリサイド膜（サリサイド膜）を形成する際に、自然酸化膜を除去するための物理的ボンバードプラズマ処理で基板が損傷を受け、歩留り率が低下するのを防止する。例文帳に追加

To prevent lowering of yield caused by damages to a substrate due to physically bombarding plasma treatment for removing of natural oxide film, when a self-aligned silicide film (salicide film) is formed. - 特許庁

コアパターン１７ａを構成するシリンダコア層１７をエッチング除去した後、下部電極の表面に成長した自然酸化膜及び下部電極を構成する非晶質シリコンの表面層をエッチング除去する。例文帳に追加

The cylinder core layer 17 for composing the core pattern 17a is etched to be removed, and a natural oxide film growing on the surface of the lower electrode and the surface layer of amorphous silicon for composing the lower electrode are etched to be removed. - 特許庁

溶解液の蒸気量を制御しながら半導体ウェーハの自然酸化膜を溶解して、この後、回収液を液滴して、これを分析する不純物の分析方法を提供する。例文帳に追加

To provide an analytical method for an impurity capable of dissolving a natural oxide film of a semiconductor wafer while controlling a vaporization amount of a solution, and capable of dropping thereafter a recovered liquid to be analyzed. - 特許庁

ガス導入管２３に供給されたＮＦ_3 ガス３３はＨ_2 とＮ_2 の混合ガス３１がプラズマ２４で活性化された活性ガス３２で活性化されて自然酸化膜除去ガス３４として処理室１２に供給される。例文帳に追加

NF_3 gas 33 supplied to the gas supply line 23 is activated by active gas 32 for which the mixed gas 31 of H_2 and N_2 is activated by a plasma 24 and supplied to a processing chamber 12 as natural oxide film removing gas 34. - 特許庁

低温で自然酸化膜または有機物等の汚染物を除去できる基板処理装置、基板処理方法、および半導体装置の製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method of processing a substrate, which removes a natural oxide film or a contaminant such as an organic substance at a low temperature, and also to provide a manufacturing method of a semiconductor device. - 特許庁

据付け場所の制約を受けることなく、常に円滑かつ安定的に二酸化炭素冷媒を自然循環させることができる二次冷媒式冷凍装置を提供する。例文帳に追加

To provide a secondary refrigerant type refrigerating device capable of smoothly and stably exerting natural circulation of a carbon dioxide refrigerant at all times without being subject to restriction of its installation place. - 特許庁

これにより、処理室１ａ，１ｂ、収納室２ａ，２ｂ及び搬送室４内を真空及びＮ2 ガス雰囲気として、未処理及び処理中のウエハＷ表面への自然酸化膜やパーティクル等の付着を防止することができる。例文帳に追加

This makes an atmosphere in the processing chambers 1a and 1b and the transfer chambers 2a and 2b in vacuum and N2 atmosphere to prevent the surface of the wafer W under unprocessing and processing from adhesion of natural oxide film, particles, or the like. - 特許庁

この場合、熱源機５ａ側の第１冷媒回路に可燃性冷媒であるＨＦＣ３２が使用され、熱源機５ｂ側の第２冷媒回路に消火性の自然冷媒である二酸化炭素が使用されている。例文帳に追加

In this case, HFC 32, which is the inflammable refrigerant, is used for the first refrigerant circuit on the heat source machine 5a side, and carbon dioxide which is a fire-extinguishing natural refrigerant is used for the second refrigerant circuit on the heat source machine 5b side. - 特許庁

自然の力を利用して自動車を走行させる、二酸化炭素を発生させて地球温暖化のもととなるガソリン等石油類を使用しない自動車の提供。例文帳に追加

To provide an automobile capable of travelling utilizing natural force instead of petroleums including gasoline which produce carbon dioxide resulting in global warming. - 特許庁

バリアメタル膜の表面に形成される自然酸化膜の膜厚を薄くし、ボイドの発生を防止した多層配線構造の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a multi-layered wiring structure, in which the thickness of a natural oxide film to be formed on the surface of a barrier metal film, is made small to prevent the generation of voids. - 特許庁

