「雰囲気温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

触媒を、大気相当の酸素分圧を有する雰囲気下にて ８５０〜１１００℃の温度で熱処理する。例文帳に追加

The catalyst is subjected to heat treatment at a temperature of 850-1,100°C under an atmosphere having a partial pressure of oxygen equivalent to an atmosphere. - 特許庁

ｐ型電極１５を形成した後に、酸素を含む雰囲気中において温度４００℃〜６００℃で熱処理を行う。例文帳に追加

A heat treatment is carried out at a temperature between 400 and 600°C in an ambient containing oxygen after forming the p-type electrode. - 特許庁

水分を含むとともに室温を超える温度の加熱雰囲気に希土類磁石焼結用治具をさらす。例文帳に追加

A fixture for sintering a rare earth magnet is exposed to an atmosphere containing water and heated to a temperature exceeding a room temperature. - 特許庁

高い温度の雰囲気内でシールド電線内に油、水などの液体が浸入するのを防止するシールドコネクタを提供する。例文帳に追加

To provide a shield connector preventing infiltration of liquid such as oil and water in a shielded wire in an atmosphere of high temperature. - 特許庁

焼結時に温度と雰囲気の少なくとも一方に勾配をつけること上記の構成の硬質材料を得る。例文帳に追加

The hard material with the above constitution can be obtained by providing a gradient to at least either of temperature and atmosphere during sintering. - 特許庁

浸炭窒化処理された軸受鋼が窒素を含まない雰囲気下にて７８０℃以上９００℃以下の温度で加熱拡散処理される。例文帳に追加

The bearing steel subjected to the carbonitriding treatment is subjected to diffusion treatment at a temperature of 780-900°C in an atmosphere not containing nitrogen. - 特許庁

半導体装置の設計上の大きな制約となることなく、雰囲気温度に対する半導体装置の電流センス比の変動を抑制する。例文帳に追加

To suppress variation in current sense ratio of a semiconductor device with ambient temperature without large restrictions associated with design of the semiconductor device. - 特許庁

金属フィルタ１に捕捉された未燃黒煙微粒子は、高温度の当該金属フィルタ１や周囲雰囲気によって加熱されて燃焼する。例文帳に追加

The unburned black smoke particulate captured by the metal filter 1 is heated and burned by the metal filter 1 of a high temperature and a surrounding atmosphere. - 特許庁

バイオマスを不活性雰囲気下の２５０〜６００℃の温度で半乾留し、半乾留したバイオマスを粉砕して微粉炭材とする。例文帳に追加

Biomass is semi-dry distilled at 250-600°C in an inert atmosphere and the semi-dry distilled biomass is pulverized to obtain the objective carbon micropowder. - 特許庁

少なくともナノジルコニアが焼結を開始する温度以上における上記焼成雰囲気の酸素濃度を０．０１％以下とすることが好ましい。例文帳に追加

The oxygen concentration at least in the firing atmosphere at which nano-zirconia starts sintering or above is preferably controlled to ≤0.01%. - 特許庁

浸炭窒化処理された鋼材が窒素を含まない雰囲気下にて７８０℃以上９００℃以下の温度で加熱拡散処理される。例文帳に追加

The steel subjected to the carbonitriding treatment is subjected to heating diffusion treatment at 780 to 900°C in a nitrogen-free atmosphere. - 特許庁

気相エピタキシャル成長の前に、水素雰囲気中１１７０℃以上１２００℃以下の温度でシリコン単結晶基板を熱処理する。例文帳に追加

A silicon single-crystal substrate is subject to heat treatment in an atmosphere of hydrogen at a temperature higher than 1,170°C and lower than 1,200°C before vapor phase epitaxial growth. - 特許庁

その結果、石英管２１内の雰囲気には上下に温度差Δｔ℃を有する２つの均熱ゾーンが形成される。例文帳に追加

Thereby, two uniformly heated zones having a temperature difference Δt°C are formed at upper part and the lower part of the atmosphere in the quartz pipe 21. - 特許庁

基板温度が低下しないうちに真空雰囲気で脱水素処理がされるので、処理時間が短くて済む。例文帳に追加

Since the dehydrogenation treatment is performed in the vacuum atmosphere before the temperature of the substrate is lowered, the treatment time can be shortened. - 特許庁

ドットクロック補正部１０１は、算出された雰囲気温度からドットクロックの補正値を算出し、ドットクロックを補正する。例文帳に追加

From the calculated atmosphere temperature, a dot clock correcting section 101 calculates a correction value for a dot clock, and corrects the dot clock. - 特許庁

