「雰囲気温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Ｌｉの無機塩と、Ｍｎの無機塩と、Ｍｇの無機塩とを混合した混合物を得、上記混合物を酸化性雰囲気中、６００〜９００℃の温度範囲で熱処理し、その後雰囲気中、６００〜９００℃の温度範囲で熱処理する。例文帳に追加

A composite of an inorganic salt of lithium, a inorganic salt of manganese and an inorganic salt of magnesium is thermally treated in oxidizing atmosphere at a temperature range of 600 to 900°C, and afterwards, thermally treated in posterior atmosphere at a temperature range of 600 to 900°C. - 特許庁

その造粒物８を乾燥した後に酸化性雰囲気のゾーン１５において９００〜１，０００℃程度までの温度で假焼し、引き続いて還元性雰囲気のゾーン１７において約１，２５０℃までの温度で焼成する。例文帳に追加

The granulated material 8 is dried, thereafter, subjected to the calcining at a temperature of the order of 900-1,000°C in a zone 15 of an oxidizing environment and, subsequently, subjected to the sintering at a temperature approximately up to about 1,250°C in a zone 17 of reducing environment. - 特許庁

乾燥工程を、乾燥雰囲気の最大露点が５０℃以下の雰囲気かつ７０℃以下の温度で予備乾燥した後、２００℃以上かつ３００℃以下の温度で本乾燥することにより行う。例文帳に追加

The drying step is carried out by preheating the filtration residue in an atmosphere having the maximum dew point of 50°C or lower in a dry atmosphere and at a temperature of 70°C or lower, and normally drying at a temperature from 200°C to 300°C. - 特許庁

出発原料であるＮｉ化合物とＬｉ化合物とを混合した原料を６１８℃以下の温度かつ非酸化雰囲気で焼成し、その後、酸化雰囲気かつ６１８℃以上の温度で焼成する。例文帳に追加

A source material prepared by mixing an Ni compound and an Li compound as start materials is fired at a temperature of 618°C or lower in a non-oxidative atmosphere and then fired at a temperature of 618°C or higher in an oxidative atmosphere. - 特許庁

撹拌槽に投入された生ごみを６０℃以上７０℃以下の温度雰囲気で撹拌しながら加熱して発酵させた後、８５℃以上９５℃以下の温度雰囲気で撹拌しながら加熱して乾燥させる。例文帳に追加

Garbage charged in a stirring tank is heated under stirring in an atmosphere with a temperature of 60-70°C to be fermented before heated under stirring in an atmosphere with a temperature of 85-95°C to be dried. - 特許庁

或いは、基板の搬送を行う基板搬送機構１２と、基板の温度を調整する温度調整処理ユニット１９と、基板にガス雰囲気処理を施すためのガス雰囲気処理ユニット２２と、を一体的に備える。例文帳に追加

Alternatively, the apparatus unitedly includes the substrate transferring mechanism 12 for transferring a substrate, a temperature adjusting treatment unit 19 for adjusting the temperature of the substrate, and the gas atmosphere treatment unit 22 to provide the gas atmosphere treatment for the substrate. - 特許庁

冷熱衝撃試験装置１は、高温槽２と低温槽３を有し、試料体を高温の雰囲気温度にさらす加熱試験制御と、低温の雰囲気温度にさらす冷却試験制御とを交互に実行することができる。例文帳に追加

A thermal shock testing device 1 has a high temperature tank 2 and a low temperature tank 3, and is able to alternatively perform heating test control in which a sample body is exposed under a high temperature atmosphere and cooling test control in which the sample body is exposed under a low temperature atmosphere. - 特許庁

該応力発光材料は、上記酸化物の原料とＥｕ^２＋の原料とを混合し、酸化雰囲気下で仮焼成後、還元雰囲気下で仮焼成時の温度以上１４００℃以下の温度で本焼成することにより製造される。例文帳に追加

The stress-luminescent material is manufactured by mixing the raw material of the oxide with the raw material of Eu^2+, calcining the mixture under an oxidative atmosphere and sintering it at a temperature of ≥a calcination temperature and ≤1,400°C under a reducing atmosphere. - 特許庁