島状の絶縁膜２２１、３２１、３２２で活性層２００、３００、３１０表面を覆った状態を保つことで、活性層表面がボロンで汚染されたり、自然酸化膜が形成されることを防止できる。例文帳に追加

Thus, the surfaces of the active layers 200, 300, and 310 are maintained to be covered with island-shaped insulating films 222, 321, and 322 and the surfaces of the active layers can be prevented from being contaminated due to boron, or natural oxide film can be prevented from forming. - 特許庁

スピン乾燥に比べてウエハ１を低速回転で乾燥できるので、ウエハの破損や汚染およびウオータマークの発生を防止しつつウエハ１基板の自然酸化膜を除去できる。例文帳に追加

Since the wafer 1 rotates at a speed lower than in the spin drying process, the natural oxide film is removed from the wafer 1 while the occurrence is prevented of damage, pollution, or watermark stains in the wafer 1. - 特許庁

ガス導入管においてＮＦ_3 ガスの分解の度合いを適正に制御することで、プラズマダメージを防止しつつ自然酸化膜を確実に除去できる。例文帳に追加

By appropriately controlling the decomposition rate of the NF_3 gas in the gas supply line 23, the natural oxide film is surely removed while preventing the plasma damages. - 特許庁

自然由来のリモナイトを利用して、より人間の皮膚に優しい化粧料を提供することであり、また、リモナイトが有する酸化作用を効果的に利用可能な化粧料を提供すること。例文帳に追加

To provide a cosmetic gentle to human skin by utilizing nature-derived limonite, and also the cosmetic capable of effectively utilizing an oxidation activity which the limonite has. - 特許庁

半導体装置の製造方法に関し、ゲート絶縁膜にシリコン酸化膜と比較して誘電率が高い物質の膜を用いる場合、シリコン表面に自然酸化膜が生成されないように、また、シリコンとゲート絶縁膜の反応に起因する酸化膜が生成されないように、更にまた、水素の影響を排除すると共に固定電荷や界面準位の発生を抑止することを可能にしようとする。例文帳に追加

To avoid forming a natural oxide film on an Si surface, avoid forming an oxide film due to the reaction of Si with a gate insulating film, and eliminate the influence of H and suppress appearance of fixed charges or interface level wherein the gate insulation film uses a film of a material having a higher dielectric constant than that of an Si oxide film. - 特許庁

２枚の半導体基板を接着して貼り合わせ半導体基板を形成する場合に、接合面に自然酸化膜を形成して室温で安定に接着させ、接着界面に介在する酸化膜を除去することにより、全く酸化膜が存在しない貼り合わせ半導体基板を製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To manufacture a laminated semiconductor board where no oxide film is present by a method, wherein a natural oxide film is formed and is bonded stably on a bonding surface at a room temperature, and an oxide film present at a bonding interface is removed, when two semiconductor boards are laminated and bonded together into a laminated semiconductor board. - 特許庁

この時の酸化処理は、自然酸化被膜を備えた所定厚みのアルミニウム合金膜を、アルミニウム合金用エッチング液にて全厚みをエッチングした際に算出される厚さ方向のエッチング速度に対して、８０％以上のエッチング速度が確保できるように酸化被膜を形成するようにする。例文帳に追加

In the oxidizing process at this time, the oxidized film is formed so as to secure an etching speed of 80% or more with respect to an etching speed in the direction of thickness which is operated upon etching the whole thickness of the aluminum alloy film, provided with a natural oxidized film, and having a predetermined thickness, by etching liquid for aluminum alloy. - 特許庁

アンモニア性窒素を脱窒させるために、土壌や粘土を利用する装置であって、施設の簡便さと操作の容易さのために、硝酸化に必要な酸素供給は、自然通気から得、脱窒には攪拌等を要しないものを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a soil denitrification arrangement which utilizes soil and clay for denitifying ammonia nitrogen, and derives oxygen supply necessary to nitrification from natural ventilation, and requires no agitation or the like for denitrification for simple facilities and easy operation. - 特許庁