焼結室13のマッフル21の内部を間接的に加熱して間接的加熱雰囲気温度とするガスバーナ22Ａ，23Ａを有する。例文帳に追加

The device is provided with gas burners 22A, 23A which indirectly heat the interior of a muffle 21 in a sintering chamber 13 to obtain uniformed temperature of indirect heating atmosphere. - 特許庁

この条件を満たす反射防止膜を形成するには、１７５℃以下、好ましくは１５０℃以下の雰囲気温度でスパッタリング法によって形成する。例文帳に追加

The antireflection film satisfying the above condition is formed by sputtering at the ambient temperature of ≤175°C, preferably ≤150°C. - 特許庁

クラム状の熱可塑性エラストマーを、４０℃〜８０℃の温度雰囲気下に保つことを特徴とする該エラストマーのブロッキング防止方法。例文帳に追加

This method for preventing blocking of the crumb-like thermoplastic elastomer comprises keeping the elastomer under an atmosphere at 40°C to 80°C. - 特許庁

このエポキシ樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度が−１０℃以下であり、５℃雰囲気におけるショアーＡ硬度が１０〜６０である。例文帳に追加

The cured material of the epoxy resin composition has ≤-10°C glass transition temperature and 10-60 Shore A hardness in an atmosphere at 5°C. - 特許庁

本発明は、電子機器の試験対象のモジュール近傍の雰囲気のみを昇温して試験を行う温度試験装置を提供する。例文帳に追加

To provide a temperature test device of performing test by increasing only the temperature of an atmosphere in the vicinity of a module of a test object of electronic equipment. - 特許庁

雰囲気温度の変動による影響を可能な限り無くすために、重水素ランプＨ自体もランプハウス３０によって包囲させている。例文帳に追加

The deuterium lamp H itself is surrounded by a lamp house 30 to eliminate the effects of variations of atmospheric temperature as much as possible. - 特許庁

本発明の好ましい成形体は窒素及び水素の給湿混合物からなる還元雰囲気中において1250〜1400℃の温度範囲で焼結できる。例文帳に追加

A preferable molded body can be sintered in the temperature range of 1,250 to 1,400°C in a reducing atmosphere composed of a humidifying mixture of nitrogen and hydrogen. - 特許庁

雰囲気温度の変化に起因した運動機構部の熱変形によって生じる加工誤差を是正することができる補正装置を提供する。例文帳に追加

To provide a correction device correcting a machining error formed by thermal deformation of a motion mechanism caused by change in ambient temperature. - 特許庁

前記した所定期間は、第１吸気絞り弁の雰囲気温度に応じて増減されるため、第１吸気絞り弁の固着も防止される。例文帳に追加

Since the predetermined period of time is increased/decreased according to an atmosphere temperature of the first intake throttling valve, fixing of the first intake throttling valve is also prevented. - 特許庁

また、上記において、トリスジメチルアミノアルシン雰囲気で加熱温度が５１０-５２５度としたことを特徴とする半導体薄膜再成長法。例文帳に追加

The heat temperature in the atmosphere of tris-dimethylaminoarsine is 510 to 525°C. - 特許庁

前記炭素繊維は、前記高密度耐炎繊維不織布を不活性ガス雰囲気下で１０００〜２８００℃の温度で処理することにより得られる。例文帳に追加

The carbon fiber is obtained by treating the high-density nonwoven fabric of the flame-resistant fiber in an inert gas atmosphere at a temperature of 1,000-2,800°C. - 特許庁

これは本発明の高密度耐炎繊維不織布を不活性ガス雰囲気下で１０００℃以上の温度で処理することにより得られる。例文帳に追加

The carbon fiber nonwoven fabric is obtained by treating the high-density flame-resistant fiber nonwoven fabric at ≥1,000°C in an inert gas atmosphere. - 特許庁

その後、同じ真空炉内の雰囲気温度を再度上昇させ、ＪＩＳで規定されるＨ９００の析出硬化処理を行う。例文帳に追加

Then, the atmospheric temperature within the same vacuum furnace is raised again, and precipitation hardening treatment of H900 specified by JIS is performed. - 特許庁

加熱工程は、少なくともＮＨ_３ガスを含む雰囲気下で、基板を１１００℃以上の温度で１０分以上加熱する。例文帳に追加

In the heating process, a substrate is heated at 1,100°C or higher for 10 minutes under atmosphere containing at least NH_3 gas. - 特許庁

タンク雰囲気温度による溶融タイミングが互いに異なる複数の可溶部を備えた溶栓を構成する。例文帳に追加

A fusible plug has a plurality of fusible portions whose fusion timings are mutually different according to tank atmospheric temperatures. - 特許庁