便座周囲の雰囲気温度を測定する室温センサ２１を設けた場合は、雰囲気温度の高低に基づいて、誘電コイルへの通電量を加減する。例文帳に追加

When a room temperature sensor 21 is provided for measuring the ambient temperature in the periphery of the toilet seat, the energizing amount to the induction coil is increased and decreased based on the degree of the ambient temperature. - 特許庁

多数枚の半導体ウエハを保持具に棚状に保持して反応容器内で熱処理する縦型熱処理装置において、処理雰囲気の温度安定時間を短くし、また温度均一性の高い処理雰囲気を広くとれるようにする。例文帳に追加

To enable vertical heat treatment equipment which performs heat treatment on many semiconductor wafers in a reaction chamber while the wafers are held on a shelf-like holding tool and, at the same time, to widely form a treatment atmosphere having high temperature uniformity. - 特許庁

雰囲気ガスＧ中でシリコンウェーハＷを熱処理して内部に新たに空孔を形成する熱処理工程を有し、該熱処理工程の前記雰囲気ガスは、Ｎ_2が分解可能な温度よりも低い分解温度の窒化ガスを含む。例文帳に追加

The manufacturing method has a heat treatment stage for newly forming pores in the silicon wafer W by heat-treating the silicon wafer W inside an atmospheric gas G, which includes nitrogen gas having decomposable temperature which is lower than the temperature at which N_2 can be resolved. - 特許庁

雰囲気温度の変化に伴う水素ガスの純度と回収率の低下を抑制し、雰囲気温度の変化にかかわらず、常に高純度の水素ガスを高い回収率で精製することのできる水素精製装置の運転方法。例文帳に追加

To provide a method for operating a hydrogen refining apparatus where the reduction in the purity and recovery rate of hydrogen gas with the change of atmospheric temperature is suppressed, and, hydrogen gas having high purity can be refined always at a high recovery rate regardless of the change in atmospheric temperature. - 特許庁

ＥＰＳ ＥＣＵにサーミスタを追加することなく、ＥＰＳ ＥＣＵの雰囲気温度を検出し、この雰囲気温度に応じてモータへの供給電流を適度に制限して、ＥＰＳ ＥＣＵのモータ制御装置を過熱から適度に保護する。例文帳に追加

To properly protect a motor control device of EPS ECU from overheat by detecting an atmosphere temperature of an EPS ECU without adding a thermistor to the EPS ECU and properly restricting a feed current to the motor according to the ambient temperature. - 特許庁

また、少なくとも雰囲気ヒータ１２Ｂｋにより昇温するドラム３Ｂｋの温度を、他の雰囲気ヒータ１２Ｙ，１２Ｍ，１２Ｃにより昇温するドラム３Ｙ，３Ｍ，３Ｃの温度と異なるように設定する。例文帳に追加

Furthermore, at least the temperature of the drum 3Bk that is raised by an atmosphere heater 12Bk is set to be different from temperatures of drums 3Y, 3M and 3C that are raised by other atmosphere heaters 12Y, 12M and 12C. - 特許庁

本発明に係るＲ−Ｔ−Ｂ系磁石の製造方法は、磁性材料から成形体を形成する成形工程と、成形体を加熱して成形体の温度を焼成温度Ｔ_ｓ℃に到達させる昇温工程と、更に成形体の温度をＴ_ｓ℃に保持する温度保持工程と、を備え、昇温工程又は温度保持工程において、その雰囲気を真空雰囲気から不活性ガス雰囲気へ切り替え、且つ、真空雰囲気から不活性ガス雰囲気への切り替えを、下記ｔ_１以降ｔ_２以前に行う。例文帳に追加

This method for manufacturing an R-T-B magnet comprises: a molding step of forming a molded body of a magnetic material, a temperature rise step of heating the molded body to raising the temperature of the molded body up to a baking temperature T_s°C, and a temperature maintaining step of maintaining the temperature of the molded body at T_s°C. - 特許庁

電気部品への通電を止めた後、温度検知手段で所定の温度が検知された時点から別の所定の温度が検知されるまでの下降時間を計測して、前記計測した下降時間を予め記憶している外部雰囲気温度毎の下降基準時間と比較して、外部雰囲気温度を推測する。例文帳に追加