冷媒に自然冷媒としての二酸化炭素を用いた圧縮機に潤滑油としてポリアルキレングリコール、またはポリアルファーオレフィンを基油として用いローラとベーンの異常な摩耗を防止し、信頼性の高い回転圧縮機を提供する。例文帳に追加

To provide a rotary compressor with high reliability by preventing rollers and vanes from being abnormally worn by using polyalkylene glycol or polyalphaolefin as the base oil of lubricating oil in the compressor in which carbon dioxide as natural refrigerant is used for refrigerant. - 特許庁

そして、ホルンフェルスから自然放射する遠赤外線でもって細砕せしめた空気中の水分子クラスタ−により悪臭物質をマスキングして消臭せしめると共に、微粉末化せしめた微細な多孔構造を呈する二酸化珪素により悪臭物質を吸着して消臭せしめるものである。例文帳に追加

Malodorous substances are masked and deodorized with water molecular clusters in air finely crushed with far infrared rays naturally radiated from the hornfels, and adsorbed and deodorized with silicon dioxide exhibiting a finely powdered microporous structure. - 特許庁

このような遮光性の外壁２を用いることにより、窓等のある明るいクリーンルーム内に前記ストッカ１を設置し、且つ、そのストッカ内に透明なプラスチック製のカセット３を保管しても、光による自然酸化の促進を抑制することができる。例文帳に追加

The stocker 1 is arranged in a bright clean room having a window by using such a light shielding outer wall 2, and even if a transparent plastic cassette 3 is stored in the stocker, promotion of the natural oxidation by the light can be restrained. - 特許庁

イオン注入マスク膜として用いられるフォトレジスト膜パターンを残留物なしに除去し、自然酸化膜除去のための洗浄工程で発生するウォーターマークを防止する半導体素子のデュアルゲート形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide the dual gate forming method of a semiconductor device for removing a photoresist film pattern for use as an ion implantation mask film without a residue and preventing a water mark generated in a cleaning step for the removal of a natural oxide film. - 特許庁

ポリイミド粒子に酸化チタンと同程度の極めて高い紫外線防御効果を有すること、並びに本ポリイミド粒子を化粧料中に配合することにより、使用感触が良好で使用時の不自然な白さがなく、また、紫外線防御効果に優れる化粧料を得られる。例文帳に追加

The invention relates to a polyimide particle having extremely high ultraviolet screening effect comparable to that of titanium oxide, and a cosmetic which has good application feeling, is free from unnatural whiteness in use, exhibits excellent ultraviolet screening effect and is produced by compounding polyimide particles in a cosmetic. - 特許庁

ゲート電極３ａおよびＴＥＯＳサイドウォール５から露出された半導体基板１の表面層に対して、フッ酸ガスとアンモニアガスとを供給する処理とその後の熱処理とを行う表面ガスエッチング反応による前処理を行い、自然酸化膜６を除去する。例文帳に追加

The surface layer of the semiconductor substrate 1 exposed from the gate electrode 3a and the TEOS sidewall 5 is subjected to preprocessing based on a surface gas etching reaction in which processing of supplying a hydrofluoric acid gas and an ammonia gas and thermal processing are executed, thereby removing a natural oxidation film 6. - 特許庁

表面の窒化膜があらかじめ除去されたチタンターゲットを用いて，窒化チタン膜を形成することにより，熱処理の際にアクティブ層上の自然酸化膜をチタンが効果的に還元して，正常なシリサイド化を起こすことが出来る。例文帳に追加

Because the titanium nitride film is formed using the titan target from which the surface nitride film was removed in advance, a natural oxide film on an active layer can be effectively reduced by Ti during the heat treatment thereby ensuring for the normal siliciding to take place. - 特許庁

こうして堆積されたゲート電極８ｐに熱処理を施すと、還元性金属原子で自然酸化膜９が還元されて消滅すると共に、バリア膜４ｐにおいて熱分解した金属窒化物の窒素原子と前記還元性金属原子とが反応してバリアメタルが形成される。例文帳に追加