従って、厨芥の乾燥処理終了判定の精度を確保すると共に処理槽１２内の雰囲気温度の上がり過ぎを防止することができる。例文帳に追加

An accuracy for determining termination of drying operation of garbage is thereby ensured, and undue increase of atmospheric temperature can be prevented in the treating tank 12. - 特許庁

複数のセラミックス粉末から成形した成形体を温度１５００℃の窒素雰囲気で仮焼きして多孔質仮焼き体を作製する。例文帳に追加

Moldings molded from a plurality of powdery ceramics are preliminarily calcined in an atmosphere of nitrogen at 1,500°C to manufacture porous, preliminary calcined bodies. - 特許庁

雰囲気温度の変化に対して出力電圧を一定の範囲内に収めることができる電力伝送装置を提供する。例文帳に追加

To offer a power transmitter which can settle output voltage within a certain range even under a variation in ambient temperature. - 特許庁

その熱水処理温度は２００〜３７０℃が好ましく、熱水処理は不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。例文帳に追加

The temperature of the hydrothermal treatment is preferably 200-370°C and the hydrothermal treatment is preferably carried out in an inert gas atmosphere. - 特許庁

雰囲気温度やエンジン負荷に応じて適切にエンジン部品および吸気を冷却することが困難である。例文帳に追加

To appropriately cool an engine part and suction air corresponding to an atmosphere temperature and an engine load. - 特許庁

温度を３０℃以下、相対湿度を６５％以下に制御した大気雰囲気中において希土類合金磁性粉末のプレスを行う。例文帳に追加

The rare earth alloy magnetic powder is pressed in the controlled atmospheric condition in which the temperature is ≤30°C, and the relative humidity is ≤65%. - 特許庁

雰囲気温度の影響を受けない、また外部磁界の影響を受けない、測定精度の再現性を向上した水位センサを得る。例文帳に追加

To obtain a water level sensor which is neither influenced by the ambient temperature nor by an external magnetic field, and enhances the reproducibility of a measurement accuracy. - 特許庁

(3)るつぼを形成後、大気ないしは大気以上の酸素を含む雰囲気中にて、1000〜1200℃の温度で焼鈍する上記(1)の石英ガラスるつぼの製造方法。例文帳に追加

As an alternative, a formed crucible is annealed at 1000-1200°C in air or in an atmosphere containing larger amount of oxygen than air. - 特許庁

サーミスタ５６は、加熱ローラ５１の上方に加熱ローラ５１に対して非接触で設けられ、雰囲気温度を検出する。例文帳に追加

The thermistor 56 is provided above the heat roller 51 without touching it and detects the temperature of the atmosphere. - 特許庁

電気配線板に取り付けられた回動内機が、雰囲気温度の変化によって電気配線板に対してガタつかないようにする。例文帳に追加

To prevent a backlash between a rotational internal machine installed to an electric wiring board and the electric wiring board due to a change in an ambient temperature. - 特許庁

次に温度が約１０００℃の酸化性雰囲気に投入して、１時間〜２時間程度にわたって熱処理を施す。例文帳に追加

Then, the product is loaded in an oxidizing atmosphere at about 1,000°C and is heat-treated about for 1-2 hours. - 特許庁

工程（２）：基板上に形成された誘電体薄膜を、酸素雰囲気中、５５０〜８００℃の温度で加熱し、仮焼成する。例文帳に追加

In the process (2), the dielectric thin film formed on the substrate is heated at a temperature of 550 to 800°C in an oxygen atmosphere, and baked temporarily. - 特許庁

次に、熱酸化装置に酸素を導入し、酸化雰囲気中１１００度以上の温度でＳｉＣを熱酸化する。例文帳に追加

Then, oxygen is introduced into a thermal oxidation device where the SiC is thermally oxidated in oxidation atmosphere at a temperature of 1,100°C or higher. - 特許庁

ローラ本体と軸との空回りを防ぎ、かつ高い雰囲気温度においても円筒度の劣化を小さく抑える。例文帳に追加

To prevent the idle rotation of a roller body and a shaft and to suppress the degradation of cylindricity to a small degree even at a high ambient temperature. - 特許庁

ろう付け材をろう付けした後、高温酸化雰囲気中に晒した際のろう付け部の酸化進行を抑制すると共にろう付け温度を低減する。例文帳に追加

To suppress going on oxidation of a brazed part when a brazing material is brazed, and is thereafter exposed to a high temperature oxidizing atmosphere, and to reduce a brazing temperature. - 特許庁