When stopping energization to the electrical component, a lowering time from the point of time when the prescribed temperature is detected by the temperature detection means until the point of time when a prescribed different temperature is detected is measured, and the measured lowering time is compared with the lowering reference time at each external atmospheric temperature stored beforehand, to thereby estimate the external atmospheric temperature. - 特許庁

前記基準温度情報は、あらかじめ、所定のインク滴の吐出待機状態において、前記集積化駆動回路の雰囲気温度を求めて前記内部温度基準値とするとともに、前記雰囲気温度における前記内部温度センサの出力値を求めて前記出力基準値とすることにより求められる。例文帳に追加

The reference temperature information is determined by determining the atmospheric temperature of the integrated drive circuit as the inner temperature reference value, and then determining the output value of the inner temperature sensor at the atmospheric temperature as the output reference value. - 特許庁

温度センサ６８により検出された雰囲気温度が第１設定温度以下である際に、前記消去用光源６０ａ〜６０ｄが点灯される一方、前記雰囲気温度が第２設定温度に至る際に前記消去用光源６０ａ〜６０ｄが消灯される。例文帳に追加

When the atmospheric temperature detected by the sensor 68 is equal to or under 1st set temperature, the erasing light sources 60a to 60b are turned on, while the erasing light sources 60a to 60d are turned off when the atmospheric temperature reaches 2nd set temperature. - 特許庁

判別回路３４は、雰囲気温度センサによって検出された雰囲気温度が装置温度センサによって検出された装置温度よりも所定の温度以上高いと判定したとき、基準電圧発生回路３２が出力する基準電圧を低下させるよう制御する。例文帳に追加

When a discriminating circuit 34 judges that the atmospheric temperature detected by the atmospheric temperature sensor is higher than the temperature of the device detected by the device temperature sensor by a specified temperature or over, the circuit 34 lowers the reference voltage outputted by the reference voltage generation circuit 32. - 特許庁

水素ガス雰囲気や真空中のような還元雰囲気下においても、ガラスシールや金属管などで封止することなく温度測定が可能であり、しかも、低コストで、応答性や耐久性に優れた還元雰囲気用サーミスタ材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a thermistor material for reducing atmosphere which can perform temperature measurement without being sealed with glass or a metal tube even in reducing atmosphere such as hydrogen gas atmosphere or in vacuum, and exhibits excellent response or durability at a low cost. - 特許庁

その後、銀線２０を７００℃以上融点未満の処理温度Ｔ１に維持しつつ、銀線２０の周辺を排気により真空雰囲気とした後、ヘリウムガスおよび水素ガスを供給して混合雰囲気とする雰囲気交換を３回以上繰り返す。例文帳に追加

Then, while maintaining the above treatment temperature T1 of the silver wire 20, atmospheric exchange is repeated three or more times by evacuating the gas surrounding the silver wire 20 to produce a vacuum atmosphere and then feeding the helium and hydrogen gases to produce a mixed atmosphere. - 特許庁

次いで、前記雰囲気内の圧力に応じて前記雰囲気に対するプロセス温度を制御し、前記雰囲気内における前記水素ガスの分圧及び前記水蒸気の分圧を制御し、水素−水化学交換反応を通じた前記水素ガスからの前記水素同位体の分離性能を制御する。例文帳に追加

Process temperature for the atmosphere is controlled in accordance with the pressure in the atmosphere, and partial pressures of the hydrogen gas and that of the water vapor in the atmosphere are controlled and the separation performance of the hydrogen isotope from the hydrogen gas through the hydrogen-water chemical exchange reaction is controlled. - 特許庁

非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、４５０〜８００℃の中温度域で金属材料等を良好に封着可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスを含むガラスタブレットを創案することにより、長期間に亘って、封着部分の気密性を確保すること。例文帳に追加

To provide a glass tablet containing a SnO-P_2O_5-based glass which can well seal a metallic material or the like in a middle temperature region of 450 to 800°C even in a non-oxidative atmosphere (reduced atmosphere, inert atmosphere or the like) to secure air tightness of a sealed part over a long period. - 特許庁