When subjecting a gate electrode 8p deposited in this way to heat treatment, the natural oxide film 9 is reduced with the reduction metal atoms to extinguish it, and the nitrogen atoms of the thermally decomposed metal nitride and the reduction metal atoms react with each other in the barrier film 4p to form a barrier metal. - 特許庁

本発明は、水洗トイレのタンク内で水性植物を栽培し、その光合成の作用を利用する事によって、外気に含まれる二酸化炭素の回収・固定化を可能にし、自然環境改善とともに、住宅環境の改善をも可能にする。例文帳に追加

To cultivate aquatic plants in a washing toilet tank, make it possible to collect and fix carbon dioxide contained in the open air by utilizing operation of photosynthesis thereof, improve the natural environment and, at the same time, to also improve a residential environment. - 特許庁

アルミニウムまたはアルミニウム合金部品と鉄、銅もしくは亜鉛またはこれらの合金部を備えた部品の表面処理において、処理液を無駄に浪費することなく、自然酸化皮膜や偏析物を除去して耐食性を向上させることができるアルミニウム含有部品の表面調整方法を提供する。例文帳に追加

To provide a surface conditioning method for aluminum-containing parts capable of removing natural oxidation films and segregated matters and improving corrosion resistance without uselessly consuming a treating liquid in surface treatment of aluminum or aluminum alloy parts and parts provided with iron, copper or zinc or their alloy parts. - 特許庁

露出した銅の表面からフッ素含有ポリマーを含む汚染物を除去し、銅表面に自然酸化膜が形成された状態にすることによって、銅の腐食を抑制することのできる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can suppress corrosion of copper by making a condition that a natural oxide film is formed on the surface of copper by removing a contaminant comprising a fluorine-containing polymer from the surface of exposed copper. - 特許庁

乾燥途中の高温の衣類がドラム内に放置されることで、積層した内部の衣類の温度が蓄熱作用により異常に高くなることを回避し、衣類に油脂類が残留していたときでも酸化蓄熱による自然発火を防止して安全性を高める。例文帳に追加

To prevent temperature of piled up clothes kept inside a drum on the way of drying from being elevated to abnormally high temperature by heat accumulating action to prevent spontaneous ignition by oxidation and heat accumulation even when oil and fat remain in clothes to raise safety. - 特許庁

人工冷媒としては、ＨＦＣ−１５２ａ、ＨＦＣ−４１及びヨウ化トリフルオロメタンから選ばれるものが用いられ、自然冷媒としては、ブタン（Ｒ６００）、イソブタン（Ｒ６００ａ）、プロパン（Ｒ２９０）、二酸化炭素（Ｒ７４４）及びアンモニア（Ｒ７１７）から選ばれるものが用いられる。例文帳に追加

The artificial refrigerant is selected from HFC-152a, HFC-41 and trifluoromethane iodide, and the natural refrigerant is selected from butane (R600), isobutane (R600a), propane (R290), carbon dioxide (R744) and ammonia (R717). - 特許庁

成膜対象のシリコン基板の表面上に自然酸化膜が形成されている場合であっても、基板上にホウ素含有アモルファスシリコン膜を形成する際の成長遅れ時間を短縮させ、基板処理の生産性を向上させる。例文帳に追加

To reduce a growth lag time at the time of forming a boron containing amorphous silicon film on a substrate even when a natural oxide film is formed on the surface of a silicon substrate for film formation to improve productivity of substrate processing. - 特許庁

地球温暖化問題の解決に対してするに従来の温暖化対策装置は、不十分な排出削減のみで、滞留二酸化炭素への対策はされず、植物等の自然生態系のみに依存するにはもはや限界であり、人為的に炭素を固定化する革新技術が必要である。例文帳に追加

To provide an innovative technique for artificially fixing carbon dioxide as carbon because conventional apparatuses to combat global warming do not achieve sufficient emission reduction, no measure to staying carbon dioxide is taken, and dependence on only the natural ecosystem of plants, etc., is already marginal. - 特許庁

まず、ポリシリコン膜が形成された基板Ｗを回転させながら当該基板Ｗの周縁部にフッ酸を供給することにより基板Ｗの周縁部に形成された自然酸化膜をエッチング除去してポリシリコン膜を露出させる。例文帳に追加