金型から取り出した後のプラスチック成形品８が所定の雰囲気温度の変動幅が２℃以下、雰囲気との相対速度が１ｍ／ｓｅｃ以下、接触する部材の熱伝導率が１Ｗ／ｍ・Ｋ以下、の雰囲気で冷却されるようにする。例文帳に追加

The plastic molding 8 after being taken out from a mold is cooled in an atmosphere in which the variation width of a prescribed atmosphere temperature is 2°C or below, a relative speed to the atmosphere is 1 m/sec or below, and the thermal conductivity of a member in contact is 1 W/m K or below. - 特許庁

温度範囲が６０℃以上１００℃以下の水蒸気雰囲気で、この雰囲気の圧力を１０気圧以上３０気圧以下の範囲で増圧した状態に木材を保持し、この雰囲気から静水圧を受ける状態で処理すると共に、この木材を用いて自然楽器の素材とする。例文帳に追加

By a steam atmosphere of ≥60°C and ≤100°C, the lumber is held in a state wherein a pressure of the atmosphere is raised in a range of ≥10 atm and ≤30 atm, treated under a state of receiving a hydrostatic pressure from this atmosphere, and the lumber is used as a material for the natural musical instrument. - 特許庁

当該熱電対補償導線２２は、雰囲気温度２８℃、相対湿度９５％の空気雰囲気中２８５ｈ加湿試験後の、及び、３６０℃雰囲気中７ｈ加熱後の、５００Ｖ絶縁抵抗計による導線２２ａ／導線２２ｂ間の絶縁抵抗値として、それぞれ５０ＭΩ／ｍ以上を示す。例文帳に追加

A thermocouple compensation conductor 22 shows an insulation resistance value between conductors 22a and 22b of not smaller than 50 MΩ/m by a 500 V insulation-resistance tester after a moistening test for 285 h in an air ambience of an ambience temperature of 28°C and a relative humidity of 95% and after a heating for 7 h in a 360°C ambience. - 特許庁

Ａｌ_２Ｓ_３、ＢａＳ、ＥｕＳの各硫化物粉末を真空若しくは不活性ガス雰囲気中で調整し、得られた混合粉末を０.１Ｐａより良い真空雰囲気中において５０〜１５０℃で３０分以上保持した後、不活性ガス雰囲気中にて９００〜１１００℃の温度で焼結する。例文帳に追加

Each sulfide powder of Al_2S_3, BaS and EuS is prepared in vacuum or in an inert gas atmosphere, the obtained powdery mixture is held at 50 to 150°C for ≥30 minuites in an atmosphere at a vacuum better than 0.1 Pa, and is thereafter sintered at 900 to 1,100°C in an inert gas atmosphere. - 特許庁

合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第１温度で加熱する第１加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第１温度以上の第２温度で加熱する第２加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第２温度以下の第３温度で加熱する第３加熱工程と、を有する。例文帳に追加

There is provided a method including: a first heating process of heating a synthetic quartz glass at a first temperature in a hydrogen-containing atmosphere; a second heating process of heating the glass at a second temperature equal to or higher than the first one in a hydrogen-free atmosphere; and a third heating process of heating the glass at a third temperature equal to or lower than the second temperature in a hydrogen-containing atmosphere. - 特許庁

雰囲気１９が提供された後に、ＧａＮ系半導体領域１７の成長温度から基板温度を下げる。例文帳に追加

After providing the atmosphere 19, a substrate temperature is lowered from the growth temperature of the GaN based semiconductor region 17. - 特許庁

露点センサ８は、排気管５内で測定温度に冷却された後に塵埃を除去された雰囲気ガスの露点温度を測定する。例文帳に追加

The dew point sensor 8 measures the dew point temperature of the atmosphere gas with its dust removed after being cooled to the measurement temperature in the exhaust pipe 5. - 特許庁

温度センサ２で測定された雰囲気温度は、ＩＣチップ部２０及びアンテナ３により無線で送信される。例文帳に追加

The IC chip 20 and the antenna 3 transmit atmosphere temperature measured by the temperature sensor 2 by radio. - 特許庁

高圧・高温のガス雰囲気内の温度を計測する非接触ガス温度計測装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a noncontact gas temperature measuring device for measuring the temperature in a high pressure-high temperature gas atmosphere. - 特許庁

熱処理は、空気中 180〜 400℃の温度、または不活性雰囲気中 180〜1200℃の温度で１時間以上処理することが好ましい。例文帳に追加

The heat treatment is preferably performed in air for one hr or more at 180-400°C or performed in an inert atmosphere for one hr or more at 180-1,200°C. - 特許庁

光モジュールの密封容器内の雰囲気温度に左右されることなく半導体レーザの温度制御できる。例文帳に追加

To control the temperature of a semiconductor laser without depending on atmospheric temperature inside a sealed container of an optical module. - 特許庁

このため速やかに処理容器の温度が降温し、安定した温度雰囲気でプラズマ処理することができる。例文帳に追加

Since temperature of the processing vessel drops quickly, plasma processing is carried out in a stabilized temperature atmosphere. - 特許庁

放電制御温度Ｔ_１_＝Ｔ_０_ ＋ＱＡ （１）但し、前記Ｔ_０は雰囲気温度（℃）、Ｑは８（℃／Ｃ）で、Ａは放電レート（Ｃ）を表す。例文帳に追加

The discharge control temperature T_1 = T_0 + QA (1), where T_0 is an ambient temperature (°C), Q is 8 (°C/C), and A expresses a discharge rate (C). - 特許庁

雰囲気温度が急激に変化しても、計測ゲージの抵抗に生じる温度差を低減することのできるシート重量計測装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sheet weight measuring apparatus which reducing temperature difference produced between resistive elements of measuring gauges regardless of a rapid change of atmosphere temperature. - 特許庁

雰囲気温度に対するイオン導電ローラの昇温度合いにより、冷却ファンの回転数、回転時間を制御する。例文帳に追加

The revolving speed and time of the cooling fan is controlled based on the temperature rise situation of the ionic conductive roller versus the ambient temperature. - 特許庁

そして、前記雰囲気温度が設定温度よりも高い場合と低い場合とで、前記制御電流の変化度合いを異ならせる。例文帳に追加

Then, the degree of change in the control electric current is made different in the case when the atmosphere temperature is higher and lower than the set temperature. - 特許庁

大気圧以下の処理槽内蒸気雰囲気で、過熱温度を拾わないよう正確な飽和蒸気温度を測定し加熱処理を制御する。例文帳に追加

To control heat treatment by measuring an accurate saturated steam temperature, without taking the overheat temperature in a steam atmosphere in a treatment vessel below an atmospheric pressure. - 特許庁

雰囲気温度が急激に変化しても、計測ゲージの抵抗に生じる温度差を低減することのできるシート重量計測装置を提供する。例文帳に追加

To provide a seat weight measuring apparatus for reducing the temperature difference generated between resistors of a measuring gauge, even if the ambient temperature changes drastically. - 特許庁

ケミカルボックス３４は，温度調整用エア４１を循環流通させて，その内部雰囲気の温度を２３℃に調整する。例文帳に追加

Temperature adjusting air 41 is circulated through the chemical box 34 to adjusts the temperature of atmosphere inside it to 23°C. - 特許庁

加熱処理及び均熱処理における雰囲気温度は、オーバーヒート限界温度がＴｏ℃であるとき、（Ｔｏ−８５）℃以上（Ｔｏ−２０）℃以下である。例文帳に追加

An atmospheric temperature in the heating treatment and the soaking treatment, is (To-85)°C to (To-20)°C, in the case of using To°C for overheat limited temperature. - 特許庁

塗布開始前のコート剤の液温：２０〜３５℃ コート剤濃度（固形分濃度）：１０％以下 乾燥時の雰囲気温度：４８〜５８℃ 乾燥後のフィルム温度：４６〜５４℃例文帳に追加

After drying, the coated film is laterally oriented. - 特許庁

季節による雰囲気温度の違いに基づき、着座面発熱体の温度設定を適切に制御可能である。例文帳に追加

The temperature setting of the seat surface heating unit can be suitably controlled based on a difference in ambient temperature according to seasons. - 特許庁