First, hydrofluoric acid is supplied to a peripheral part of a substrate W, while the substrate W provided with a polysilicon film is rotated, to remove a natural oxide film provided along the peripheral part of the substrate W by etching so as to expose the polysilicon film. - 特許庁

ゲート電極７作製後にチャネル部１２を作製する縦型ＭＩＳＦＥＴの製造方法において、ゲート絶縁膜１０に損傷を与えたり移動度を劣化させたりすることなく、孔底面に形成された絶縁膜や、自然酸化膜を除去する。例文帳に追加

To remove an insulating film and a natural oxide film formed on a hole bottom surface without damaging the gate insulating film 10 nor lowering mobility in a method of manufacturing a vertical MISFET in which a channel portion 12 is formed after a gate electrode 7 is formed. - 特許庁

基板表面の回路形成部における自然酸化膜の成長を防止しつつ、基板の周縁部、更には裏面側に付着した銅等の配線材料を確実に除去でき、しかもエッジカット幅を自由に設定できるようにした基板洗浄方法及びその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for cleaning substrate by which an edge cut width can be freely set, native oxide in a circuit forming region on the surface of the substrate can be prevented from growing and wiring materials of copper or the like adhered on the back side of the substrate can be surely removed. - 特許庁

Ａｌ層１５Ｂ２が大気中で自然酸化し、光取り出し側電極（第２電極２０）との間で良好な電気接続ができなくなったとしても、最下層のＴｉ層１５Ｂ１と光取り出し側電極との間において良好な電気接続を確保することができる。例文帳に追加

Even if the Al layer 15B2 is spontaneously oxidized in the atmosphere and thus a good electric connection cannot be maintained between the Al layer 15B2 and a light drawing-side electrode (the second electrode 20), a good electric connection can be secured between the Ti layer 15B1, which is the bottom layer, and the light drawing-side electrode. - 特許庁

バンプ本体１１Ａと電極パッド２１とを押し付けると、バンプ本体１１Ａが傾いて、バンプ本体１１Ａと電極パッド２１との間にスクラブ現象が発生し、電極パッド２１表面の自然酸化膜やバンプ本体１１Ａ表面の異物が除かれる。例文帳に追加

When the bump 11A is pushed against an electrode pad 21, the bump body 11A is tilted, scrubbing phenomenon occurs between the bump body 11A and the electrode pad 21, and contamination of the naturally oxidized film of the surface of the electrode pad 21 and of the surface of the bump body 11A are removed. - 特許庁

３枚以下の半導体基板１を処理室３に設置する工程と、半導体基板１を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板１の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。例文帳に追加

This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere. - 特許庁

酸化物単結晶に蛍光体を含有した変色する結晶粉末にマイカあるいはパールまたはメタル顔料を混合した有色顔料であって、人工光線あるいは紫外線、また自然光に応じて変色可能に構成されている。例文帳に追加

The powder composition comprises a colored pigment obtained by mixing a color-changing crystalline powder, comprised of an oxide single crystal and a phosphor and changing its color, with mica, pearl or a metallic pigment, and is constituted so that it can change its color according to artificial light, ultraviolet rays and natural light. - 特許庁

施術の際には毛髪上での延びがよく使用性に優れ、施術中の毛髪の損傷を防止して染毛後の毛髪に優れた指どおり性と毛髪本来の自然な艶を付与し、しかも毛髪の均染性にも優れる酸化染毛剤組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an oxidation hair dye composition which has good spreadability on the hair and excellent usability at application, and imparts excellent combability and the natural gloss inherent in hair to the hair after dyeing by preventing the damage of the hair under application, and exhibits excellent levelness of dyeing of the hair. - 特許庁

Ｃｕ配線などの金属材料を含有する導電性パターンとこれを埋め込む層間絶縁膜に対してダメージを生じさせることなく、導電性パターン表面の自然酸化膜を除去することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which avoids damaging a conductive pattern containing a metal material such as Cu wirings, etc. and a layer insulation film having the material buried therein, and removes a natural oxide film on the conductive pattern. - 特許庁